【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及顯示處理裝置、基板處理裝置、顯示方法、基板處理方法、半導(dǎo)體器件的制造方法及記錄介質(zhì)。
技術(shù)介紹
1、以往，如專利文獻(xiàn)1所記載那樣，已知在對配方等文件進(jìn)行編輯的情況下明確針對設(shè)定項目有無變更的技術(shù)。
2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
3、專利文獻(xiàn)
4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2001-189248號公報
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)提供一種在顯示處理裝置中的文件編輯操作中，能夠容易確定基板處理裝置中利用的有效的設(shè)定項目所涉及的信息的技術(shù)。
2、根據(jù)本專利技術(shù)的一個方案，提供一種技術(shù)，具備：存儲部，其存儲文件，上述文件具有將基板的處理條件分類為多個類別并按各個上述類別的每一個設(shè)置的多個項目及針對上述項目的設(shè)定值、和表示上述項目的上述設(shè)定值是否有效的有效有無信息；顯示部，其在畫面上按每個上述類別顯示按上述類別分類的上述項目的上述有效有無信息和上述設(shè)定值；以及操作部，其進(jìn)行顯示在上述畫面上的上述有效有無信息的編輯操作。
3、專利技術(shù)效果
4、根據(jù)本專利技術(shù)，能夠在顯示處理裝置中的文件編輯操作中，容易確定基板處理裝置中利用的有效的設(shè)定項目所涉及的信息。
【技術(shù)保護點】
1.一種顯示處理裝置，其特征在于，具備：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示處理裝置，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示處理裝置，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示處理裝置，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示處理裝置，其特征在于，
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示處理裝置，其特征在于，
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示處理裝置，其特征在于，
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示處理裝置，其特征在于，
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示處理裝置，其特征在于，
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示處理裝置，其特征在于，
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示處理裝置，其特征在于，
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示處理裝置，其特征在于，
13.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：
14.一種顯示方法，其特征在于，具有：
15.一種基板處理方法，其特征在于，
16.一種半導(dǎo)體器件的制造方法，其特征在于，
17.一種記
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種顯示處理裝置，其特征在于，具備：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示處理裝置，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示處理裝置，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示處理裝置，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示處理裝置，其特征在于，
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示處理裝置，其特征在于，
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示處理裝置，其特征在于，
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示處理裝置，其特征在于，
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示處理裝置，...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：森真一朗，
申請(專利權(quán))人：株式會社國際電氣，
類型：發(fā)明
國別省市：
還沒有人留言評論。發(fā)表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。