【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體檢測，具體涉及一種多探頭測量裝置及其測量方法。
技術介紹
1、四探針測量儀是測量半導體材料電阻率以及方塊電阻的專用儀器，用于測量棒狀、塊狀半導體材料(包括厚片和薄片)的電阻率以及硅片上的擴散層、離子注入層、反新外延層的方塊電阻。儀器具有測量精度高、靈敏度高、穩定性好，測量范圍廣，結構緊湊的特點，并且測量結果由數字直接顯示，使用方便。
2、但是由于不同測量對象表面性質不同，需要匹配不同類型的探頭，如襯底測量專用探頭，用于測量金屬的探頭，用于高阻抗表面(如低注入劑量、淺結、摻雜多晶硅)的探頭，以及用于離子注入、摻雜多晶硅、硅化物、外延和擴散的通用探頭等。
3、由于1個四探針測量儀在使用時只搭配一種類型的探頭，在測量不同測量對象時需要更換不同的四探針測量儀或者更換探頭，影響工作效率。
4、因此，如果提高測量儀的通用性，提高測量儀的工作效率，是本領域技術人員關注的焦點。
技術實現思路
1、本專利技術的目的是提出一種多探頭測量裝置及其測量方法，能夠提高測量裝置的通用性，提高測量效率。
2、為了實現上述目的，本專利技術提供了一種多探頭測量裝置，包括：
3、多種類型的探頭，每種類型的探頭均包括4個探針；
4、多個測量電路，每個所述測量電路連接一種類型的探頭；
5、所述測量電路利用相應的所述探針來對測量對象進行測量，所述測量電路經配置以：
6、選擇兩個所述探針作為電流載運引腳注入電流
7、處理模塊，根據所述電流和所述電壓計算出所述測量對象的參數。
8、可選方案中，每種類型的所述探頭的所述4個探針排列為一條直線。
9、可選方案中，所述探頭的相鄰的所述探針之間的間距相同。
10、可選方案中，所述測量對象的類型包括：襯底片、外延片、金屬片、擴散片、離子注入片或吸雜片；所述多種類型的探頭分別用于測量不同類型的所述測量對象。
11、本專利技術還提供了一種多探頭測量裝置的測量方法，基于上述的多探頭測量裝置，所述方法包括：
12、根據測量對象的類型，選擇出相應類型的探頭；
13、基于選擇出來的所述探頭，建立所述探頭的探針與測量對象之間的電接觸；
14、選擇兩個探針作為電流載運引腳注入電流，另外兩個探針作為電壓計量引腳測量電壓；
15、通過處理模塊獲得所述測量對象的參數。
16、本專利技術還提供了另一種多探頭測量裝置，包括：
17、多種類型的探頭，每種類型的探頭包括至少5個探針；
18、多個測量電路，每個所述測量電路連接一種類型的所述探頭；
19、所述測量電路利用相應的所述探針來對測量對象進行測量，所述測量電路經配置以：
20、選擇兩個所述探針作為電流載運引腳注入電流，選擇剩余多個所述探針同時作為電壓計量引腳同時測量多個電壓；
21、處理模塊，基于所述多個電壓獲得電壓分布曲線，根據所述電流和所述電壓分布曲線計算出所述測量對象的參數。
22、可選方案中，每種類型的所述探頭的所述探針排列為一條直線。
23、可選方案中，所述探頭的相鄰的所述探針之間的間距相同或者不同。
24、可選方案中，所有的所述探頭的探針排列為一條直線或者多條平行的直線或或呈“米”字型排列。
25、本專利技術還提供了另一種多探頭測量裝置的測量方法，基于上述的多探頭測量裝置，所述方法包括：
26、根據測量對象的類型，選擇出相應類型的探頭；
27、基于選擇出來的所述探頭，建立所述探頭的探針與測量對象之間的電接觸；
28、選擇兩個探針作為電流載運引腳注入電流，選擇剩余多個探針同時作為電壓計量引腳同時測量多個電壓；
29、通過處理模塊獲得所述測量對象的參數。
30、本專利技術的有益效果在于：
31、本專利技術將多種類型的探頭集成在一個測量裝置中，根據測量對象的不同，選擇適合類型的探頭和測量電路，得到測量對象的參數，提高了測量裝置的通用性，提高測量效率；
32、進一步地，探頭的探針可以是4個，經過多次測量，利用常規的方式得到測量對象的參數。探頭的探針可以是5個以上，這樣可同時獲得多個電壓，提高測量準確性，并能夠節省測量時間。
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1.一種多探頭測量裝置，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的多探頭測量裝置，其特征在于，每種類型的所述探頭的所述4個探針排列為一條直線。
3.如權利要求2所述的多探頭測量裝置，其特征在于，所述探頭的相鄰的所述探針之間的間距相同。
4.如權利要求1所述的多探頭測量裝置，其特征在于，所述測量對象的類型包括：襯底片、外延片、金屬片、擴散片、離子注入片或吸雜片；所述多種類型的探頭分別用于測量不同類型的所述測量對象。
5.一種多探頭測量裝置，其特征在于，包括：
6.如權利要求5所述的多探頭測量裝置，其特征在于，每種類型的所述探頭的所述探針排列為一條直線。
7.如權利要求6所述的多探頭測量裝置，其特征在于，所述探頭的相鄰的所述探針之間的間距相同或者不同。
8.如權利要求6所述的多探頭測量裝置，其特征在于，所有的所述探頭的探針排列為一條直線或者多條平行的直線或或呈“米”字型排列。
9.一種多探頭測量裝置的測量方法，其特征在于，基于權利要求1至4任一項所述的多探頭測量裝置，所述方法包括：
...【技術特征摘要】
1.一種多探頭測量裝置，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的多探頭測量裝置，其特征在于，每種類型的所述探頭的所述4個探針排列為一條直線。
3.如權利要求2所述的多探頭測量裝置，其特征在于，所述探頭的相鄰的所述探針之間的間距相同。
4.如權利要求1所述的多探頭測量裝置，其特征在于，所述測量對象的類型包括：襯底片、外延片、金屬片、擴散片、離子注入片或吸雜片；所述多種類型的探頭分別用于測量不同類型的所述測量對象。
5.一種多探頭測量裝置，其特征在于，包括：
6.如權利要求5所述的多探頭測量...
【專利技術屬性】
技術研發人員：施朱斌，劉相華，
申請(專利權)人：麥嶠里上海半導體科技有限責任公司，
類型：發明
國別省市：
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