【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術屬于投影幕布相關，具體涉及一種抗光幕布及其制備方式。
技術介紹
1、近年來，國內影音市場的快速發(fā)展帶動了投影幕布市場的不斷壯大。作為投影系統(tǒng)的終端，投影幕布是伴隨投影技術的提高以及投影機在教育、工程、商業(yè)、家居等方面的普及而被越來越多的人們所熟悉，作為畫面的呈現(xiàn)方式，幕布類型的選擇對影音的最終放映效果影響較大。
2、如今，更多的用戶喜歡在較亮的環(huán)境光下觀看投影畫面，然而幕布表面容易受環(huán)境光的影響，導致成像畫面發(fā)白、不清晰、不均勻，因此會大大降低畫面的對比度和亮度，無法達到其本身的展示或演示效果。為了降低環(huán)境光和自然光等雜散光線對投影幕布的影響，針對此問題市面上也已經推出了一系列的產品解決方案，以滿足在明亮環(huán)境下，客戶對高清、高對比度以及更好視覺效果的需求。
3、目前的主流抗光幕布制作方式是調整中間顏色層或使用帶顏色的原色膜來達到抗光及對比度效果，想要抗光效果好就需要降低顏色層或原色膜的透過率來達到此等效果，但是該方式會損失幕布亮度以及造成rgb失衡，并且在明亮環(huán)境下或被不均勻的光照下，通過染料等調色的顏色層或原色膜會造成幕布不均勻的褪色，形成局部色差，需要一種不通過調色來達到良好的抗光效果及高對比度的幕布制作方式。
技術實現(xiàn)思路
1、本專利技術的目的在于提供一種抗光幕布及其制備方式，以解決上述
技術介紹
中提出的現(xiàn)有方式會損失幕布亮度以及造成rgb失衡，并且在明亮環(huán)境下或被不均勻的光照下，通過染料等調色的顏色層或原色膜會造成幕布不均勻的褪色，形成局部色
2、為實現(xiàn)上述目的，本專利技術提供如下兩種技術方案，在一種技術方案中：
3、一種抗光幕布，由上至下依次包括：
4、正面結構，所述正面結構為線性結構或普通擴散或硬化結構的其中一種；
5、pet層，位于所述正面結構的背面；
6、貼合膠層，所述貼合膠層涂布于所述pet層的背面，所述貼合膠層為高粘性配方的uv貼合膠水；
7、微結構層；
8、偏光片，所述微結構層處于所述偏光片上表面并與所述貼合膠層背面相貼合；
9、菲涅爾結構，位于所述偏光片的背面；
10、反射層，噴涂于所述菲涅爾結構的背面。
11、優(yōu)選的，所述貼合膠層的膠水中分散有pmma微珠或者pbma微珠，且微珠的粒徑為3-5微米。
12、優(yōu)選的，所述偏光片表面的微結構為pitch1結構與pitch2結構構成的半球形蜂窩微結構。
13、優(yōu)選的，所述pitch1結構為300-400pitch，高度為40-50um，頂峰進入所述貼合膠層5-8um深度，作為與所述貼合膠層的貼合結構。
14、優(yōu)選的，所述pitch2結構為40-50pitch，高度為20-40um，為連續(xù)的圓弧狀且圓弧直徑為20um，從而形成蜂窩結構。
15、基于上述方案，本專利技術還提出了一種抗光幕布的制備方式，包括以下步驟：
16、步驟一，在所述偏光片上表面涂布一層所述半球形蜂窩微結構，所述半球形蜂窩結構的中間有一個大的所述pitch1結構作為支撐而與貼合膠層接觸貼合，此結構相鄰pitch為300-400um,高度40-50um，中間分布小的所述pitch2結構的半球形蜂窩結構；
17、步驟二，在所述半球形蜂窩微結構上用特種高粘性配方的uv貼合膠水制成的所述貼合膠層來貼合所述pet層，且所述貼合膠層中分散有粒徑為3-5微米的pmma微珠或者pbma微珠，所述pitch1結構的頂峰進入所述貼合膠層5-8um深度，pmma微珠或者pbma微珠使所述復合膠層霧度達到10％-60％，優(yōu)選20％-40％，特種高粘性配方的uv貼合膠水中添加微珠的主要目的是消除偏光片泛彩的問題以及通過膠層霧度來改善三色投影主機投射下的散斑問題，偏光片背面直接制作菲涅爾結構及反射層；
18、步驟三，在所述pet層表面涂布線性結構或普通擴散或硬化結構的其中一種作為所述正面結構；
19、步驟四，在所述偏光片背面直接制作所述菲涅爾結構及反射層。
20、另外一種技術方案中：
21、優(yōu)選的，所述貼合膠層的膠水中不含微珠。
22、優(yōu)選的，所述偏光片表面的微結構為38-100pitch的柱狀微結構，高度為10-30um，r角為20°，所述柱狀微結構的頂峰進入所述貼合膠層2-3um深度。
23、基于上述方案，本專利技術還提出了一種抗光幕布的制備方式，包括以下步驟：
24、步驟一，在所述偏光片上表面涂布一層高度為10-30um，結構pitch為38-100um的柱狀微結構；
25、步驟二，使用噴砂機對結構表面進行噴砂霧化處理，噴砂機噴射出玻璃珠砂材的細砂，連續(xù)不斷的玻璃珠砂材均勻的撞擊在微凹結構表面，在微結構下凹的弧面上就會形成不規(guī)則的凹坑，使其達到一定的霧度，滿足霧化及遮蔽效果，主要目的是通過霧化效果消除偏光片泛彩的問題；
26、步驟二，在所述柱狀微結構上用特種高粘性配方的uv貼合膠水制成的所述貼合膠層來貼合所述pet層，且所述貼合膠層中不含微珠，所述柱狀微結構的頂峰進入所述貼合膠層2-3um深度；
27、步驟三，在所述pet層表面涂布線性結構或普通擴散或硬化結構的其中一種作為所述正面結構；
28、步驟四，在所述偏光片背面直接制作所述菲涅爾結構及反射層。
29、與現(xiàn)有技術相比，本專利技術提供了一種抗光幕布及其制備方式，具備以下
30、有益效果：
31、本專利技術通過偏光片層吸收環(huán)境光中的s光及雜光來達到足夠好的抗光效果，以及保證抗光效果的條件下，增益最大化，通過中間的微結構層設計來消除偏光片的泛彩現(xiàn)象，以及提升幕布的視角及抗散斑效果。
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1.一種抗光幕布，其特征在于，由上至下依次包括：
2.根據(jù)權利要求1所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述貼合膠層的膠水中分散有PMMA微珠或者PBMA微珠，且微珠的粒徑為3-5微米。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述偏光片表面的微結構為pitch1結構與pitch2結構構成的半球形蜂窩微結構。
4.根據(jù)權利要求3所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述pitch1結構為300-400pitch，高度為40-50um，頂峰進入所述貼合膠層5-8um深度，作為與所述貼合膠層的貼合結構。
5.根據(jù)權利要求3所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述pitch2結構為40-50pitch，高度為20-40um，為連續(xù)的圓弧狀且圓弧直徑為20um，從而形成蜂窩結構。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述貼合膠層的膠水中不含微珠。
7.根據(jù)權利要求6所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述偏光片表面的微結構為38-100pitch的柱狀微結構，高度為10-30um，R角為20°，所述柱狀微結構的
8.一種抗光幕布的制備方式，根據(jù)權利要求5所述的一種抗光幕布，其特征在于，包括以下步驟：
9.一種抗光幕布的制備方式，根據(jù)權利要求7所述的一種抗光幕布，其特征在于，包括以下步驟：
...【技術特征摘要】
1.一種抗光幕布，其特征在于，由上至下依次包括：
2.根據(jù)權利要求1所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述貼合膠層的膠水中分散有pmma微珠或者pbma微珠，且微珠的粒徑為3-5微米。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述偏光片表面的微結構為pitch1結構與pitch2結構構成的半球形蜂窩微結構。
4.根據(jù)權利要求3所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述pitch1結構為300-400pitch，高度為40-50um，頂峰進入所述貼合膠層5-8um深度，作為與所述貼合膠層的貼合結構。
5.根據(jù)權利要求3所述的一種抗光幕布，其特征在于：所述pitch...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：潘家鑫，周鵬，沈淵，曹建，肖成瑤，
申請(專利權)人：凱鑫森上海功能性薄膜產業(yè)股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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