【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體基板清洗，具體是一種半導體基板清潔裝置。
技術介紹
1、現有的清洗半導體基板的裝置通常采用旋轉式結構，將基板放置在旋轉臺上水平旋轉以防止基板破裂，將清洗液、純水或化學溶液注入到旋轉臺，使用噴霧器噴涂到基板上，噴霧器一般設有噴射口，與噴射口相對的另一端設有超聲波振動器，側面設有清洗液供給口，所供給的清洗液可通過超聲波振動器產生振動，從噴嘴處噴出，噴霧器固定在一個臂上，臂連接到固定桌子附近的垂直支撐軸。然后，臂隨著支撐軸的旋轉而旋轉，并且噴霧器在旋轉工作臺上方與工作臺平行旋轉，從而清潔基板中心到周緣的整個主表面。
2、上述旋轉式結構的基板清洗裝置，采用噴射器沿著基板表面的旋轉中心和噴射孔為中心的假想圓，包含旋轉的平面內移動的圓弧狀引導件，可以改變噴射器相對于基板表面的角度，無論基板表面上的膜厚度或污染物類型如何，都可以清潔基板的旋轉中心。但在使用過程中，如果根據基板表面的污厚或污染物的種類確定了噴霧器的角度，則在清洗時就無法改變角度，因此清洗懸掛在基材側面的液體聲壓明顯弱于噴涂在基材主表面上的聲壓；另外，從噴霧嘴到清洗液到達基板的距離隨著噴霧器角度的變化而變長，因此，聲壓衰減，清潔力降低。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于解決現有技術中存在的問題，提供一種半導體基板清潔裝置，能夠對基板的主表面和側面施加相同清潔力，且可以在清潔期間改變噴射器的角度而不改變噴射距離。
2、本專利技術為實現上述目的，通過以下技術方案實現：
3、一
4、優選的，所述清潔頭包括噴嘴以及安裝在噴嘴的頂部的超聲波振動器。
5、優選的，所述鎖定件包括沿著工作臺的周向均勻布置的若干個鎖定柱，所述鎖定柱的頂部的中部設有鎖定板，所述鎖定柱通過螺絲安裝在工作臺上，所述鎖定柱的底部設有螺絲孔，螺絲自下而上貫穿工作臺后，旋入螺絲孔中。
6、優選的，所述連接件為l型架，第一驅動裝置在水平面內的投影的一部分位于工作臺上或者全部位于工作臺上。
7、優選的，所述連接件為ㄣ型架，第一驅動裝置在水平面內的投影位于工作臺的外側。
8、對比現有技術，本專利技術的有益效果在于：
9、本專利技術能夠在清洗時改變清潔頭的角度，而無需大幅改變噴射距離，從而對基板的側面也發揮與主表面相同的清洗力，使得整個基板的每個角落都被覆蓋，可以保持清潔。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種半導體基板清潔裝置，包括清潔頭(1)以及用于鎖定半導體基板的工作臺(2)，所述工作臺(2)的底部設有旋轉軸(21)，其特征在于：所述清潔頭(1)的外壁上設有連接件(3)，所述連接件(3)上設有至少一個折彎部(31)，所述連接件(3)遠離清潔頭(1)的一端水平布置，且在連接件(3)遠離清潔頭(1)的一端設有用于帶動連接件(3)繞著水平軸旋轉的第一驅動裝置(4)，第一驅動裝置(4)遠離連接件(3)的一端設有安裝架(5)，在所述安裝架(5)的底部設有用于帶動安裝架(5)繞著豎直軸旋轉的第二驅動裝置(6)，所述工作臺(2)的頂部設有用于鎖定半導體基板的鎖定件。
2.根據權利要求1所述的一種半導體基板清潔裝置，其特征在于：所述清潔頭(1)包括噴嘴以及安裝在噴嘴的頂部的超聲波振動器。
3.根據權利要求1所述的一種半導體基板清潔裝置，其特征在于：所述鎖定件包括沿著工作臺(2)的周向均勻布置的若干個鎖定柱(7)，所述鎖定柱(7)的頂部的中部設有鎖定板(71)，所述鎖定柱(7)通過螺絲(72)安裝在工作臺(2)上，所述鎖定柱(7)的底部設有螺絲孔，螺絲(72)自下而
4.根據權利要求1所述的一種半導體基板清潔裝置，其特征在于：所述連接件(3)為L型架，第一驅動裝置(4)在水平面內的投影的一部分位于工作臺(2)上或者全部位于工作臺(2)上。
5.根據權利要求1所述的一種半導體基板清潔裝置，其特征在于：所述連接件(3)為ㄣ型架，第一驅動裝置(4)在水平面內的投影位于工作臺(2)的外側。
...【技術特征摘要】
1.一種半導體基板清潔裝置，包括清潔頭(1)以及用于鎖定半導體基板的工作臺(2)，所述工作臺(2)的底部設有旋轉軸(21)，其特征在于：所述清潔頭(1)的外壁上設有連接件(3)，所述連接件(3)上設有至少一個折彎部(31)，所述連接件(3)遠離清潔頭(1)的一端水平布置，且在連接件(3)遠離清潔頭(1)的一端設有用于帶動連接件(3)繞著水平軸旋轉的第一驅動裝置(4)，第一驅動裝置(4)遠離連接件(3)的一端設有安裝架(5)，在所述安裝架(5)的底部設有用于帶動安裝架(5)繞著豎直軸旋轉的第二驅動裝置(6)，所述工作臺(2)的頂部設有用于鎖定半導體基板的鎖定件。
2.根據權利要求1所述的一種半導體基板清潔裝置，其特征在于：所述清潔頭(1)包括噴嘴以及安裝在噴嘴的頂部的超...
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