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    掩模組件、制造掩模組件的方法和制造顯示設(shè)備的設(shè)備技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):44422957 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-02-28 18:38
    本公開涉及掩模組件、制造掩模組件的方法和用于制造顯示設(shè)備的設(shè)備。所述掩模組件包括:掩模框架,包括包含在第一方向上延伸的第一肋的多個(gè)肋,所述多個(gè)肋限定開口區(qū)域;以及掩模片,設(shè)置在所述第一肋的第一表面上并覆蓋所述開口區(qū)域,其中,所述掩??蚣苓€包括設(shè)置在所述第一肋的第二表面上并在所述第一肋的縱向方向上彼此間隔開的多個(gè)接收部分,所述第二表面與所述第一表面背對(duì)。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    實(shí)施例涉及掩模組件、制造掩模組件的方法和用于制造顯示設(shè)備的設(shè)備,并且更具體地,涉及具有改善的布置精度的掩模組件、制造掩模組件的方法和用于制造顯示設(shè)備的設(shè)備。


    技術(shù)介紹

    1、電子裝置正在被廣泛使用。電子裝置正在被不同地用于移動(dòng)電子裝置和固定電子裝置中。電子裝置包括可以向用戶提供諸如圖像或視頻的視覺信息以支持各種功能的顯示設(shè)備。

    2、通過(guò)沉積諸如有機(jī)層和金屬層等的各種層來(lái)形成視覺上顯示數(shù)據(jù)的顯示設(shè)備。沉積材料可以沉積為形成顯示設(shè)備的多個(gè)層。換句話說(shuō),沉積材料可以從沉積源噴射并且通過(guò)掩模組件沉積在基底上。在這種情況下,掩模組件包括掩??蚣芎脱谀F⑶铱梢栽谥糜谘谀E_(tái)上的同時(shí)制造。當(dāng)掩模片固定到掩模框架時(shí),重要的是按照設(shè)計(jì)將掩模片定位在掩??蚣苌?。為此,一將掩模片焊接到掩??蚣苤螅涂梢詮难谀E_(tái)噴射氣體以提升掩??蚣懿p小掩模臺(tái)和掩??蚣苤g的摩擦。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、實(shí)施例包括其中掩模片精確地設(shè)置在掩??蚣苤械难谀=M件、制造掩模組件的方法以及用于制造顯示設(shè)備的設(shè)備。

    2、本文中闡述的實(shí)施例是說(shuō)明性的,并且本公開的范圍不由此限制。

    3、附加的特征將部分地在隨后的說(shuō)明書中闡述,并且部分地從說(shuō)明書中將是明顯的,或者可以通過(guò)本公開呈現(xiàn)的實(shí)施例的實(shí)踐得知。

    4、在本公開的實(shí)施例中,一種掩模組件包括掩??蚣芎脱谀F?,所述掩模框架包括包含在第一方向上延伸的第一肋的多個(gè)肋和設(shè)置在所述第一肋的第一表面上并在所述第一肋的縱向方向上彼此間隔開的多個(gè)接收部分,所述多個(gè)肋限定開口區(qū)域,所述掩模片設(shè)置在所述掩??蚣艿乃龅谝焕叩牡诙砻嫔喜⒏采w所述開口區(qū)域,所述第二表面與所述第一表面背對(duì)。

    5、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分可以以奇數(shù)數(shù)量提供。

    6、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)可以在所述縱向方向上具有恒定的寬度。

    7、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分可以包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且其中,所述第一接收部分的寬度可以大于所述第二接收部分的寬度。

    8、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分可以包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且其中,所述第一接收部分的深度可以大于所述第二接收部分的深度。

    9、在實(shí)施例中,所述多個(gè)肋可以包括第二肋,所述第二肋在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸并具有比所述第一肋的長(zhǎng)度短的長(zhǎng)度,并且其中,在所述多個(gè)接收部分之中的設(shè)置在所述第二肋上的接收部分的深度可以大于在所述多個(gè)接收部分之中的設(shè)置在所述第一肋上的接收部分的深度。

    10、在實(shí)施例中,設(shè)置在所述第二肋上的所述接收部分的寬度可以大于設(shè)置在所述第一肋上的所述接收部分的寬度。

    11、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分的長(zhǎng)度之和與所述第一肋的長(zhǎng)度的比率可以為約0.8至約0.9。

    12、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)的底表面可以朝向所述第一肋的設(shè)置所述掩模片的所述第二表面凹陷地形成。

    13、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)的深度可以對(duì)應(yīng)于所述掩模框架的厚度的約3%至約10%。

    14、在本公開的實(shí)施例中,一種制造掩模組件的方法包括:在掩模臺(tái)上設(shè)置包括在第一方向上延伸的第一肋的掩??蚣?;將掩模片固定在所述掩??蚣苌希灰约皩怏w噴射到多個(gè)接收部分中,所述多個(gè)接收部分設(shè)置在所述第一肋的面對(duì)所述掩模臺(tái)的一個(gè)表面上以在所述第一肋的縱向方向上彼此間隔開。

    15、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分可以以奇數(shù)數(shù)量設(shè)置在所述第一肋上。

    16、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)可以在所述縱向方向上具有恒定的寬度。

    17、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分可以包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且其中,所述第一接收部分的寬度可以大于所述第二接收部分的寬度。

    18、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分可以包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且其中,所述第一接收部分的深度可以大于所述第二接收部分的深度。

    19、在實(shí)施例中,所述掩模框架還可以包括第二肋,所述第二肋在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸并具有比所述第一肋的長(zhǎng)度短的長(zhǎng)度,并且其中,在所述多個(gè)接收部分之中的設(shè)置在所述第二肋上的接收部分的深度可以大于所述多個(gè)接收部分之中的設(shè)置在所述第一肋上的接收部分的深度。

    20、在實(shí)施例中,設(shè)置在所述第二肋上的所述接收部分的寬度可以大于設(shè)置在所述第一肋上的所述接收部分的寬度。

    21、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分的長(zhǎng)度之和與所述第一肋的長(zhǎng)度的比率可以為約0.8至約0.9。

    22、在本公開的實(shí)施例中,一種用于制造顯示設(shè)備的設(shè)備包括:室;沉積源,容納在所述室中并面對(duì)顯示基底;和掩模組件,設(shè)置在所述顯示基底和所述沉積源之間,其中,所述掩模組件包括掩??蚣芎脱谀F鲅谀?蚣馨ò诘谝环较蛏涎由斓牡谝焕叩亩鄠€(gè)肋和設(shè)置在所述第一肋的第一表面上并在所述第一肋的縱向方向上彼此間隔開的多個(gè)接收部分,所述多個(gè)肋限定開口區(qū)域,所述掩模片設(shè)置在所述第一肋的第二表面上并覆蓋所述開口區(qū)域,所述第二表面與所述第一表面背對(duì)。

    23、在實(shí)施例中,所述多個(gè)接收部分可以以奇數(shù)數(shù)量提供。

    24、從以下附圖、權(quán)利要求和詳細(xì)描述中,除了上述特征和優(yōu)點(diǎn)之外的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將變得明顯,以實(shí)現(xiàn)下面的公開內(nèi)容。

    本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種掩模組件,其中,所述掩模組件包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分以奇數(shù)數(shù)量提供。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)在所述縱向方向上具有恒定的寬度。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)肋包括第二肋,所述第二肋在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸并且具有比所述第一肋的長(zhǎng)度短的長(zhǎng)度,并且

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模組件,其中,設(shè)置在所述第二肋上的所述接收部分的寬度大于設(shè)置在所述第一肋上的所述接收部分的寬度。

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分的長(zhǎng)度之和與所述第一肋的長(zhǎng)度的比率為0.8至0.9。

    9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)的底表面朝向所述第一肋的設(shè)置所述掩模片的所述第二表面凹陷地形成。

    10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)的深度對(duì)應(yīng)于所述掩??蚣艿暮穸鹊?%至10%。

    11.一種制造掩模組件的方法,其中,所述方法包括:

    12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,所述多個(gè)接收部分以奇數(shù)數(shù)量設(shè)置在所述第一肋上。

    13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)在所述縱向方向上具有恒定的寬度。

    14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,所述多個(gè)接收部分包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且

    15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,所述多個(gè)接收部分包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且

    16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,所述掩模框架還包括第二肋,所述第二肋在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸并具有比所述第一肋的長(zhǎng)度短的長(zhǎng)度,并且

    17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中,設(shè)置在所述第二肋上的所述接收部分的寬度大于設(shè)置在所述第一肋上的所述接收部分的寬度。

    18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,所述多個(gè)接收部分的長(zhǎng)度之和與所述第一肋的長(zhǎng)度的比率為0.8至0.9。

    19.一種用于制造顯示設(shè)備的設(shè)備,其中,所述設(shè)備包括:

    20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的設(shè)備,其中,所述多個(gè)接收部分以奇數(shù)數(shù)量提供。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種掩模組件,其中,所述掩模組件包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分以奇數(shù)數(shù)量提供。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)在所述縱向方向上具有恒定的寬度。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分包括:第一接收部分,設(shè)置在所述第一肋的中心處;和第二接收部分,設(shè)置在所述第一接收部分的在所述縱向方向上的相對(duì)端中的至少一個(gè)處,并且

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)肋包括第二肋,所述第二肋在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸并且具有比所述第一肋的長(zhǎng)度短的長(zhǎng)度,并且

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模組件,其中,設(shè)置在所述第二肋上的所述接收部分的寬度大于設(shè)置在所述第一肋上的所述接收部分的寬度。

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分的長(zhǎng)度之和與所述第一肋的長(zhǎng)度的比率為0.8至0.9。

    9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)的底表面朝向所述第一肋的設(shè)置所述掩模片的所述第二表面凹陷地形成。

    10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件,其中,所述多個(gè)接收部分中的每一個(gè)的深度...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:禹珉娥,李鐘大金宗范,樸鐘圣
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:三星顯示有限公司,
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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