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    一種磁性復(fù)合材料及其制備方法與應(yīng)用技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):44434059 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-02-28 18:45
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種磁性復(fù)合材料及其制備方法與應(yīng)用,所述制備方法包括如下步驟:混合納米晶、FeNi合金粉末和粘結(jié)劑后,再進(jìn)行烘烤,得到所述磁性復(fù)合材料;所述納米晶的平均粒徑為10μm?50μm;所述FeNi合金粉末的平均粒徑為0.1μm?10μm。本發(fā)明專利技術(shù)通過選用不同粒徑的FeSiNbBCu納米晶和FeNi合金粉末,并合理搭配二者之間的粒徑尺寸,使小粒徑的FeNi合金粉末可以充分填充到FeSiNbBCu納米晶的顆粒孔隙中,從而可以降低磁性復(fù)合材料的孔隙率,提高其致密度,也能提高其磁性能。本發(fā)明專利技術(shù)提供的方法,工藝簡單,便于大規(guī)模生產(chǎn),且制備得到的磁性復(fù)合材料,磁導(dǎo)率高,高頻損耗低。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及磁性材料,涉及一種磁性材料及其制備方法與應(yīng)用,尤其涉及一種磁性復(fù)合材料及其制備方法與應(yīng)用


    技術(shù)介紹

    1、目前,隨著電子和電器工業(yè)的迅猛發(fā)展,磁性材料在高頻開關(guān)電源和高精度互感器中的應(yīng)用越來越廣泛,且隨著客戶需求的多樣性,對(duì)磁性材料的性能要求,也越來越細(xì)化。因此,開發(fā)一種具有高頻低損耗且磁導(dǎo)率高的磁性材料,是磁性材料
    所要重點(diǎn)解決的問題。

    2、鐵基納米晶材料因其具有高頻低損耗、高磁感應(yīng)強(qiáng)度等特性,成為高頻開關(guān)電源和高精度互感器中的關(guān)鍵材料,可廣泛應(yīng)用于無線充電設(shè)備、變壓器、高頻逆變技術(shù)、高精度互感器等。但是僅以鐵基納米晶材料為原料,制備得到的磁性材料,孔隙率較高,進(jìn)而影響磁性材料的磁導(dǎo)率。

    3、feni合金材料具有優(yōu)異的磁性能,且耐腐蝕性優(yōu)異,與鐵基納米晶材料復(fù)合,可以提高鐵基納米晶材料的致密度,進(jìn)而可以提高磁性材料的磁導(dǎo)率。cn107240471a公開了一種高飽和磁感應(yīng)強(qiáng)度的復(fù)合磁粉、磁芯及其制備方法,通過兩種粉末的混合得到復(fù)合磁粉,再加入一定的添加劑,經(jīng)過壓制退火即可得到本專利技術(shù)所述的磁芯。但是該專利技術(shù)中,兩種磁粉的粒徑尺寸相同,制備得到的磁芯,其致密度較低。

    4、因此,如何實(shí)現(xiàn)提高磁性復(fù)合材料的致密度進(jìn)而提高其磁導(dǎo)率,已成為目前亟待解決的問題。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、為解決上述技術(shù)問題,本專利技術(shù)提供一種磁性復(fù)合材料及其制備方法與應(yīng)用,本專利技術(shù)通過選用不同粒徑的fesinbbcu納米晶和feni合金粉末,并合理搭配二者之間的粒徑尺寸,使小粒徑的feni合金粉末可以充分填充到fesinbbcu納米晶的顆粒孔隙中,從而可以降低磁性復(fù)合材料的孔隙率,提高其致密度,也能提高其磁性能。本專利技術(shù)提供的方法,工藝簡單,便于大規(guī)模生產(chǎn),且制備得到的磁性復(fù)合材料,在保持高磁導(dǎo)率的條件下,也能降低高頻損耗。

    2、為達(dá)此目的,本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案:

    3、第一方面,本專利技術(shù)提供了一種磁性復(fù)合材料的制備方法,所述制備方法包括如下步驟:混合fesinbbcu納米晶、feni合金粉末和粘結(jié)劑后,再進(jìn)行烘烤,得到所述磁性復(fù)合材料;所述fesinbbcu納米晶的平均粒徑為10μm-50μm;所述feni合金粉末的平均粒徑為0.1μm-10μm。

    4、本專利技術(shù)通過選用不同粒徑的fesinbbcu納米晶和feni合金粉末,并合理搭配二者之間的粒徑尺寸,使小粒徑的feni合金粉末可以充分填充到fesinbbcu納米晶的顆粒孔隙中,從而可以降低磁性復(fù)合材料的孔隙率,提高其致密度,也能提高其磁性能。本專利技術(shù)提供的方法,工藝簡單,便于大規(guī)模生產(chǎn),且制備得到的磁性復(fù)合材料,在保持高磁導(dǎo)率的條件下,也能降低高頻損耗。

    5、具體地,所述fesinbbcu納米晶的平均粒徑可以是10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm或50μm,所述feni合金粉末的平均粒徑可以是0.1μm、0.5μm、1μm、3μm、5μm、8μm或10μm,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    6、優(yōu)選地,所述fesinbbcu納米晶的化學(xué)式為feasibnbcbdcue,5≤b≤20,5≤c≤20,0.5≤d≤15,0.5≤e≤15,且滿足a+b+c+d+e=100;其中,b可以是5、8、10、15或20,c可以是5、8、10、15或20,d可以是0.5、3、8、10、12或15,e可以是0.5、3、8、10、12或15,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    7、優(yōu)選地,所述feni合金粉末中,鐵和鎳的質(zhì)量比為1:(0.8-1.2),例如可以是1:0.8、1:0.9、1:1、1:1.1或1:1.2,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    8、優(yōu)選地,所述粘結(jié)劑包括第一粘結(jié)劑、第二粘結(jié)劑、第三粘結(jié)劑和第四粘結(jié)劑的組合,所述第一粘結(jié)劑包括聚乙烯醇縮丁醛酯,所述第二粘結(jié)劑包括al2[(oh)4/si2o5],所述第三粘結(jié)劑包括環(huán)氧樹脂,所述第四粘結(jié)劑包括十二烷基三甲基硅烷。

    9、本專利技術(shù)所述粘結(jié)劑包括聚乙烯醇縮丁醛酯、al2[(oh)4/si2o5]、環(huán)氧樹脂和十二烷基三甲基硅烷的組合,通過將粘結(jié)劑環(huán)氧樹脂和偶聯(lián)劑十二烷基三甲基硅烷耦合,并加入聚乙烯醇縮丁醛酯和al2[(oh)4/si2o5],加強(qiáng)粘結(jié)劑和偶聯(lián)劑的配合。本專利技術(shù)采用特定的粘結(jié)劑,不僅可以提高粘結(jié)劑的粘結(jié)效果,提高磁體的致密度,降低高頻損耗,還可以簡化工藝步驟,降低生產(chǎn)成本。

    10、優(yōu)選地,所述粘結(jié)劑的制備方法包括如下步驟:將聚乙烯醇縮丁醛酯、al2[(oh)4/si2o5]、環(huán)氧樹脂和十二烷基三甲基硅烷按比例溶解于有機(jī)溶劑中,攪拌直至有機(jī)溶劑完全揮發(fā),得到混合料;將所述混合料進(jìn)行篩分,得到所述粘結(jié)劑。

    11、優(yōu)選地,所述有機(jī)溶劑包括乙醇和/或丙酮。

    12、優(yōu)選地,所述篩分的篩網(wǎng)目數(shù)為60目-100目,例如可以是60目、70目、80目、90目或100目,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    13、優(yōu)選地,所述第一粘結(jié)劑、第二粘結(jié)劑、第三粘結(jié)劑和第四粘結(jié)劑的質(zhì)量比(1-2):(1-2):(2-3):(1-2),例如可以是1:1:2:1、1:1:3:1、1:1:2:2、1:2:2:1、2:2:2:1或2:2:3:2,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    14、優(yōu)選地,所述fesinbbcu納米晶和feni合金粉末的質(zhì)量比為1:(0.5-2),例如可以是1:0.5、1:1、1:1.5、1:1.8或1:2,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    15、本專利技術(shù)通過調(diào)控fesinbbcu納米晶和feni合金粉末的質(zhì)量比,調(diào)控小粒徑feni合金粉末填充到大粒徑fesinbbcu納米晶顆粒孔隙的比例,進(jìn)一步提高所述磁性復(fù)合材料的致密度,可以優(yōu)化結(jié)構(gòu)和尺寸,致密的結(jié)構(gòu)使晶粒均勻分布,減少了空隙和缺陷,進(jìn)而提高磁導(dǎo)率,降低遲滯損耗。

    16、優(yōu)選地,所述fesinbbcu納米晶和feni合金粉末的質(zhì)量添加量之和為m1,所述粘結(jié)劑的質(zhì)量添加量為m2,所述m2為所述m1的1%-2%,例如可以是1%、1.2%、1.4%、1.6%、1.8%或2%,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    17、優(yōu)選地,所述混合前,fesinbbcu納米晶還進(jìn)行退火處理。

    18、優(yōu)選地,所述退火處理的保溫溫度為550℃-650℃,例如可以是550℃、570℃、590℃、600℃、620℃或650℃,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    19、優(yōu)選地,所述退火處理的保溫時(shí)間為1h-5h,例如可以是1h、1.5h、2h、2.5h、3h、3.5h、4h、4.5h或5h,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    <本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種磁性復(fù)合材料的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述FeSiNbBCu納米晶的化學(xué)式為FeaSibNbcBdCue,其中,5≤b≤20,5≤c≤20,0.5≤d≤15,0.5≤e≤15,且滿足a+b+c+d+e=100;

    3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,所述粘結(jié)劑包括第一粘結(jié)劑、第二粘結(jié)劑、第三粘結(jié)劑和第四粘結(jié)劑的組合;

    4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述FeSiNbBCu納米晶和FeNi合金粉末的質(zhì)量比為1:(0.5-2);

    5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述混合前,F(xiàn)eSiNbBCu納米晶還進(jìn)行退火處理;

    6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述混合的方法包括球磨;

    7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述烘烤的保溫溫度為150℃-300℃;

    8.一種磁性復(fù)合材料,其特征在于,所述磁性復(fù)合材料采用權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的制備方法制備得到。

    9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁性復(fù)合材料,其特征在于,所述磁性復(fù)合材料在100kHz/1V條件下的磁導(dǎo)率≥40H/m;

    10.一種如權(quán)利要求8或9所述的磁性復(fù)合材料的應(yīng)用,其特征在于,所述磁性復(fù)合材料應(yīng)用于航空航天、通信或新能源。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種磁性復(fù)合材料的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述fesinbbcu納米晶的化學(xué)式為feasibnbcbdcue,其中,5≤b≤20,5≤c≤20,0.5≤d≤15,0.5≤e≤15,且滿足a+b+c+d+e=100;

    3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,所述粘結(jié)劑包括第一粘結(jié)劑、第二粘結(jié)劑、第三粘結(jié)劑和第四粘結(jié)劑的組合;

    4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述fesinbbcu納米晶和feni合金粉末的質(zhì)量比為1:(0.5-2);

    5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的制備方法...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:朱航飛蔡嶺文王雷杰單震
    申請(專利權(quán))人:橫店集團(tuán)東磁股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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