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    清潔機器人的基站以及清潔系統技術方案

    技術編號:44454306 閱讀:2 留言:0更新日期:2025-02-28 19:00
    本申請涉及清潔機器人的基站以及清潔系統。基于本申請,基站的清潔維護模塊可以在運動引流模塊的帶動下往復移動,并且,潔凈水噴嘴可以與運動引流模塊和清潔維護模塊同步移動。其中,潔凈水噴嘴輸出的潔凈水可以流入運動引流模塊的頂部的蓄水槽,該蓄水槽中的潔凈水可以從該蓄水槽的供水口灌入清潔維護模塊頂部的摩擦清潔組件,并且,摩擦清潔組件在遠離供水口的方向上逐漸向排污凹槽的槽底下傾,以助于潔凈水能夠貫穿摩擦清潔組件流動。從而,基于潔凈水噴嘴位于清潔維護模塊外部的外置方式,可以形成從運動引流模塊流經摩擦清潔組件至排污凹槽的開放水路,進而可以實現基站對清潔維護模塊的自清潔、并降低潔凈水噴嘴被污染的風險。

    【技術實現步驟摘要】

    本申請涉及智能家居領域,特別涉及一種清潔機器人的基站、以及一種清潔系統。


    技術介紹

    1、清潔機器人的底部可以裝設有地面清潔部件,并且,清潔機器人可以利用地面清潔部件進行諸如清掃或擦拭等地面清潔。

    2、清潔機器人的地面清潔部件在完成地面清潔后會附著有污物,并且,清潔機器人可以在完成地面清潔后移動至基站進行對地面清潔部件的清潔維護。具體地,當清潔機器人駐停在基站時,基站的清潔維護模塊可以在清潔機器人的底部下方往復移動,清潔維護模塊在往復移動的過程中可以與地面清潔部件干涉摩擦,并且,清潔維護模塊中的潔凈水噴嘴還可以向地面清潔部件提供潔凈水,從而,地面清潔部件附著的污物可以通過干涉摩擦而與地面清潔部件分離,并且,與地面清潔部件分離的污物被潔凈水的沖洗去除。

    3、然而,利用潔凈水沖洗污物產生的污水會落在基站的清潔維護模塊,因此,污水中的部分污物會殘留在清潔維護模塊中,并且,殘留在清潔維護模塊中的污物還有可能污染潔凈水噴嘴。若清潔維護模塊長期貯存污物、且潔凈水噴嘴被污染,則,該清潔維護模塊與地面清潔部件的干涉摩擦過程將會變為污物交換的過程,并且,被污染的潔凈水噴嘴向地面清潔部件提供的水也將摻雜有污物,從而,難以對地面清潔部件實施有效的清潔維護。

    4、可見,如何提升基站對清潔機器人的地面清潔部件的清潔維護效果,成為有待解決的技術問題。


    技術實現思路

    1、本申請的實施例提供一種清潔機器人的基站、以及一種清潔系統,有助于提升基站對清潔機器人的地面清潔部件的清潔維護效果。

    2、在本申請的一個實施例中,提供了一種清潔機器人的基站,包括:

    3、底座組件,所述底座組件具有排污凹槽;

    4、清潔維護模塊,所述清潔維護模塊可移動地布置在所述排污凹槽中,并且,所述清潔維護模塊的頂部裝設有摩擦清潔組件;

    5、運動引流模塊,所述運動引流模塊可移動地裝設于所述底座組件,所述運動引流模塊與所述清潔維護模塊固定連接,并且,所述運動引流模塊用于在驅動組件的驅使下,帶動所述清潔維護模塊在所述排污凹槽中平行于第一水平方向往復移動;

    6、潔凈水噴嘴,所述潔凈水噴嘴用于在所述驅動組件的驅使下,在所述排污凹槽外與所述運動引流模塊同步往復移動;

    7、其中:

    8、所述運動引流模塊的頂部具有蓄水槽,所述潔凈水噴嘴還用于向所述蓄水槽注水,并且,所述蓄水槽靠近所述清潔維護模塊的一側具有供水口;

    9、所述摩擦清潔組件在第二水平方向上的一端位于所述供水口的供水范圍中,并且,所述摩擦清潔組件在所述第二水平方向上遠離所述供水口的另一端向所述排污凹槽的槽底下傾。

    10、在一些示例中,可選地,所述蓄水槽包括內側區域和外側區域,所述內側區域位于所述供水口和所述外側區域之間,所述內側區域和所述供水口在所述第二水平方向上位于所述排污凹槽的邊緣內側,所述外側區域在所述第二水平方向上位于所述排污凹槽的邊緣外側,并且,所述潔凈水噴嘴的出水端頭在所述第二水平方向上被限位在所述外側區域內。

    11、在一些示例中,可選地,還包括導向組件,所述導向組件包括第一軸座和第二軸座,所述第一軸座和所述第二軸座分別在所述排污凹槽在所述第一水平方向上的相反兩端之外固定裝設于所述底座組件,所述導向組件還包括沿所述第一水平方向架設在所述第一軸座和所述第二軸座之間的導向軸桿,并且,所述運動引流模塊滑動裝設于所述導向軸桿,以實現在所述底座組件的可移動裝設;其中,所述第一軸座和所述第二軸座在所述第二水平方向上具有相對于所述排污凹槽的安裝位置偏移,并且,所述安裝位置偏移使所述運動引流模塊在所述第二水平方向上跨越所述排污凹槽的邊緣,使所述蓄水槽包括所述內側區域和所述外側區域。

    12、在一些示例中,可選地,所述蓄水槽中還具有向上凸起的限位筋,并且,所述限位筋位于所述內側區域和所述外側區域之間的分界處;所述潔凈水噴嘴位于所述運動引流模塊的頂部上方,所述潔凈水噴嘴的出水端頭從所述運動引流模塊在所述第二水平方向上背向所述排污凹槽的一側伸入所述外側區域,并且,所述潔凈水噴嘴的出水端頭在所述第二水平方向上被所述限位筋限位阻擋在所述外側區域內。

    13、在一些示例中,可選地,所述潔凈水噴嘴的出水端頭為折彎端頭,所述折彎端頭的折彎方向朝向所述蓄水槽的槽底,并且,所述折彎端頭與所述蓄水槽的槽底之間具有出水間隙。

    14、在一些示例中,可選地,所述驅動組件在所述排污凹槽之外裝設于所述底座組件,所述驅動組件包括驅動電機、傳動機構以及驅動滑塊,并且,所述驅動滑塊與所述驅動電機通過所述傳動機構傳動連接;所述驅動滑塊在所述運動引流模塊在所述第二水平方向上背向所述排污凹槽的一側與所述運動引流模塊相鄰拼接,所述潔凈水噴嘴可調節地裝設在所述驅動滑塊的頂部,并且,所述驅動滑塊用于基于所述驅動電機的動力輸出,驅使所述運動引流模塊和所述潔凈水噴嘴同步地平行于所述第一水平方向往復運動;所述潔凈水噴嘴利用在所述驅動滑塊的頂部的可調節裝設,使出水端頭保持在所述外側區域內。

    15、在一些示例中,可選地,所述驅動滑塊的頂部固定裝設有噴嘴卡座,所述潔凈水噴嘴被卡持于所述噴嘴卡座,并且,所述潔凈水噴嘴在所述第二水平方向上相對于所述噴嘴卡座的位置可調節。

    16、在一些示例中,可選地,所述清潔維護模塊包括模塊移動基座,所述模塊移動基座用于在基站的排污凹槽中往復移動;摩擦清潔組件,所述摩擦清潔組件傾斜布置在所述移動基座在模塊厚度方向上的頂面上方,所述摩擦清潔組件在模塊長度方向上的相反兩端分別為具有高度差的上傾端和下傾端,所述摩擦清潔組件的上傾端用于接收基站供給的潔凈水,并且,所述潔凈水用于從所述摩擦清潔組件的上傾端向下傾端貫穿所述摩擦清潔組件流動;蓄水擋筋組件,所述蓄水擋筋組件位于所述潔凈水的流動路徑中,并且,所述蓄水擋筋組件用于使所述潔凈水的流動產生遲滯。

    17、在一些示例中,可選地,所述清潔維護模塊的模塊寬度方向平行于所述排污凹槽的槽底、且平行于所述模塊移動基座在所述排污凹槽中往復移動的移動方向,所述模塊長度方向平行于所述排污凹槽的槽底、且垂直于所述移動方向,并且,所述模塊厚度方向垂直于所述排污凹槽的槽底、且垂直于所述移動方向。

    18、在一些示例中,可選地,所述模塊移動基座的頂面為傾斜頂面,所述摩擦清潔組件基于所述傾斜頂面的傾斜支撐而被傾斜布置在所述傾斜頂面上方;其中,所述傾斜頂面在所述模塊長度方向上的相反兩端分別為具有高度差的高位端和低位端;所述摩擦清潔組件的上傾端位于所述傾斜頂面的高位端上方,并且,所述摩擦清潔組件的下傾端位于所述傾斜頂面的低位端上方。

    19、在一些示例中,可選地,所述蓄水擋筋組件位于所述模塊移動基座的頂面、或位于所述摩擦清潔組件。

    20、在一些示例中,可選地,還包括基座懸置輪組,所述基座懸置輪組用于將所述模塊移動基座可移動地裝設在基站的排污凹槽中,并且,所述基座懸置輪組還用于將所述模塊移動基座在所述排污凹槽中懸本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種清潔機器人的基站,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的基站,其特征在于,

    3.根據權利要求2所述的基站,其特征在于,

    4.根據權利要求2所述的基站,其特征在于,

    5.根據權利要求4所述的基站,其特征在于,

    6.根據權利要求1所述的基站,其特征在于,

    7.根據權利要求6所述的基站,其特征在于,

    8.根據權利要求7所述的基站,其特征在于,

    9.根據權利要求7所述的基站,其特征在于,

    10.根據權利要求9所述的基站,其特征在于,

    11.根據權利要求10所述的基站,其特征在于,

    12.根據權利要求6所述的基站,其特征在于,

    13.根據權利要求12所述的基站,其特征在于,

    14.根據權利要求13所述的基站,其特征在于,

    15.根據權利要求14所述的基站,其特征在于,

    16.根據權利要求1所述的基站,其特征在于,

    17.根據權利要求16所述的基站,其特征在于,

    18.根據權利要求17所述的基站,其特征在于,

    19.根據權利要求1所述的基站,其特征在于,

    20.一種清潔系統,其特征在于,包括清潔機器人、以及如權利要求1至19中任一項所述的基站。

    ...

    【技術特征摘要】

    1.一種清潔機器人的基站,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的基站,其特征在于,

    3.根據權利要求2所述的基站,其特征在于,

    4.根據權利要求2所述的基站,其特征在于,

    5.根據權利要求4所述的基站,其特征在于,

    6.根據權利要求1所述的基站,其特征在于,

    7.根據權利要求6所述的基站,其特征在于,

    8.根據權利要求7所述的基站,其特征在于,

    9.根據權利要求7所述的基站,其特征在于,

    10.根據權利要求9所述的基站,其特征在于,

    11.根據權利要求10所述的基...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:陳寧濤
    申請(專利權)人:杭州螢石軟件有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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