【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及光路系統的防護。
技術介紹
1、在光學量測設備中，光源的性能對測量設備至關重要。目前，寬光譜光源因其以下優點：光譜范圍寬、超高亮度/輝度、超長壽命，超高穩定性等，已逐漸成為半導體光學量測設備的光源首選。例如，半導體膜厚測量設備橢偏儀正在更多地采用寬光譜光源作為其光源裝置。
2、寬光譜光源雖然有上述優點，但也存在缺點：采用寬光譜光源作為測量裝置的光源時，寬光譜光源的紫外波段范圍內的紫外線光會讓測量光路中的氧氣發生光解反應而產生臭氧，而臭氧具有強氧化性，可能會使測量光路中一些光束處理裝置(例如鏡片)的鍍膜以及結構件產生氧化破壞。這些氧化破壞會影響測量光路的性能，諸如鏡片鍍膜損壞會導致透過光強或反射光強降低、結構件原有的黑色陽極化表處理層被臭氧氧化產生的揮發物會污染光路等。
技術實現思路
1、本專利技術主要解決光源中含有紫外線的光路容易產生臭氧而導致氧化破壞的技術問題。
2、第一方面，本專利技術提供了一種光路系統。
3、一種光路系統，包括：
4、光源模塊和/或光探測模塊；
5、光束處理裝置，所述光束處理裝置用于對通過的光束進行處理；
6、安裝基體，所述安裝基體具有安裝腔，至少一個所述光束處理裝置設置在所述安裝腔內，所述光源模塊和/或光探測模塊設置在所述安裝基體外部；所述安裝基體具有光入射口和光出射口，所述光入射口供待處理光束進入所述安裝腔，所述光出射口供經所述光束處理裝置處理的光束從所述安裝腔中射出；<...
【技術保護點】
1.一種光路系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的光路系統，其特征在于，所述安裝基體包括底座和保護罩，所述光束處理裝置設置在所述底座上，所述保護罩具有內腔，所述保護罩扣合在所述底座上并與所述底座圍成所述安裝腔。
3.如權利要求2所述的光路系統，其特征在于，所述底座上設有第一扣合面，所述保護罩上設有第二扣合面，所述第一扣合面與第二扣合面的至少一個上設有密封槽，所述密封槽內設有密封件；所述第一扣合面和/或所述第二扣合面上的所述密封槽具有供密封圈嵌入的槽口，所述槽口為縮口結構。
4.如權利要求3所述的光路系統，其特征在于，所述密封槽的橫截面為燕尾形，所述密封件為O形圈。
5.如權利要求3所述的光路系統，其特征在于，所述保護罩的側壁上設有凹槽，所述凹槽背離所述底座的一端貫通所述保護罩，所述凹槽靠近所述底座的一端為盲端，所述盲端在所述保護罩上形成臺階，所述臺階上設有過孔，所述過孔供螺釘的桿部穿過以將所述保護罩壓緊固定到所述底座上，所述凹槽用于避讓所述螺釘的頭部。
6.如權利要求5所述的光路系統，其特征在于，所述螺釘包括位
7.如權利要求2所述的光路系統，其特征在于，還包括密封管；所述密封管的一端與所述光源模塊連接，另一端與所述保護罩的光入射口連接，和/或，所述密封管的一端與所述光探測模塊連接，另一端與所述保護罩的光入射口連接；所述密封管與所述安裝腔連通，所述密封管內設有光束通道；所述密封管具有柔性，供所述光源模塊和/或光探測模塊相對于所述保護罩調節位置。
8.如權利要求7所述的光路系統，其特征在于，所述保護罩上設有光路反射鏡，所述光源模塊和/或光探測模塊的光軸與所述光束處理裝置的光軸具有夾角，所述光路反射鏡用于在所述光束處理裝置與所述光源模塊和/或光探測模塊之間反射光線。
9.如權利要求7所述的光路系統，其特征在于，所述密封管的端部通過磁吸結構與所述光源模塊或所述光探測模塊可拆卸地連接。
10.如權利要求2所述的光路系統，其特征在于，所述保護罩包括至少兩個罩體，各罩體依次對接，相鄰兩罩體的對接處設有密封結構。
11.如權利要求1至10中任一項所述的光路系統，其特征在于，所述光束處理裝置包括聚焦模塊，所述光出射口和/或所述光入射口設有所述聚焦模塊，所述聚焦模塊與所述安裝基體密封連接。
12.如權利要求1至10中任一項所述的光路系統，其特征在于，所述安裝基體上設有線纜孔，所述線纜孔處設有供線纜穿過并與線纜密封配合的線纜密封件。
13.如權利要求1至10中任一項所述的光路系統，其特征在于，還包括均流元件，所述均流元件設置在所述安裝基體上并與所述供氣接頭的出氣口對應，所述均流元件用于分散從所述供氣接頭排出的氣體。
14.如權利要求13所述的光路系統，其特征在于，所述均流元件為均流板，所述均流板扣合在所述安裝腔的內壁上并與所述安裝腔的內壁圍成氣室，所述供氣接頭的出氣口與所述氣室連通。
15.光學量測設備，其特征在于，包括：
...【技術特征摘要】
1.一種光路系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的光路系統，其特征在于，所述安裝基體包括底座和保護罩，所述光束處理裝置設置在所述底座上，所述保護罩具有內腔，所述保護罩扣合在所述底座上并與所述底座圍成所述安裝腔。
3.如權利要求2所述的光路系統，其特征在于，所述底座上設有第一扣合面，所述保護罩上設有第二扣合面，所述第一扣合面與第二扣合面的至少一個上設有密封槽，所述密封槽內設有密封件；所述第一扣合面和/或所述第二扣合面上的所述密封槽具有供密封圈嵌入的槽口，所述槽口為縮口結構。
4.如權利要求3所述的光路系統，其特征在于，所述密封槽的橫截面為燕尾形，所述密封件為o形圈。
5.如權利要求3所述的光路系統，其特征在于，所述保護罩的側壁上設有凹槽，所述凹槽背離所述底座的一端貫通所述保護罩，所述凹槽靠近所述底座的一端為盲端，所述盲端在所述保護罩上形成臺階，所述臺階上設有過孔，所述過孔供螺釘的桿部穿過以將所述保護罩壓緊固定到所述底座上，所述凹槽用于避讓所述螺釘的頭部。
6.如權利要求5所述的光路系統，其特征在于，所述螺釘包括位于所述密封件靠近所述安裝腔的一側的內側螺釘，還包括位于所述密封件背離所述安裝腔的一側的外側螺釘。
7.如權利要求2所述的光路系統，其特征在于，還包括密封管；所述密封管的一端與所述光源模塊連接，另一端與所述保護罩的光入射口連接，和/或，所述密封管的一端與所述光探測模塊連接，另一端與所述保護罩的光入射口連接；所述密封管與所述安裝腔連通，所述密封管內設有光束...
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳魯，高志民，馬硯忠，王南朔，何泊衢，蘇凡，張嵩，
申請(專利權)人：深圳中科飛測科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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