【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體尾氣處理領域，尤其涉及一種半導體尾氣處理設備用進氣組件。
技術介紹
1、半導體尾氣處理是指在半導體制造過程中，對產生的含有有害化學物質的廢氣進行凈化處理，以達到環保標準并保護生產環境和員工健康的一系列技術措施。半導體制造業因其獨特的生產工藝，會產生大量含有有機物、酸性氣體、堿性氣體、有毒有害氣體(如揮發性有機化合物vocs、氨氣等)的尾氣。這些尾氣若未經處理直接排放，會對環境造成嚴重污染，影響空氣質量，甚至對人類健康構成威脅。因此，高效、可靠的尾氣處理系統是半導體產業不可或缺的一部分。
2、但是現有技術中，半導體尾氣進氣時氣流不均勻，會導致處理效率下降；此外，氣流不均勻還可能引起系統內部壓力波動，增加設備運行的不穩定性和安全隱患。
3、因此，現有技術亟待解決。
技術實現思路
1、本技術的目的旨在針對現有技術的不足，提供一種半導體尾氣處理設備用進氣組件。基于上述問題，本技術提出的一種半導體尾氣處理設備用進氣組件，將尾氣氣流分散，也增加了尾氣氣流的入口面積，確保氣流均勻分布。
2、本技術的技術方案是這樣實現的：
3、一種半導體尾氣處理設備用進氣組件，包括進氣口、進氣管、主板、主板擋板和出氣口，所述進氣管包括一段進氣管、二段進氣管、三段進氣管；所述一段進氣管、二段進氣管和三段進氣管依次連接，所述進氣口設置于一段進氣管上，所述出氣口設置于三段進氣管上，所述三段進氣管與主板固定連接，所述主板擋板與主板固定連接，所述主板擋板正對出
4、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述一段進氣管上設置有壓力傳感器口。
5、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述二段進氣管上設置有冷卻水口，所述冷卻水口連通冷卻腔，所述冷卻腔為一段進氣管的第一壁與二段進氣管的第二壁圍合而成。
6、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述三段進氣管包括第三外壁和第三內壁，所述第三外壁和第三內壁具有間隙形成循環腔，所述第三外壁的下方設置有循環水入口，所述循環水入口連通循環腔，所述循環腔的上端設置有循環水出口，所述循環腔通過循環水出口連通出氣口。
7、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述第三內壁的上方為圓錐形。
8、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述主板擋板為圓形，所述主板擋板的直徑大于出氣口的直徑。
9、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述主板擋板與主板之間的間隙為出氣口直徑的1/4～1/2。
10、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述主板擋板通過固定套管與主板固定連接。
11、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述三段進氣管的下方設置有壓板，所述三段進氣管通過壓板與主板固定連接；所述二段進氣管和三段進氣管通過法蘭連接。
12、如上所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述出氣口的直徑大于進氣口的直徑。
13、與現有技術相比，本技術具有以下優點和有益效果：
14、1、本技術提供的一種半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述主板擋板與主板固定連接，所述主板擋板正對出氣口且與主板具有一定間隙，半導體尾氣從進氣口進入，依次經過一段進氣管、二段進氣管、三段進氣管，從出氣口進入半導體尾氣處理設備內部，在主板擋板的阻擋下，尾氣氣流分散，如此增加了尾氣氣流的入口面積，確保氣流均勻分布，維持了尾氣處理系統的穩定性，消除了安全隱患。
15、2、本技術提供的一種半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述二段進氣管上設置有冷卻水口，所述冷卻水口連通冷卻腔，所述冷卻腔為一段進氣管的第一壁與二段進氣管的第二壁圍合而成，冷卻腔內的冷卻水，有效降低了進氣溫度。
16、3、本技術提供的一種半導體尾氣處理設備用進氣組件，所述循環水入口連通循環腔，所述循環腔的上端設置有循環水出口，所述循環腔通過循環水出口連通出氣口，循環水通過循環水入口進入循環腔，降低了尾氣中的熱量，降低其溫度，此外，循環水的存在也能水洗去除尾氣中的一些可溶性污染氣體，從而減輕后續尾氣處理的負擔。
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1.一種半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，包括進氣口（1）、進氣管、主板（6）、主板擋板（7）和出氣口（9），所述進氣管包括一段進氣管（2）、二段進氣管（3）、三段進氣管（4）；所述一段進氣管（2）、二段進氣管（3）和三段進氣管（4）依次連接，所述進氣口（1）設置于一段進氣管（2）上，所述出氣口（9）設置于三段進氣管（4）上，所述三段進氣管（4）與主板（6）固定連接，所述主板擋板（7）與主板（6）固定連接，所述主板擋板（7）正對出氣口（9）且與主板（6）具有一定間隙。
2.根據權利要求1所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述一段進氣管（2）上設置有壓力傳感器口（202）。
3.根據權利要求2所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述二段進氣管（3）上設置有冷卻水口（302），所述冷卻水口（302）連通冷卻腔（303），所述冷卻腔（303）為一段進氣管（2）的第一壁（201）與二段進氣管（3）的第二壁（301）圍合而成。
4.根據權利要求3所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述三段進氣管（4）包括第三
5.根據權利要求4所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述第三內壁（402）的上方為圓錐形。
6.根據權利要求5所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述主板擋板（7）為圓形，所述主板擋板（7）的直徑大于出氣口（9）的直徑。
7.根據權利要求6所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述主板擋板（7）與主板（6）之間的間隙為出氣口（9）直徑的1/4～1/2。
8.根據權利要求7所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述主板擋板（7）通過固定套管（8）與主板（6）固定連接。
9.根據權利要求1所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述三段進氣管（4）的下方設置有壓板（5），所述三段進氣管（4）通過壓板（5）與主板（6）固定連接；所述二段進氣管（3）和三段進氣管（4）通過法蘭連接。
10.根據權利要求9所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述出氣口（9）的直徑大于進氣口（1）的直徑。
...【技術特征摘要】
1.一種半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，包括進氣口（1）、進氣管、主板（6）、主板擋板（7）和出氣口（9），所述進氣管包括一段進氣管（2）、二段進氣管（3）、三段進氣管（4）；所述一段進氣管（2）、二段進氣管（3）和三段進氣管（4）依次連接，所述進氣口（1）設置于一段進氣管（2）上，所述出氣口（9）設置于三段進氣管（4）上，所述三段進氣管（4）與主板（6）固定連接，所述主板擋板（7）與主板（6）固定連接，所述主板擋板（7）正對出氣口（9）且與主板（6）具有一定間隙。
2.根據權利要求1所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述一段進氣管（2）上設置有壓力傳感器口（202）。
3.根據權利要求2所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述二段進氣管（3）上設置有冷卻水口（302），所述冷卻水口（302）連通冷卻腔（303），所述冷卻腔（303）為一段進氣管（2）的第一壁（201）與二段進氣管（3）的第二壁（301）圍合而成。
4.根據權利要求3所述的半導體尾氣處理設備用進氣組件，其特征在于，所述三段進氣管（4）包括第三外壁（401）和第三內壁（402），所述第三外壁（401）和第三內壁（402）具有間隙形成循環腔（405），所述第三外壁（401）...
【專利技術屬性】
技術研發人員：崔漢寬，陳剛，
申請(專利權)人：上海高笙集成電路設備有限公司，
類型：新型
國別省市：
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