【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及鍍膜裝置，尤其涉及一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置。
技術介紹
1、真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，mbe分子束外延，pld激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
2、現有的鍍膜裝置在使用過程中，內部容易堆積雜質，在使用完成后，需要人工使用清潔工具進行手動清刷，操作繁瑣，費時費力，清潔效率低下，為此，本專利技術提出了一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置。
技術實現思路
1、針對現有技術的不足，本專利技術提供了一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，解決了上述
技術介紹
提出的問題。
2、為實現以上目的，本專利技術通過以下技術方案予以實現：一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，包括支撐板，所述支撐板的上端設置有真空鍍膜裝置主體，所述真空鍍膜裝置主體的一側設置有防護門，所述真空鍍膜裝置主體和防護門之間設置有門鎖，所述真空鍍膜裝置主體的上端設置有真空泵，所述真空鍍膜裝置主體的外側設置有電弧靶和控制柜，所述支撐板的底部設置有底座，所述真空鍍膜裝置主體的內部設置有清理組件和移動座，所述移動座的底部設置有滾輪，所述移動座與真空鍍膜裝置主體之間設置有掛件旋轉組件，所述移動座的上端設置有掛架，所述移動座與掛架之間設置有掛架自旋轉組件；
3、所述清理組件包括升降電機，所述升降電機的輸出端連接有升降螺桿，所述真空鍍膜裝置主體的內部設置有升降架，所述升降架的中部設置有螺紋孔，所述升降架的上端設置
4、作為本專利技術進一步的技術方案，所述支撐板與真空鍍膜裝置主體之間為固定連接，所述真空鍍膜裝置主體與防護門之間設置有合頁，所述真空泵的輸入端與真空鍍膜裝置主體的內部相連通，所述電弧靶的數量為若干組并呈陣列分布，所述控制柜的內部設置有控制電路板與電源模塊。
5、作為本專利技術進一步的技術方案，所述升降電機的輸出端與升降螺桿之間為固定連接，所述升降螺桿與螺紋孔之間相適配，所述旋轉座與滑塊之間為固定連接，所述旋轉座為圓環結構，所述滑槽與滑塊之間相適配。
6、作為本專利技術進一步的技術方案，所述清理刷與旋轉座之間為固定連接，所述清理刷與真空鍍膜裝置主體的內壁相接觸，所述安裝架與旋轉座之間為固定連接，所述旋轉電機一的輸出端與旋轉齒輪之間為固定連接，所述旋轉齒輪與齒槽之間相嚙合。
7、作為本專利技術進一步的技術方案，所述掛件旋轉組件包括連接座，所述連接座的底部固定連接有驅動電機，所述驅動電機的輸出端固定連接有定位座，所述移動座的底部開設有與定位座之間相適配的定位槽。
8、作為本專利技術進一步的技術方案，所述真空鍍膜裝置主體的中部設置有電動伸縮桿，所述電動伸縮桿的輸出端與連接座之間進行連接，所述連接座的中部開設有導向孔，所述支撐板的底部固定連接有與導向孔之間相適配的導向桿，所述導向桿的底部固定連接有限位塊。
9、作為本專利技術進一步的技術方案，所述掛架自旋轉組件包括軸承座，所述掛架的外側固定連接有從動齒輪，所述移動座的內部開設有內腔，所述內腔的內部設置有旋轉電機二，所述旋轉電機二與內腔之間為固定連接。
10、作為本專利技術進一步的技術方案，所述旋轉電機二的輸出端固定連接有主動齒輪，所述旋轉電機二和主動齒輪的數量均與掛架的數量相等，所述主動齒輪與從動齒輪之間相嚙合。
11、本專利技術提供了一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置。與現有技術相比具備以下有益效果：
12、1、本設計一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，通過清理組件的設置，在真空鍍膜裝置主體的內壁需要清理時，通過升降電機的輸出端帶動升降螺桿沿著螺紋孔的內部進行旋轉，使得升降架帶動旋轉座下降，在下降過程中，使得旋轉電機一的輸出端帶動旋轉齒輪沿著齒槽的內部進行嚙合，使得齒槽帶動旋轉座進行旋轉，同時帶動清理刷沿著真空鍍膜裝置主體的內壁進行旋轉，從而對真空鍍膜裝置主體的內部進行旋轉清理，無需人工手動進行真空鍍膜裝置主體內部的清刷，省時省力，提高清理效率。
13、2、本設計一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，通過掛件旋轉組件的設置，在移動座需要旋轉時，通過電動伸縮桿的輸出端帶動連接座上升，使得導向孔沿著導向桿的外側進行滑動，進一步使得連接座帶動驅動電機和定位座與定位槽之間相卡合，啟動驅動電機，使得驅動電機的輸出端帶動定位座和移動座進行旋轉，使得移動座上端的若干組掛架和掛件進行旋轉，進行鍍膜操作，提高其鍍膜效率。
14、3、本設計一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，通過掛架自旋轉組件的設置，在掛架需要自旋轉時，通過旋轉電機二的輸出端帶動主動齒輪與從動齒輪進行嚙合，使得從動齒輪帶動掛架沿著軸承座的內部進行旋轉，進一步帶動掛架外側的掛件進行旋轉，使得掛件能夠進行均勻鍍膜。
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1.一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，包括支撐板(1)，其特征在于，所述支撐板(1)的上端設置有真空鍍膜裝置主體(2)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的一側設置有防護門(3)，所述真空鍍膜裝置主體(2)和防護門(3)之間設置有門鎖(4)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的上端設置有真空泵(5)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的外側設置有電弧靶(6)和控制柜(7)，所述支撐板(1)的底部設置有底座(8)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的內部設置有清理組件(9)和移動座(10)，所述移動座(10)的底部設置有滾輪(11)，所述移動座(10)與真空鍍膜裝置主體(2)之間設置有掛件旋轉組件(13)，所述移動座(10)的上端設置有掛架(12)，所述移動座(10)與掛架(12)之間設置有掛架自旋轉組件(14)；
2.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述支撐板(1)與真空鍍膜裝置主體(2)之間為固定連接，所述真空鍍膜裝置主體(2)與防護門(3)之間設置有合頁，所述真空泵(5)的輸入端與真空鍍膜裝置主體(2)的內部相連通，所述電弧靶(6)的數量為若干組并呈陣列分布，所
3.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述升降電機(91)的輸出端與升降螺桿(92)之間為固定連接，所述升降螺桿(92)與螺紋孔(94)之間相適配，所述旋轉座(95)與滑塊(96)之間為固定連接，所述旋轉座(95)為圓環結構，所述滑槽(97)與滑塊(96)之間相適配。
4.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述清理刷(98)與旋轉座(95)之間為固定連接，所述清理刷(98)與真空鍍膜裝置主體(2)的內壁相接觸，所述安裝架(910)與旋轉座(95)之間為固定連接，所述旋轉電機一(911)的輸出端與旋轉齒輪(912)之間為固定連接，所述旋轉齒輪(912)與齒槽(99)之間相嚙合。
5.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述掛件旋轉組件(13)包括連接座(131)，所述連接座(131)的底部固定連接有驅動電機(132)，所述驅動電機(132)的輸出端固定連接有定位座(133)，所述移動座(10)的底部開設有與定位座(133)之間相適配的定位槽(134)。
6.根據權利要求5所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述真空鍍膜裝置主體(2)的中部設置有電動伸縮桿(135)，所述電動伸縮桿(135)的輸出端與連接座(131)之間進行連接，所述連接座(131)的中部開設有導向孔(136)，所述支撐板(1)的底部固定連接有與導向孔(136)之間相適配的導向桿(137)，所述導向桿(137)的底部固定連接有限位塊(138)。
7.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述掛架自旋轉組件(14)包括軸承座(141)，所述掛架(12)的外側固定連接有從動齒輪(142)，所述移動座(10)的內部開設有內腔(143)，所述內腔(143)的內部設置有旋轉電機二(144)，所述旋轉電機二(144)與內腔(143)之間為固定連接。
8.根據權利要求7所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述旋轉電機二(144)的輸出端固定連接有主動齒輪(145)，所述旋轉電機二(144)和主動齒輪(145)的數量均與掛架(12)的數量相等，所述主動齒輪(145)與從動齒輪(142)之間相嚙合。
...【技術特征摘要】
1.一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，包括支撐板(1)，其特征在于，所述支撐板(1)的上端設置有真空鍍膜裝置主體(2)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的一側設置有防護門(3)，所述真空鍍膜裝置主體(2)和防護門(3)之間設置有門鎖(4)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的上端設置有真空泵(5)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的外側設置有電弧靶(6)和控制柜(7)，所述支撐板(1)的底部設置有底座(8)，所述真空鍍膜裝置主體(2)的內部設置有清理組件(9)和移動座(10)，所述移動座(10)的底部設置有滾輪(11)，所述移動座(10)與真空鍍膜裝置主體(2)之間設置有掛件旋轉組件(13)，所述移動座(10)的上端設置有掛架(12)，所述移動座(10)與掛架(12)之間設置有掛架自旋轉組件(14)；
2.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述支撐板(1)與真空鍍膜裝置主體(2)之間為固定連接，所述真空鍍膜裝置主體(2)與防護門(3)之間設置有合頁，所述真空泵(5)的輸入端與真空鍍膜裝置主體(2)的內部相連通，所述電弧靶(6)的數量為若干組并呈陣列分布，所述控制柜(7)的內部設置有控制電路板與電源模塊。
3.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述升降電機(91)的輸出端與升降螺桿(92)之間為固定連接，所述升降螺桿(92)與螺紋孔(94)之間相適配，所述旋轉座(95)與滑塊(96)之間為固定連接，所述旋轉座(95)為圓環結構，所述滑槽(97)與滑塊(96)之間相適配。
4.根據權利要求1所述的一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，其特征在于，所述清理刷(98)與旋轉座(95)之間為固定連接，所述清理刷(98)與真空鍍膜裝置...
【專利技術屬性】
技術研發人員：郭書周，
申請(專利權)人：伊特克斯惰性氣體系統北京有限公司，
類型：發明
國別省市：
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