【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于打印吸附設備領域，具體涉及一種具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺及運行方法。
技術介紹
1、真空皮帶機構是用于使打印介質以高速移動穿過打印區的引入器件。現有技術真空皮帶機構典型地包括循環皮帶，循環皮帶在被定位在打印區的上游的第一滾輪與被定位在打印區的下游的第二滾輪之間張緊。打印頭組件被定位在皮帶的上表面之上，而真空風機被定位在皮帶下方以用于將打印介質抽吸到上表面上。
2、比如，授權公布號為cn108016832a的專利技術專利申請公開的用于打印系統的托盤輸送器內的真空機構，包括：軌道（皮帶）；托盤，用于支撐打印基底并在所述軌道上移動；和真空機構，用于在所述托盤處選擇性地施加真空，使得施加在所述托盤處的所述真空的界限與所述打印基底的邊緣同步。
3、真空機構的設置，需要在上層的皮帶下方設置支撐板，在支撐板上開設負壓通道，用于連接負壓氣源，為保證吸附的有效性，支撐板需要盡可能的靠近上層皮帶，然而，當皮帶上方放置待打印的部件后，皮帶因受到重力及吸附力的雙重作用下，很可能與支撐板接觸，導致皮帶與支撐板之間產生較大的摩擦力，進而引起皮帶磨損加劇、動力消耗增加、輸送不穩定等問題。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于提供一種具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺及運行方法，以解決現有真空皮帶機構存在的皮帶與支撐板之間摩擦大、皮帶磨損加劇、動力消耗大、輸送不穩定等問題。
2、為了實現上述目的，本專利技術的技術方案如下：
3、本專利技術涉及
4、優選地，所述的正壓氣槽設置多組，每組正壓氣槽均包括多個正壓氣槽，所述的負壓氣槽設置于相鄰的兩組正壓氣槽之間。
5、優選地，同組正壓氣槽中的多個正壓氣槽按照對稱結構的方式進行分布，且各正壓氣槽的寬度按照分布位置從中間向兩邊逐漸減小。
6、優選地，所述的負壓氣槽的寬度大于任意一個正壓氣槽的寬度。
7、優選地，所述的正壓氣槽的槽口處設有壓力傳感器和控制閥，所述的壓力傳感器用于檢測正壓氣槽內的壓力，所述的控制閥用于調整正壓氣槽內的壓力。
8、本專利技術還涉及一種具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺的運行方法，其包括：啟動輥輪帶動皮帶運轉；啟動負壓氣源，負壓氣源通過負壓氣槽給皮帶的透氣孔提供吸附負壓，用于真空吸附皮帶上的器件；與此同時，啟動正壓氣源，正壓氣源通過正壓氣槽在上層皮帶和支撐板之間形成減摩氣膜，用于減少皮帶與支撐板之間的摩擦。
9、優選地，所述的正壓氣槽的槽口處設有壓力傳感器和控制閥，啟動正壓氣源后，壓力傳感器檢測正壓氣槽內的壓力，控制閥基于正壓氣槽內的實際壓力值和設計壓力值偏差，調整正壓氣槽內的壓力。
10、采用本專利技術提供的技術方案，與現有技術相比，具有如下有益效果：
11、本專利技術涉及的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺在傳統的真空皮帶機構的基礎上，在支撐板上設置了正壓氣槽，正壓氣槽與正壓氣源連接，用于在上層皮帶和支撐板之間形成減摩氣膜，即增設了正壓系統，當開啟正壓氣源時，壓縮空氣通過氣槽進入皮帶與支撐板之間的空間，形成一層減摩氣膜，顯著減少了皮帶與支撐板之間的摩擦力，提高了皮帶的使用壽命，減少了能量消耗，提高了輸送效率，改善了系統的穩定性和可靠性。
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1.一種具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其包括兩個輥輪和皮帶，皮帶的兩端分別張緊連接于兩個輥輪上，皮帶上間隔設置有透氣孔，上層皮帶的下方設有支撐板，支撐板上設有負壓氣槽，負壓氣槽與負壓氣源連接，用于給皮帶的透氣孔提供吸附負壓，其特征在于：所述的支撐板上還設有正壓氣槽，正壓氣槽與正壓氣源連接，用于在上層皮帶和支撐板之間形成減摩氣膜。
2.根據權利要求1所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其特征在于：所述的正壓氣槽設置多組，每組正壓氣槽均包括多個正壓氣槽，所述的負壓氣槽設置于相鄰的兩組正壓氣槽之間。
3.根據權利要求2所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其特征在于：同組正壓氣槽中的多個正壓氣槽按照對稱結構的方式進行分布，且各正壓氣槽的寬度按照分布位置從中間向兩邊逐漸減小。
4.根據權利要求1所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其特征在于：所述的負壓氣槽的寬度大于任意一個正壓氣槽的寬度。
5.根據權利要求1所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其特征在于：所述的正壓氣槽的槽口處設有壓力傳感器和控制閥，所述的壓力傳
6.一種權利要求1所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺的運行方法，其特征在于：其包括：啟動輥輪帶動皮帶運轉；啟動負壓氣源，負壓氣源通過負壓氣槽給皮帶的透氣孔提供吸附負壓，用于真空吸附皮帶上的器件；與此同時，啟動正壓氣源，正壓氣源通過正壓氣槽在上層皮帶和支撐板之間形成減摩氣膜，用于減少皮帶與支撐板之間的摩擦。
7.根據權利要求6所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺的運行方法，其特征在于：所述的正壓氣槽的槽口處設有壓力傳感器和控制閥，啟動正壓氣源后，壓力傳感器檢測正壓氣槽內的壓力，控制閥基于正壓氣槽內的實際壓力值和設計壓力值偏差，調整正壓氣槽內的壓力。
...【技術特征摘要】
1.一種具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其包括兩個輥輪和皮帶，皮帶的兩端分別張緊連接于兩個輥輪上，皮帶上間隔設置有透氣孔，上層皮帶的下方設有支撐板，支撐板上設有負壓氣槽，負壓氣槽與負壓氣源連接，用于給皮帶的透氣孔提供吸附負壓，其特征在于：所述的支撐板上還設有正壓氣槽，正壓氣槽與正壓氣源連接，用于在上層皮帶和支撐板之間形成減摩氣膜。
2.根據權利要求1所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其特征在于：所述的正壓氣槽設置多組，每組正壓氣槽均包括多個正壓氣槽，所述的負壓氣槽設置于相鄰的兩組正壓氣槽之間。
3.根據權利要求2所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其特征在于：同組正壓氣槽中的多個正壓氣槽按照對稱結構的方式進行分布，且各正壓氣槽的寬度按照分布位置從中間向兩邊逐漸減小。
4.根據權利要求1所述的具有減摩正壓氣膜的真空皮帶輸送平臺，其特征在于：所述的負壓氣槽的寬度大于...
【專利技術屬性】
技術研發人員：黃偉生，朱凡，張震，
申請(專利權)人：愛司凱科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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