【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及電致變色材料，具體而言，涉及一種陽極材料在提高氧化還原電位中的應用、電致變色器件。
技術介紹
1、現有的有機小分子技術的電致變色鏡產品，由于使用的陽極電致變色材料的氧化還原電位較低，陽極材料與4,4'-聯吡啶陰極材料制備的電致變色溶液的電勢差絕對值(φ陽極-φ陽極)較小，對由現有陰陽極材料制備的電致變色器件施加一個小于1.0v的電壓就能使器件著色，低氧化還原電位帶來器件初始最大透過率低、外觀初始顏色深、褪色響應時間長的問題，應用場景受限，難以滿足由其制備所得的電致變色器件與波導鏡頭模組貼合后對外觀顏色和應用性能的需求。
2、鑒于此，特提出本專利技術。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于提供一種陽極材料在提高氧化還原電位中的應用、電致變色器件，以解決或改善上述技術問題。
2、本專利技術可這樣實現：
3、第一方面，本專利技術提供一種陽極材料在提高氧化還原電位中的應用，該陽極材料的通式為：
4、
5、其中，r5和r10獨立地選自任何吸電子基團；r11和r112獨立地選自h或任何吸電子基團；r1、r2、r3、r4、r6、r7、r8和r9均獨立地選自h、f、cl、br、i、cn、no2、烷基或烷氧基。
6、在可選的實施方式中，r5和r10獨立地選自苯基。
7、在可選的實施方式中，r11和r12獨立地選自三鹵甲基或氰基。
8、在可選的實施方式中，r5和r10均為苯基，r1、r2、r
9、該陽極材料的結構式為：
10、
11、在可選的實施方式中，上述陽極材料的制備包括：將5,10-二甲基-5,10-二氫吩嗪與溴苯、naotbu、hptbu3bf4、pd2(dba)3chcl3進行真空干燥，隨后在保護氣氛下加入干甲苯，加熱并反應；反應結束后加水淬滅，得到反應混合物；將反應混合物洗滌后，以dcm/石油為洗脫液進行層析，得到陽極材料。
12、在可選的實施方式中，r5和r10均為苯基，r11和r12均為三鹵甲基，r1、r2、r3、r4、r6、r7、r8和r9均為h。
13、在可選的實施方式中，陽極材料的結構式為：
14、
15、在可選的實施方式中，上述陽極材料的制備方法包括：將5,10-二甲基-5,10-二氫吩嗪與溴苯、naotbu、hptbu3bf4、pd2(dba)3chcl3進行真空干燥，隨后在保護氣氛下加入三氟甲基苯，加熱并反應；反應結束后加水淬滅，得到反應混合物；將反應混合物洗滌后，以dcm/石油為洗脫液進行層析，得到陽極材料。
16、在可選的實施方式中，r5和r10均為苯基，r11和r12均為氰基，r1、r2、r3、r4、r6、r7、r8和r9均為h；
17、該陽極材料的結構式為：
18、
19、在可選的實施方式中，上述陽極材料的制備包括：將5,10-二甲基-5,10-二氫吩嗪與溴苯、naotbu、hptbu3bf4、pd2(dba)3chcl3進行真空干燥，隨后在保護氣氛下加入苯甲腈，加熱并反應；反應結束后加水淬滅，得到反應混合物；將反應混合物洗滌后，以dcm/石油為洗脫液進行層析，得到陽極材料。
20、在可選的實施方式中，上述5,10-二甲基-5,10-二氫吩嗪的制備包括：將吩嗪和連二亞硫酸鈉在乙醇與水的混合溶液中進行回流反應，冷卻。
21、第二方面，本專利技術提供一種電致變色器件，該電致變色器件中包括陽極電致變色材料以及陰極電致變色材料，其中，陽極電致變色材料包括前述實施方式任一項的應用中的陽極材料，陰極電致變色材料包括4,4'-聯吡啶。
22、在可選的實施方式中，陽極材料與4,4'-聯吡啶的摩爾比為30:(24～26)。
23、本專利技術的有益效果包括：
24、本專利技術通過對二甲基吩嗪陽極變色材料的n原子上引入吸電子基團進行修飾改性。改性后的陽極電致變色材料由于得電子能力減弱，失電子能力增強。加電時，二甲基吩嗪或吩噻嗪類材料從0價變成+1價的過程難度增加，而斷電時，從+1價變成0價，得到電子的過程變得更加容易，提高了其氧化還原電位，即氧化還原電位較改性前具有更大的正值，從而使由改性后的陽極材料和陰極材料(如4,4'-聯吡啶)制備的電致變色溶液的電勢差(φ陽極-φ陽極)絕對值增加，從而提高了用此材料制備的電致變色器件的初始最大透過率，降低了器件的初始外觀顏色，縮短了電致變色器件的響應時間。用改性后的上述材料制備的電致變色器件能夠滿足與波導鏡頭模組貼合后對外觀和應用性能的需求。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種陽極材料在提高氧化還原電位中的應用，其特征在于，所述陽極材料的通式為：
2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，R5和R10獨立地選自苯基。
3.根據權利要求1或2所述的應用，其特征在于，R11和R12獨立地選自三鹵甲基或氰基。
4.根據權利要求2所述的應用，其特征在于，R5和R10均為苯基，R1、R2、R3、R4、R6、R7、R8、R9、R11和R12均為H；
5.根據權利要求4所述的應用，其特征在于，所述陽極材料的制備包括：將5,10-二甲基-5,10-二氫吩嗪與溴苯、NaOtBu、HPtBu3BF4、Pd2(dba)3CHCl3進行真空干燥，隨后在保護氣氛下加入干甲苯，加熱并反應；反應結束后加水淬滅，得到反應混合物；將所述反應混合物洗滌后，以DCM/石油為洗脫液進行層析，得到所述陽極材料；
6.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，R5和R10均為苯基，R11和R12均為三鹵甲基，R1、R2、R3、R4、R6、R7、R8和R9均為H；
7.根據權利要求6所述的應用，其特征在于，結構式為
...【技術特征摘要】
1.一種陽極材料在提高氧化還原電位中的應用，其特征在于，所述陽極材料的通式為：
2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，r5和r10獨立地選自苯基。
3.根據權利要求1或2所述的應用，其特征在于，r11和r12獨立地選自三鹵甲基或氰基。
4.根據權利要求2所述的應用，其特征在于，r5和r10均為苯基，r1、r2、r3、r4、r6、r7、r8、r9、r11和r12均為h；
5.根據權利要求4所述的應用，其特征在于，所述陽極材料的制備包括：將5,10-二甲基-5,10-二氫吩嗪與溴苯、naotbu、hptbu3bf4、pd2(dba)3chcl3進行真空干燥，隨后在保護氣氛下加入干甲苯，加熱并反應；反應結束后加水淬滅，得到反應混合物；將所述反應混合物洗滌后，以dcm/石油為洗脫液進行層析，得到所述陽極材料；
6.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，r5和r10均為苯基，r11和r12均為三...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：李坤，王舒婷，鄧子健，楊文華，吳旭東，云娟娟，
申請(專利權)人：寧波華瓴光學技術有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
還沒有人留言評論。發(fā)表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。