用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法技術(shù)

技術(shù)編號：44456241 閱讀：5 留言：0更新日期：2025-02-28 19:02

一種用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法包括步驟：S1，鍍前針對作為鏡片的鍺基底的陪鍍片和產(chǎn)品進(jìn)行清潔及Ge、ZnS、YbF<subgt;3</subgt;三種膜料準(zhǔn)備工作；S2，清潔處理好的鏡片放入工裝夾具，放好鏡片的工裝夾具掛入鍍膜機(jī)的腔體內(nèi)，抽真空烘烤以及膜料預(yù)熔；S3，離子源清洗鏡片；S4，在真空條件下，在鏡片的第一面依次鍍制第一層Ge膜層、第二層ZnS膜層、第三層Ge膜層、第四層ZnS膜層、第五層Ge膜層、第六層ZnS膜層、第七層YbF<subgt;3</subgt;膜層、第八層ZnS膜層，八層膜層構(gòu)成膜系，全部膜層均使用離子源輔助沉積；S5，鍍后恒溫保持；S6，冷卻取件；S7，重復(fù)步驟S1至步驟S6，在鏡片的第二面鍍制相同的膜系。由此，能夠用于提高8?14μm波段透過率同時降低其表面反射率。

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【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本公開涉及紅外鍍膜領(lǐng)域，更具體地涉及一種用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法。

技術(shù)介紹

1、在現(xiàn)代光學(xué)與紅外
，鍺(ge)材料，因其在紅外長波段的低吸收性和良好的光學(xué)性能，是紅外光學(xué)元件的理想選擇。然而，未經(jīng)處理的鍺表面在紅外波段仍然存在較高的反射率，這限制了鍺基光學(xué)元件在高精度紅外探測、遙感成像等領(lǐng)域的應(yīng)用。因此，開發(fā)一種能夠在8-14μm紅外長波段實(shí)現(xiàn)低反射率的增透膜體系，對于提升紅外光學(xué)系統(tǒng)性能至關(guān)重要。

2、目前，雖然有多種增透膜設(shè)計(jì)被用于紅外光學(xué)元件，但大多數(shù)設(shè)計(jì)在寬波段內(nèi)實(shí)現(xiàn)的反射率降低效果有限，尤其是在8-14μm這一關(guān)鍵波段。同時，現(xiàn)有技術(shù)在膜層材料選擇、厚度控制和鍍膜工藝上存在局限，難以同時滿足低反射率、高穩(wěn)定性和成本效益的要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于
技術(shù)介紹
中存在的問題，本公開的一目的在于提供一種用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其制備的鍺基底連同兩面的膜系能夠用于提高8-14μm波段透過率同時降低其表面反射率。

2、本公開的另一目的在于提供一種用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其制備的鍺基底連同兩面的膜系能夠用于實(shí)現(xiàn)符合水泡試驗(yàn)、粘接力試驗(yàn)、鹽霧試驗(yàn)、冷熱沖擊試驗(yàn)、恒溫恒濕試驗(yàn)、低溫試驗(yàn)、高溫試驗(yàn)的驗(yàn)收。

3、由此，一種用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法包括步驟：s1，鍍前針對作為鏡片的鍺基底的陪鍍片和產(chǎn)品進(jìn)行清潔及ge、zns、ybf3三種膜料準(zhǔn)備工作；s2，清潔處理好的鏡片放入

4、本公開的有益效果如下。

5、在根據(jù)本公開的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法中，通過步驟s1至步驟s7在鍺基底的兩面上鍍制相同的sub(鍺基底)//ge/zns/ge/zns/ge/zns/ybf3/zns/air(空氣)膜系，如測試過程所驗(yàn)證地，能夠用于提高8-14μm波段的平均透過率(透過率平均大于95％，具體為95.3-95.5％)同時降低其表面反射率(反射率小于0.8％，具體地為0.76-0.77％)，從而為紅外光學(xué)系統(tǒng)提供了優(yōu)異的性能。

6、在根據(jù)本公開的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法中，通過步驟s1至步驟s7在鍺基底的兩面上鍍制相同的sub(鍺基底)//ge/zns/ge/zns/ge/zns/ybf3/zns/air(空氣)膜系，如測試過程所驗(yàn)證地，能夠通過水泡試驗(yàn)、粘接力試驗(yàn)、鹽霧試驗(yàn)、冷熱沖擊試驗(yàn)、恒溫恒濕試驗(yàn)、低溫試驗(yàn)、高溫試驗(yàn)共七項(xiàng)試驗(yàn)，即能夠用于實(shí)現(xiàn)符合水泡試驗(yàn)、粘接力試驗(yàn)、鹽霧試驗(yàn)、冷熱沖擊試驗(yàn)、恒溫恒濕試驗(yàn)、低溫試驗(yàn)、高溫試驗(yàn)的驗(yàn)收。

7、在根據(jù)本公開的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的中，由于僅涉及三種膜料且四層zns膜層與三層ge膜層和一層ybf3膜層交替，使得制備方法簡單、成本較低，適用于大規(guī)模生產(chǎn)。

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【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

1.一種用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，包括步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，包括步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，

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5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于紅外長波的低反射鍺基增透膜系的制備方法，其特征在于，

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：王振，劉克武，蔡宇軒，郭晨光，尹士平，
申請(專利權(quán))人：安徽光智科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：

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