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【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體,尤其涉及一種擺閥及薄膜沉積設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、擺動型調(diào)壓閥(簡稱擺閥)用于調(diào)節(jié)反應(yīng)腔室壓力,是hdp?cvd設(shè)備(high-densityplasma?chemical?vapor?deposition,高密度等離子體化學(xué)氣相沉積)的關(guān)鍵零部件之一。反應(yīng)腔內(nèi)壓力作為影響薄膜沉積速率及濺射速率的重要影響因素,通常可通過快速、精準(zhǔn)地控制閥板開度,調(diào)節(jié)高真空管路的流導(dǎo),最終實現(xiàn)快速穩(wěn)定地調(diào)控反應(yīng)腔室壓力。同時擺閥還具備隔離關(guān)斷功能,在反應(yīng)腔室進(jìn)行清洗操作時,較大的腔室壓力會造成分子泵過載,因此需要通過擺閥內(nèi)部密封環(huán)與閥板、閥體進(jìn)行密封,進(jìn)而將反應(yīng)腔室與分子泵進(jìn)行隔離。復(fù)雜的擺閥內(nèi)部結(jié)構(gòu)導(dǎo)致設(shè)備維護(hù)周期較長,如果擺閥在使用過程中頻繁出現(xiàn)問題會嚴(yán)重影響機(jī)臺產(chǎn)能。目前,在hdp設(shè)備薄膜沉積工藝過程中,長時間的高濃度氟離子腐蝕以及頻繁的擺閥開關(guān)動作導(dǎo)致密封環(huán)側(cè)壁的o型密封圈表層容易因腐蝕、摩擦而脫落,并在脫落位置逐漸形成裂紋源,在閥門反復(fù)開關(guān)動作下最終導(dǎo)致動密封失效,產(chǎn)生內(nèi)漏。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的實施例提供了一種擺閥及薄膜沉積設(shè)備,旨在解決現(xiàn)有的擺閥的o型密封圈頻繁開關(guān)導(dǎo)致動密封失效的問題。
2、第一方面,本專利技術(shù)提供了一種擺閥,包括:閥體、密封環(huán)和密封組件,所述密封環(huán)可上下移動地設(shè)于所述閥體中,所述密封環(huán)朝向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè)開設(shè)有密封槽,所述密封組件設(shè)于所述密封槽中,所述密封組件包括第一密封體,所述第一密封體與所述閥體內(nèi)壁抵接形成動密封;
...【技術(shù)保護(hù)點】
1.一種擺閥,其特征在于,包括:閥體、密封環(huán)和密封組件,所述密封環(huán)可上下移動地設(shè)于所述閥體中,所述密封環(huán)朝向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè)開設(shè)有密封槽,所述密封組件設(shè)于所述密封槽中,所述密封組件包括第一密封體,所述第一密封體與所述閥體內(nèi)壁抵接形成動密封;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擺閥,其特征在于,所述閥體上開設(shè)有上下貫通的法蘭口,所述閥體可水平旋轉(zhuǎn)地設(shè)于所述閥體中以開閉所述法蘭口,所述閥體上開設(shè)有吹掃氣道,所述吹掃氣道連通外界與所述閥體內(nèi)部,所述吹掃氣道的出氣方向指向所述法蘭口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的擺閥,其特征在于,所述閥體內(nèi)部遠(yuǎn)離所述法蘭口的一側(cè)的壓力大于所述法蘭口一側(cè)的壓力。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的擺閥,其特征在于,所述密封組件還包括第二密封體和固定環(huán),所述固定環(huán)設(shè)于所述密封槽中,所述第二密封環(huán)固設(shè)于所述固定環(huán)背向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè),所述第一密封環(huán)固設(shè)于所述固定環(huán)朝向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的擺閥,其特征在于,所述固定環(huán)的上表面與所述密封槽的上槽面緊密貼合,所述固定環(huán)的下表面與所述密封槽的下槽面緊密貼合
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的擺閥,其特征在于,所述固定環(huán)朝向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè)開設(shè)有固定槽,所述第二密封體固設(shè)于所述固定槽中。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的擺閥,其特征在于,所述固定槽包括上水平槽面、下水平槽面和豎直槽面,所述上水平槽面與所述下水平槽面平行相間,所述豎直槽面分別豎直連接所述上水平槽面和所述下水平槽面;其中,所述第一密封體分別與所述上水平槽面、所述下水平槽面和所述豎直槽面呈面接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的擺閥,其特征在于,所述第一密封體為多邊形密封圈;和/或,所述第二密封體為O型密封圈。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的擺閥,其特征在于,所述固定環(huán)由聚四氟乙烯制成。
10.一種薄膜沉積設(shè)備,其特征在于,包括反應(yīng)腔、分子泵、擺閥、氣動閥和針閥,所述擺閥為權(quán)利要求2-9任一項所述的擺閥,所述反應(yīng)腔與所述擺閥連接,所述擺閥通過其法蘭口與所述分子泵連通,所述氣動閥、所述針閥與所述擺閥依次連接;其中,吹掃氣體依次經(jīng)所述氣動閥、所述針閥、所述擺閥的吹掃氣道、所述分子泵排出。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種擺閥,其特征在于,包括:閥體、密封環(huán)和密封組件,所述密封環(huán)可上下移動地設(shè)于所述閥體中,所述密封環(huán)朝向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè)開設(shè)有密封槽,所述密封組件設(shè)于所述密封槽中,所述密封組件包括第一密封體,所述第一密封體與所述閥體內(nèi)壁抵接形成動密封;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擺閥,其特征在于,所述閥體上開設(shè)有上下貫通的法蘭口,所述閥體可水平旋轉(zhuǎn)地設(shè)于所述閥體中以開閉所述法蘭口,所述閥體上開設(shè)有吹掃氣道,所述吹掃氣道連通外界與所述閥體內(nèi)部,所述吹掃氣道的出氣方向指向所述法蘭口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的擺閥,其特征在于,所述閥體內(nèi)部遠(yuǎn)離所述法蘭口的一側(cè)的壓力大于所述法蘭口一側(cè)的壓力。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的擺閥,其特征在于,所述密封組件還包括第二密封體和固定環(huán),所述固定環(huán)設(shè)于所述密封槽中,所述第二密封環(huán)固設(shè)于所述固定環(huán)背向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè),所述第一密封環(huán)固設(shè)于所述固定環(huán)朝向所述閥體內(nèi)壁的一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的擺閥,其特征在于,所述固定環(huán)的上表面與所述密封槽的上槽面緊密貼合,所述固定環(huán)的下表面...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:姜宏亮,李欽波,
申請(專利權(quán))人:拓荊創(chuàng)益沈陽半導(dǎo)體設(shè)備有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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