【技術實現步驟摘要】
本技術屬于清洗設備，具體為一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備。
技術介紹
1、掩模版(photomask)又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是集成電路制造過程中的圖形轉移工具或者母板，也就是半導體芯片的母板，承載著圖形信息和工藝技術信息。掩模版的作用是將承載的電路圖形通過曝光的方式轉移到硅晶圓等基體材料上，從而實現集成電路的批量化生產。掩模版廣泛應用于半導體、平板顯示、電路板、觸控屏等領域。
2、使用掩模版來制備半導體芯片時一般需要將蝕刻液涂覆在掩模版上，掩模版后如果不及時的對蝕刻液進行清洗會對掩模版造成一定的損壞，一旦蝕刻液凝固也會影響后續使用。目前對涂覆有蝕刻液的掩模版進行清洗時，一般是直接對掩模版進行沖洗，采用直接沖洗的方式會導致掩模版的部位邊角處沖洗不干凈。
3、為此，我們提出一種高精密金屬掩模版清洗裝置。
技術實現思路
1、針對現有技術的不足，本公開的目的在于提供一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備。
2、本公開的目的可以通過以下技術方案實現：
3、一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，包括：
4、底座，所述底座內側放置有浸泡箱和廢水收集箱；
5、所述底座上端部固定安裝有第一支撐桿和第二支撐桿，所述第一支撐桿、第二支撐桿之間安裝有移動組件，所述移動組件上安裝有液壓伸縮桿，所述液壓伸縮桿下端部安裝有放置架，所述放置架上放置有掩模版；
6、第一螺紋桿、第二螺紋桿，所述第一螺紋桿、第二
7、第一移動塊，所述第一移動塊為兩個，分別安裝在第一螺紋桿、第二螺紋桿側端，且第一移動塊與第一螺紋桿、第二螺紋桿均為螺紋連接，每個所述第一移動塊下端部均固定安裝有噴水頭，所述噴水頭上端部密封連接有水管。
8、進一步地，所述移動組件包括第三螺紋桿、滑桿、第二移動塊、第三移動塊、連接桿以及第二驅動電機，所述第三螺紋桿安裝在第一支撐桿內部的容納腔內，所述第二驅動電機固定安裝在第一支撐桿的側端，且第二驅動電機的輸出軸與第三螺紋桿一端固定連接，所述第二移動塊安裝在第三螺紋桿側端，且第二移動塊與第三螺紋桿螺紋連接；所述滑桿安裝在第二支撐桿的容納腔內，所述第三移動塊安裝在滑桿的側端，且第三移動塊能夠在滑桿側端自由滑動，所述連接桿安裝在第二移動塊和第三移動塊之間，且連接桿的兩端分別與第二移動塊、第三移動塊固定連接；所述液壓伸縮桿固定安裝在連接桿上。
9、進一步地，所述放置架的兩側端均安裝有夾持組件，所述夾持組件包括夾持板和螺釘，所述夾持板靠近螺釘的一端固定安裝有圓塊，所述圓塊內開設有圓槽，所述螺釘靠近夾持板的一端固定安裝有圓片，所述圓片位于圓槽內，所述夾持板與螺釘轉動連接。
10、進一步地，所述第一螺紋桿和第二螺紋桿的螺紋方向相反。
11、進一步地，所述第一螺紋桿上第一移動塊的初始位置靠近第一支撐桿；所述第二螺紋桿上第一移動塊的初始位置靠近第二支撐桿。
12、進一步地，兩個所述第一移動塊下端部的噴水頭呈對稱狀設置，所述噴水頭下端部靠近外側的一端為平面狀噴頭，所述噴水頭下端部靠近內側的一端為傾斜狀噴頭。
13、關于上述技術方案中涉及的名詞、連接詞或者形容詞部分解釋如下：
14、固定連接：是指將零件或部件固定后，沒有任何相對運動的連接。其中分為可拆卸連接和不可拆卸連接兩種。
15、(1)可拆卸連接：利用螺桿、花鍵、楔銷等將零部件固定在一起。這種連接方式在維修時可以拆卸，且不會損壞零件。但使用的連接件規格必須正確(如螺栓、鍵、楔銷的長度)，并緊固適當。
16、(2)不可拆卸連接：主要指焊接、鉚接和過榫配合等。由于維修或更換時需鍛、鋸或氧割才能拆卸，所以零配件一般不能二次使用。同時在連接時，應注意工藝質量、技術檢測及補救措施(如校正、磨光等)。
17、本公開的有益效果：
18、1、該裝置在對金屬掩模版進行清洗時，能夠通過先浸泡后沖洗的方式來實現對金屬掩模版的清洗，能夠將金屬掩模版表面的蝕刻液清洗干凈；
19、2、該裝置通過第一驅動電機帶動第一螺紋桿和第二螺紋桿側端的第一移動塊進行移動，從而帶動噴水頭來對掩模版進行沖洗，由于第一螺紋桿側端的第一移動塊和第二螺紋桿側端的第一移動塊移動方向相反，使得第一移動塊下端部的噴水頭能夠反復的對掩模版進行沖洗，便于將掩模版沖洗干凈。
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1.一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，所述移動組件(6)包括第三螺紋桿(19)、滑桿(20)、第二移動塊(21)、第三移動塊(22)、連接桿(23)以及第二驅動電機(24)，所述第三螺紋桿(19)安裝在第一支撐桿(4)內部的容納腔內，所述第二驅動電機(24)固定安裝在第一支撐桿(4)的側端，且第二驅動電機(24)的輸出軸與第三螺紋桿(19)一端固定連接，所述第二移動塊(21)安裝在第三螺紋桿(19)側端，且第二移動塊(21)與第三螺紋桿(19)螺紋連接；所述滑桿(20)安裝在第二支撐桿(5)的容納腔內，所述第三移動塊(22)安裝在滑桿(20)的側端，且第三移動塊(22)能夠在滑桿(20)側端自由滑動，所述連接桿(23)安裝在第二移動塊(21)和第三移動塊(22)之間，且連接桿(23)的兩端分別與第二移動塊(21)、第三移動塊(22)固定連接；所述液壓伸縮桿(7)固定安裝在連接桿(23)上。
3.根據權利要求1所述的一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，所
4.根據權利要求1所述的一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，所述第一螺紋桿(11)和第二螺紋桿(12)的螺紋方向相反。
5.根據權利要求1所述的一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，所述第一螺紋桿(11)上第一移動塊(17)的初始位置靠近第一支撐桿(4)；所述第二螺紋桿(12)上第一移動塊(17)的初始位置靠近第二支撐桿(5)。
6.根據權利要求1所述的一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，兩個所述第一移動塊(17)下端部的噴水頭(18)呈對稱狀設置，所述噴水頭(18)下端部靠近外側的一端為平面狀噴頭，所述噴水頭(18)下端部靠近內側的一端為傾斜狀噴頭。
...【技術特征摘要】
1.一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特征在于，所述移動組件(6)包括第三螺紋桿(19)、滑桿(20)、第二移動塊(21)、第三移動塊(22)、連接桿(23)以及第二驅動電機(24)，所述第三螺紋桿(19)安裝在第一支撐桿(4)內部的容納腔內，所述第二驅動電機(24)固定安裝在第一支撐桿(4)的側端，且第二驅動電機(24)的輸出軸與第三螺紋桿(19)一端固定連接，所述第二移動塊(21)安裝在第三螺紋桿(19)側端，且第二移動塊(21)與第三螺紋桿(19)螺紋連接；所述滑桿(20)安裝在第二支撐桿(5)的容納腔內，所述第三移動塊(22)安裝在滑桿(20)的側端，且第三移動塊(22)能夠在滑桿(20)側端自由滑動，所述連接桿(23)安裝在第二移動塊(21)和第三移動塊(22)之間，且連接桿(23)的兩端分別與第二移動塊(21)、第三移動塊(22)固定連接；所述液壓伸縮桿(7)固定安裝在連接桿(23)上。
3.根據權利要求1所述的一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，其特...
【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭慶靚，湯茂林，劉貴福，盛冬冬，
申請(專利權)人：拓維光電材料滁州有限公司，
類型：新型
國別省市：
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