【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體器件的加工領域，尤其涉及一種鍵合裝置的視覺系統、一種確定待鍵合件位姿的方法，以及一種計算機可讀存儲介質。
技術介紹
1、在芯片與晶圓鍵合的制造過程中，被鍵合的芯片往往存在多種尺寸。然而，在傳統的高精度視覺系統中，其成像模塊的視場大小一般僅有幾個毫米。在需要采集的芯片的尺寸變化有幾十毫米的情況下，傳統的視覺系統無法完全覆蓋所有的芯片尺寸，導致其影響對芯片的位置和/或姿態的采集，從而影響晶圓和芯片的鍵合效率。
2、為了克服現有技術存在的上述缺陷，本領域亟需一種改進的鍵合裝置的視覺系統，用于對多種尺寸的待鍵合件上多個標記的圖像進行采集，以提升晶圓鍵合工藝的鍵合效率。
技術實現思路
1、以下給出一個或多個方面的簡要概述以提供對這些方面的基本理解。此概述不是所有構想到的方面的詳盡綜覽，并且既非旨在指認出所有方面的關鍵性或決定性要素亦非試圖界定任何或所有方面的范圍。其唯一的目的是要以簡化形式給出一個或多個方面的一些概念以為稍后給出的更加詳細的描述之前序。
2、為了克服現有技術存在的上述缺陷，本專利技術提供了一種鍵合裝置的視覺系統、一種確定待鍵合件位姿的方法及一種計算機可讀存儲介質，可以通過對多個成像模塊的視場位置進行旋轉調節，用于對多種尺寸的待鍵合件上多個標記的圖像進行采集，以提升晶圓鍵合工藝的鍵合效率。
3、具體來說，根據本專利技術的第一方面提供的上述鍵合裝置的視覺系統包括多個成像模塊及視場調節機構。所述多個成像模塊用于采集待鍵合件上多
4、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述視覺系統中還包括控制器，其被配置為：獲取所述多個標記之間的間距信息，以判斷一個所述成像模塊的視場是否能夠同時覆蓋所述多個標記；響應于一個所述成像模塊的視場能夠同時覆蓋所述多個標記的判斷結果，經由所述視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像，以表征所述待鍵合件的位置和/或姿態；以及響應于一個所述成像模塊的視場不能同時覆蓋所述多個標記的判斷結果，經由所述視場調節機構旋轉多個所述成像模塊來相互配合地采集所述多個標記的圖像，以表征所述待鍵合件的位置和/或姿態。
5、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述經由所述視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像的步驟包括：獲取所述多個標記的粗位置信息，以及第一成像模塊的第一位姿信息，以確定所述第一成像模塊的第一旋轉角度和第一旋轉路徑范圍；獲取第二成像模塊當前的第二位姿信息，并結合所述第一旋轉路徑范圍，以判斷所述第二成像模塊是否影響所述第一成像模塊的旋轉；以及響應于所述第二成像模塊影響所述第一成像模塊旋轉的判斷結果，根據所述第二位姿信息及所述第一旋轉路徑范圍，確定所述第二成像模塊的第二旋轉角度，并經由所述視場調節機構旋轉所述第二成像模塊，以避免影響所述第一成像模塊的旋轉。
6、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述經由所述視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像的步驟還包括：響應于所述第二成像模塊不影響所述第一成像模塊旋轉的判斷結果，經由所述視場調節機構，根據所述第一旋轉角度旋轉所述第一成像模塊，以采集所述多個標記的圖像。
7、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述控制器還被配置為：根據所述多個標記在所述圖像中的位置，以及所述第一成像模塊的第一旋轉角度，確定所述多個標記的細位置信息；以及根據所述多個標記的細位置信息，確定所述待鍵合件的位置和/或姿態。
8、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述待鍵合件為芯片，其邊緣的兩個特征位置處設有兩個所述標記。所述視覺系統包括兩個所述成像模塊。所述經由所述視場調節機構旋轉多個所述成像模塊來相互配合地采集所述多個標記的圖像的步驟包括：分別獲取各所述標記的粗位置信息，以及各所述成像模塊的位姿信息；根據第一標記的第一粗位置信息，以及第一成像模塊的第一位姿信息，確定所述第一成像模塊的第一旋轉角度，并經由所述視場調節機構旋轉所述第一成像模塊來采集所述第一標記的第一圖像；以及根據第二標記的第二粗位置信息，以及第二成像模塊的第二位姿信息，確定所述第二成像模塊的第二旋轉角度，并經由所述視場調節機構旋轉所述第二成像模塊來采集所述第二標記的第二圖像。
9、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述控制器還被配置為：根據所述第一標記在所述第一圖像中的第一位置，以及所述第一成像模塊的第一旋轉角度，確定所述第一標記的第一細位置信息；根據所述第二標記在所述第二圖像中的第二位置，以及所述第二成像模塊的第二旋轉角度，確定所述第二標記的第二細位置信息；以及根據所述第一細位置信息，以及所述第二細位置信息，確定所述待鍵合件的位置和/或姿態。
10、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述視場調節機構中包括驅動模塊、傳動模塊、限位模塊及止動模塊。所述驅動模塊用于提供旋轉驅動力。所述傳動模塊用于將所述旋轉驅動力傳遞至對應的成像模塊，以使其做旋轉運動。所述限位模塊用于限制所述成像模塊的旋轉范圍，以避免其碰撞其他部件。所述止動模塊用于在所述成像模塊旋轉至目標角度后，鎖止所述成像模塊的轉軸。
11、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述成像模塊中包括棱鏡、筒鏡及相機。所述棱鏡位于所述成像模塊靠近所述待鍵合件的一端，用于旋轉所述成像模塊的視場。所述筒鏡位于所述棱鏡與相機之間，用于將所述待鍵合件的像投射到所述相機的成像表面。所述相機位于所述成像模塊遠離所述待鍵合件的一端，用于經由所述筒鏡和所述棱鏡，采集所述待鍵合件上的所述多個標記的圖像。
12、進一步地，在本專利技術的一些實施例中，所述待鍵合件為芯片，其長邊的長度范圍在0.1mm～50mm之間。所述成像模塊的視場為圓形，其直徑在1～10毫米之間。或者所述成像模塊的視場為矩形，其長邊長在1～10毫米之間。
13、此外，根據本專利技術的第二方面提供的上述確定待鍵合件位姿的方法包括以下步驟：獲取所述待鍵合件上多個標記之間的間距信息，以判斷如本專利技術的第一方面提供的視覺系統的一個成像模塊的視場，是否能夠同時覆蓋所述多個標記；響應于一個所述成像模塊的視場能夠同時覆蓋所述多個標記的判斷結果，經由視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像，以表征所述待鍵合件的位置和/或姿態；以及響應于一個所述成像模塊的視場不能同時覆蓋所述多個標記的判斷結果，經由所述視場調節機構旋轉多個所述成像模塊來相互配合地采集所述多個標記的圖像，以表征所述待鍵合件的位置和/或姿態。
14、此外，根據本專利技術的第三方面提供的上述計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機指令。所述計算機指令被處理器執行時，實施如本專利技術的第二方面提供的確定待鍵合件位姿的方法。
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1.一種鍵合裝置的視覺系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的視覺系統，其特征在于，所述視覺系統中還包括控制器，其被配置為：
3.如權利要求2所述的視覺系統，其特征在于，所述經由所述視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像的步驟包括：
4.如權利要求3所述的視覺系統，其特征在于，所述經由所述視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像的步驟還包括：
5.如權利要求4所述的視覺系統，其特征在于，所述控制器還被配置為：
6.如權利要求2所述的視覺系統，其特征在于，所述待鍵合件為芯片，其邊緣的兩個特征位置處設有兩個所述標記，所述視覺系統包括兩個所述成像模塊，所述經由所述視場調節機構旋轉多個所述成像模塊來相互配合地采集所述多個標記的圖像的步驟包括：
7.如權利要求6所述的視覺系統，其特征在于，所述控制器還被配置為：
8.如權利要求1所述的視覺系統，其特征在于，所述視場調節機構中包括：
9.如權利要求1所述的視覺系統，其特征在于，所述成像模塊中包括：
<...【技術特征摘要】
1.一種鍵合裝置的視覺系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的視覺系統，其特征在于，所述視覺系統中還包括控制器，其被配置為：
3.如權利要求2所述的視覺系統，其特征在于，所述經由所述視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像的步驟包括：
4.如權利要求3所述的視覺系統，其特征在于，所述經由所述視場調節機構旋轉一個所述成像模塊來采集所述多個標記的圖像的步驟還包括：
5.如權利要求4所述的視覺系統，其特征在于，所述控制器還被配置為：
6.如權利要求2所述的視覺系統，其特征在于，所述待鍵合件為芯片，其邊緣的兩個特征位置處設有兩個所述標記，所述視覺系統包括兩個所述成像模塊，所述經由所述視場調...
【專利技術屬性】
技術研發人員：姚江毅，
申請(專利權)人：拓荊鍵科海寧半導體設備有限公司，
類型：發明
國別省市：
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