【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及半導(dǎo)體輔助工藝，特別是涉及一種蒸鍍鍋。
技術(shù)介紹
1、離子鍍是將晶元片上在卡環(huán)上，再用蓋板蓋住晶元，避免晶元在卡環(huán)上背鍍時(shí)，晶元正面受到蒸鍍的隱患。而目前為了提高均勻性，蒸鍍過程中鍍鍋(dome)需高速旋轉(zhuǎn)，為了不造成蓋板被甩飛，通常使用卡環(huán)來固定晶元蓋板。
2、使用卡環(huán)來固定蓋板，缺陷就是需要多一道人工動作，且這種鍍鍋片數(shù)較多，需要花費(fèi)較長時(shí)間，造成人力成本上升。卡環(huán)是用彈簧松緊裝置，因蒸鍍是在高溫下(120～150℃)進(jìn)行，較容易使彈簧失去彈性形變，頻繁更換卡環(huán)彈簧，也將增加生產(chǎn)成本。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、鑒于上述狀況，有必要針對現(xiàn)有技術(shù)中固定蓋板的工藝繁瑣且維護(hù)成本高的問題，提供一種蒸鍍鍋。
2、一種蒸鍍鍋，包括鍍鍋、卡環(huán)和蓋板，所述鍍鍋包括均勻固設(shè)的若干載環(huán)孔和所述載環(huán)孔外圓周兩側(cè)的若干固定柱，所述卡環(huán)貼合固定在所述載環(huán)孔內(nèi)，所述蓋板與所述卡環(huán)一一對應(yīng)蓋合連接，所述卡環(huán)包括外環(huán)和內(nèi)環(huán)，所述內(nèi)環(huán)的外壁與所述外環(huán)的內(nèi)壁接觸連接，所述外環(huán)兩側(cè)靠近圓周壁的方向設(shè)有一對第一固定耳，所述內(nèi)環(huán)下端設(shè)有第一平邊部，所述蓋板包括外蓋和內(nèi)圈，所述外蓋與所述內(nèi)圈固定連接，所述外蓋的直徑大于所述內(nèi)圈直徑，所述外蓋兩側(cè)靠近圓周壁的方向設(shè)有一對第二固定耳，所述內(nèi)圈端設(shè)有第二平邊部，所述內(nèi)環(huán)和所述內(nèi)圈適配，所述固定柱分別與所述第一固定耳和所述第二固定耳適配，所述第一平邊部和所述第二平邊部貼合。
3、本技術(shù)中，通過第一固定耳與固定柱配合將卡環(huán)固定在鍍鍋的載環(huán)孔內(nèi)
4、進(jìn)一步地，所述的蒸鍍鍋，所述固定柱高度高于所述蓋板蓋合在所述卡環(huán)上的重疊高度，第一平邊部朝向外圓周。
5、本技術(shù)中，通過第一固定耳穿過固定柱，使卡環(huán)固定在指定的位置及方向上，這樣使第一平邊部固定朝向，大大方便后續(xù)蓋板的對齊和更換晶圓片的操作。
6、進(jìn)一步地，所述的蒸鍍鍋，所述第一固定耳上設(shè)有第一固定孔，所述第一固定孔遠(yuǎn)離第一固定耳的一側(cè)設(shè)有s極固定塊。
7、本技術(shù)中，通過第一固定孔分別與固定柱固定連接，從而將卡環(huán)固定在鍍鍋上，s極固定塊和n極固定塊設(shè)置位置相互對應(yīng)，產(chǎn)生磁性吸力，從而避免鍍鍋高速旋轉(zhuǎn)(25～30rpm)過程中，蓋板和晶圓片被甩出。
8、進(jìn)一步地，所述的蒸鍍鍋，所述內(nèi)環(huán)圓周邊緣設(shè)有若干個(gè)均勻分布的承載塊，所述承載塊與所述內(nèi)環(huán)固定連接。
9、本技術(shù)中，承載塊用于承載晶圓片。
10、進(jìn)一步地，所述的蒸鍍鍋，所述第二固定耳上設(shè)有第二固定孔，所述第二固定孔遠(yuǎn)離第二固定耳的一側(cè)設(shè)有n極固定塊。
11、本技術(shù)中，通過第二固定孔分別與固定柱固定連接，從而將蓋板固定在鍍鍋上，s極固定塊和n極固定塊設(shè)置位置相互對應(yīng)，產(chǎn)生磁性吸力，從而避免鍍鍋高速旋轉(zhuǎn)(25～30rpm)過程中，蓋板和晶圓片被甩出。
12、進(jìn)一步地，所述的蒸鍍鍋，所述蓋板上端中部設(shè)有提帽，所述提帽設(shè)有自上而下的通孔。
13、本技術(shù)中，通過提帽設(shè)有自上而下的通孔，方便取蓋板，同時(shí)通孔保證氣流流動，不形成負(fù)壓狀態(tài)，取蓋板也不易帶出晶元。
14、進(jìn)一步地，所述的蒸鍍鍋，所述卡環(huán)和所述蓋板為不銹鋼304。
15、本技術(shù)中，所述卡環(huán)和所述蓋板為不銹鋼304，不銹鋼304具有良好的耐蝕性、耐熱性，低溫強(qiáng)度和機(jī)械特性，可以滿足使用需求。
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1.一種蒸鍍鍋，其特征在于：包括鍍鍋、卡環(huán)和蓋板，所述鍍鍋包括均勻固設(shè)的若干載環(huán)孔和所述載環(huán)孔外圓周兩側(cè)的若干固定柱，所述卡環(huán)貼合固定在所述載環(huán)孔內(nèi)，所述蓋板與所述卡環(huán)一一對應(yīng)蓋合連接，所述卡環(huán)包括外環(huán)和內(nèi)環(huán)，所述內(nèi)環(huán)的外壁與所述外環(huán)的內(nèi)壁接觸連接，所述外環(huán)兩側(cè)靠近圓周壁的方向設(shè)有一對第一固定耳，所述內(nèi)環(huán)下端設(shè)有第一平邊部，所述蓋板包括外蓋和內(nèi)圈，所述外蓋與所述內(nèi)圈固定連接，所述外蓋的直徑大于所述內(nèi)圈直徑，所述外蓋兩側(cè)靠近圓周壁的方向設(shè)有一對第二固定耳，所述內(nèi)圈端設(shè)有第二平邊部，所述內(nèi)環(huán)和所述內(nèi)圈適配，所述固定柱分別與所述第一固定耳和所述第二固定耳適配，所述第一平邊部和所述第二平邊部貼合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍鍋，其特征在于：所述固定柱高度高于所述蓋板蓋合在所述卡環(huán)上的重疊高度，所述第一平邊部朝向外圓周。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍鍋，其特征在于：所述第一固定耳上設(shè)有第一固定孔，所述第一固定孔遠(yuǎn)離第一固定耳的一側(cè)設(shè)有S極固定塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍鍋，其特征在于：所述內(nèi)環(huán)圓周邊緣設(shè)有若干個(gè)均勻分布的承載塊，所述承載塊與所述內(nèi)
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍鍋，其特征在于：所述第二固定耳上設(shè)有第二固定孔，所述第二固定孔遠(yuǎn)離第二固定耳的一側(cè)設(shè)有N極固定塊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍鍋，其特征在于：所述蓋板上端中部設(shè)有提帽，所述提帽設(shè)有自上而下的通孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍鍋，其特征在于：所述卡環(huán)和所述蓋板為不銹鋼304。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種蒸鍍鍋，其特征在于：包括鍍鍋、卡環(huán)和蓋板，所述鍍鍋包括均勻固設(shè)的若干載環(huán)孔和所述載環(huán)孔外圓周兩側(cè)的若干固定柱，所述卡環(huán)貼合固定在所述載環(huán)孔內(nèi)，所述蓋板與所述卡環(huán)一一對應(yīng)蓋合連接，所述卡環(huán)包括外環(huán)和內(nèi)環(huán)，所述內(nèi)環(huán)的外壁與所述外環(huán)的內(nèi)壁接觸連接，所述外環(huán)兩側(cè)靠近圓周壁的方向設(shè)有一對第一固定耳，所述內(nèi)環(huán)下端設(shè)有第一平邊部，所述蓋板包括外蓋和內(nèi)圈，所述外蓋與所述內(nèi)圈固定連接，所述外蓋的直徑大于所述內(nèi)圈直徑，所述外蓋兩側(cè)靠近圓周壁的方向設(shè)有一對第二固定耳，所述內(nèi)圈端設(shè)有第二平邊部，所述內(nèi)環(huán)和所述內(nèi)圈適配，所述固定柱分別與所述第一固定耳和所述第二固定耳適配，所述第一平邊部和所述第二平邊部貼合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍鍋，其特征在于：所述固定柱高度高于所述...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李文浩，康龍，董國慶，文國昇，金從龍，
申請(專利權(quán))人：江西兆馳半導(dǎo)體有限公司，
類型：新型
國別省市：
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