【技術實現步驟摘要】
本技術涉及家用電器領域，尤其是涉及一種烹飪設備。
技術介紹
1、相關技術中，電磁爐的面板組件下方設置有高頻感應的線圈組件，面板組件上方適于放置鍋體。電磁爐的工作過程如下：高頻交流電經過線圈組件，線圈組件產生高頻交變磁場，其磁力線穿透面板組件而作用于鍋體，鍋體內因電磁感應而產生可用于烹飪的熱能。
2、線圈組件適于通過高頻交變磁場加熱鍋體，并且鍋體與線圈組件的距離越近，鍋體受到高頻交變磁場而產生熱能的部分越多，上述技術方案中，鍋體放置在面板組件上時，線圈組件與鍋體之間的距離較大，對鍋體的加熱效果有限。
技術實現思路
1、本技術旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本技術提出一種烹飪設備，減小了線圈組件與支撐面板之間的距離，進而減小了線圈組件與鍋體之間的距離，從而提高了對鍋體的加熱效果，并且散熱風機位于線圈組件下方，直接對線圈組件進行散熱，有效提高了烹飪設備的散熱效率。
2、根據本技術實施例的烹飪設備，包括：底座，所述底座設有第一通風孔；面板組件，所述面板組件支撐于所述底座；所述面板組件包括支撐面板和線圈組件，所述支撐面板設有底部開口的容納空間，所述線圈組件安裝至所述支撐面板且至少部分位于所述容納空間；散熱風機，所述散熱風機設于所述線圈組件的下方且位于所述底座內，所述散熱風機用于導引空氣流經所述容納空間。
3、根據本技術實施例的烹飪設備，線圈組件設置于支撐面板，減小了線圈組件與支撐面板的距離，進而減小了線圈組件與鍋體之間的距離，有效提高了烹飪
4、在一些實施例中，所述線圈組件包括線圈盤和線圈支架，所述線圈盤位于所述容納空間且放置于所述線圈支架，所述線圈支架設有與所述容納空間連通的鏤空區域，所述散熱風機用于導引空氣流經所述鏤空區域。
5、在一些實施例中，所述支撐面板設有朝上凸起的凸起部，所述凸起部的底部限定出所述容納空間。
6、在一些實施例中，所述線圈支架設有安裝部，所述安裝部位于所述容納空間的外側且用于固定至所述支撐面板。
7、在一些實施例中，所述鏤空區域的至少部分位于所述線圈盤的正下方。
8、在一些實施例中，還包括用于檢測鍋體溫度的測溫組件，所述測溫組件設于所述線圈支架。
9、在一些實施例中，所述鏤空區域包括第二通風孔，所述第二通風孔鄰近所述測溫組件設置。
10、在一些實施例中，所述線圈盤包括第一盤體和第二盤體，所述第二盤體環繞所述第一盤體設置，所述第一盤體和所述第二盤體間隔設置。
11、在一些實施例中，所述測溫組件包括第一測溫件，所述第一測溫件設于所述第一盤體和所述第二盤體之間。
12、在一些實施例中，所述測溫組件還包括第二測溫件，所述第一盤體環繞所述第二測溫件設置。
13、在一些實施例中，所述第一盤體和所述第二盤體均為密繞線圈。
14、在一些實施例中，所述散熱風機為多個，至少一個所述散熱風機位于所述線圈支架的正下方。
15、在一些實施例中，所述支撐面板的頂部設有第一接觸面和第二接觸面，所述第一接觸面沿水平方向延伸，所述第二接觸面朝下且朝向所述支撐面板的中部傾斜延伸。
16、在一些實施例中，所述支撐面板的頂部設有凸出其的支撐組件，所述支撐組件設有所述第一接觸面和第二接觸面。
17、在一些實施例中，所述支撐組件包括多個間隔設置的第一接觸件，每個所述第一接觸件設有所述第一接觸面和所述第二接觸面。
18、在一些實施例中，所述支撐面板設有多個朝上凸出的支撐凸臺，多個所述第一接觸件與多個所述支撐凸臺一一對應設置，每個所述第一接觸件放置于相應的所述支撐凸臺的頂壁。
19、在一些實施例中，所述支撐面板的一部分朝下傾斜凹入以限定出所述第二接觸面。
20、在一些實施例中，所述支撐面板的朝下凹入的部分限定出凹槽，所述凹槽的側壁由多個順序相連的所述第二接觸面限定出。
21、本技術的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本技術的實踐了解到。
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1.一種烹飪設備，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的烹飪設備，其特征在于，所述線圈組件包括線圈盤和線圈支架，所述線圈盤位于所述容納空間且放置于所述線圈支架，所述線圈支架設有與所述容納空間連通的鏤空區域，所述散熱風機用于導引空氣流經所述鏤空區域。
3.根據權利要求2所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐面板設有朝上凸起的凸起部，所述凸起部的底部限定出所述容納空間。
4.根據權利要求3所述的烹飪設備，其特征在于，所述線圈支架設有安裝部，所述安裝部位于所述容納空間的外側且用于固定至所述支撐面板。
5.根據權利要求2所述的烹飪設備，其特征在于，所述鏤空區域的至少部分位于所述線圈盤的正下方。
6.根據權利要求2所述的烹飪設備，其特征在于，還包括用于檢測鍋體溫度的測溫組件，所述測溫組件設于所述線圈支架。
7.根據權利要求6所述的烹飪設備，其特征在于，所述鏤空區域包括第二通風孔，所述第二通風孔鄰近所述測溫組件設置。
8.根據權利要求6所述的烹飪設備，其特征在于，所述線圈盤包括第一盤體和第二盤體，所述第二
9.根據權利要求8所述的烹飪設備，其特征在于，所述測溫組件包括第一測溫件，所述第一測溫件設于所述第一盤體和所述第二盤體之間。
10.根據權利要求8所述的烹飪設備，其特征在于，所述測溫組件還包括第二測溫件，所述第一盤體環繞所述第二測溫件設置。
11.根據權利要求8所述的烹飪設備，其特征在于，所述第一盤體和所述第二盤體均為密繞線圈。
12.根據權利要求1所述的烹飪設備，其特征在于，所述散熱風機為多個，至少一個所述散熱風機位于所述線圈組件的正下方。
13.根據權利要求1-12中任一項所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐面板的頂部設有第一接觸面和第二接觸面，所述第一接觸面沿水平方向延伸，所述第二接觸面朝下且朝向所述支撐面板的中部傾斜延伸。
14.根據權利要求13所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐面板的頂部設有凸出其的支撐組件，所述支撐組件設有所述第一接觸面和第二接觸面。
15.根據權利要求14所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐組件包括多個間隔設置的第一接觸件，每個所述第一接觸件設有所述第一接觸面和所述第二接觸面。
16.根據權利要求15所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐面板設有多個朝上凸出的支撐凸臺，多個所述第一接觸件與多個所述支撐凸臺一一對應設置，每個所述第一接觸件放置于相應的所述支撐凸臺的頂壁。
17.根據權利要求13所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐面板的一部分朝下傾斜凹入以限定出所述第二接觸面。
18.根據權利要求17所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐面板的朝下凹入的部分限定出凹槽，所述凹槽的側壁由多個順序相連的所述第二接觸面限定出。
...【技術特征摘要】
1.一種烹飪設備，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的烹飪設備，其特征在于，所述線圈組件包括線圈盤和線圈支架，所述線圈盤位于所述容納空間且放置于所述線圈支架，所述線圈支架設有與所述容納空間連通的鏤空區域，所述散熱風機用于導引空氣流經所述鏤空區域。
3.根據權利要求2所述的烹飪設備，其特征在于，所述支撐面板設有朝上凸起的凸起部，所述凸起部的底部限定出所述容納空間。
4.根據權利要求3所述的烹飪設備，其特征在于，所述線圈支架設有安裝部，所述安裝部位于所述容納空間的外側且用于固定至所述支撐面板。
5.根據權利要求2所述的烹飪設備，其特征在于，所述鏤空區域的至少部分位于所述線圈盤的正下方。
6.根據權利要求2所述的烹飪設備，其特征在于，還包括用于檢測鍋體溫度的測溫組件，所述測溫組件設于所述線圈支架。
7.根據權利要求6所述的烹飪設備，其特征在于，所述鏤空區域包括第二通風孔，所述第二通風孔鄰近所述測溫組件設置。
8.根據權利要求6所述的烹飪設備，其特征在于，所述線圈盤包括第一盤體和第二盤體，所述第二盤體環繞所述第一盤體設置，所述第一盤體和所述第二盤體間隔設置。
9.根據權利要求8所述的烹飪設備，其特征在于，所述測溫組件包括第一測溫件，所述第一測溫件設于所述第一盤體和所述第二盤體之間。
10.根據權利要求8所述的烹飪設備，其特征在于，所述測溫組件還包...
【專利技術屬性】
技術研發人員：梁耀海，易亮，吳金華，張翼飛，劉博文，蘇暢，劉化勇，陳華，張先文，
申請(專利權)人：佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司，
類型：新型
國別省市：
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