【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種薄膜光掩膜以及薄膜光掩膜的制造方法。
技術介紹
1、伴隨著科學的發展，出現了多種顯示裝置，而最近出現了利用半導體的顯示裝置。作為其中之一，可以以有機發光二極管(oled，organic?light?emitting?diode)為例，oled利用有機物進行驅動，且可以在不需要單獨光源的情況下由有機物自身發光。傳統的顯示裝置即液晶顯示屏(lcd，liquid?crystal?display)需要背光，但是有機發光二極管不需要背光，因此可以制作成更加輕薄的狀態。此外，oled與lcd相比還具有反應速度較快以及電力消耗較低的優點。
2、制作包括有機發光二極管(oled)在內的最新顯示裝置的工程中包括沉積(evaporation)工程，而沉積工程包括將需要進行沉積的物質蒸發成氣體形態并以薄膜的形態粘附到基板表面的工程。
3、在所述沉積工程中，當在基板上形成有機物公共層時使用開口金屬掩膜(openmetal?mask)，所述開口金屬掩膜可以制作成一體型，也可以由多個掩膜條組裝而成。
4、掩膜條是通過對如因瓦合金等熱膨脹系數極低的材料執行光刻工程而制成，而在所述光刻工程的曝光過程中可以使用薄膜光掩膜。
5、與使用一體型的開口金屬掩膜的情況相比，可以通過利用掩膜條制造多個顯示裝置以及更加大型的顯示裝置。掩膜條是利用光掩膜用薄膜材料片進行制造。光掩膜用薄膜材料片僅由幾家企業以有限的尺寸進行制造和銷售，而掩膜條的長度被限制在掩膜用薄膜材料片的長度以內。雖然掩膜條的長度受限于光掩膜用
6、此外，在先行技術文獻2即日本公開專利特開平第11-30851號中公開了一種通過在光掩膜用薄膜材料片中形成圖案而制作出薄膜型光掩膜的構成，但是并沒有提出制作掩膜條的內容。
7、在現有技術中，存在無法利用大小受限的光掩膜用薄膜材料片制作出用于形成逐漸大型化的基板以及有機物公共層的開口金屬掩膜的問題。
8、先行技術文獻
9、專利文獻
10、(專利文獻0001)韓國注冊專利第10-2427523號
11、(專利文獻0002)日本公開專利特開平第11-30851號
技術實現思路
1、為了解決如上所述的問題，本專利技術公開了一種在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的薄膜光掩膜，所述薄膜光掩膜包括：第一薄膜，配備有沿著寬度方向排列的一個以上的第一透過部，所述第一薄膜的長度方向上的長度大于寬度方向上的長度；以及第二薄膜，配備有與所述第一透過部對應的第二透過部；通過在所述第一薄膜的長度方向的兩端中的至少一個上對所述第二薄膜進行接合，從而可以將所述第一透過部與所述第二透過部連續連接并借此形成與所述掩膜條的形狀對應的圖案。
2、此外，本專利技術公開了一種在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的薄膜光掩膜的制造方法，所述制造方法包括：制造配備有沿著寬度方向排列的一個以上的第一透過部的第一薄膜的工程，所述第一薄膜的長度方向上的長度大于寬度方向上的長度；以及制造配備有與所述第一透過部對應的第二透過部的第二薄膜的工程；所述制造方法還包括：在所述第一薄膜的長度方向的兩端中的至少一個上對所述第二薄膜進行接合，以將所述第一透過部與所述第二透過部連續連接并借此形成與所述掩膜條的形狀對應的圖案的工程。
3、即，本專利技術的目的在于提供一種通過對互不相同的第一薄膜以及第二薄膜進行接合而制造長度大于一個光掩膜用薄膜材料片的長度的掩膜條的光掩膜以及光掩膜的制造方法。
4、為了達成如上所述的目的，根據本專利技術的實施例的一種在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的薄膜光掩膜，所述薄膜光掩膜可以包括：第一薄膜，配備有沿著寬度方向排列的一個以上的第一透過部，所述第一薄膜的長度方向上的長度大于寬度方向上的長度；以及，第二薄膜，配備有與所述第一透過部對應的第二透過部；所述第二薄膜在所述第一薄膜的長度方向的兩端中的至少一個上進行接合，從而將所述第一透過部與所述第二透過部連續連接并借此形成與所述掩膜條的形狀對應的圖案。
5、此外，所述第二薄膜可以為矩形形狀。
6、此外，所述第二薄膜可以在沒有配備所述第二透過部的寬度方向的兩端部中的至少一個上具有長度方向上的凸出部。
7、此外，所述第一薄膜可以為矩形形狀。
8、此外，所述第一薄膜可以為在所述矩形形狀上對一個以上的邊角進行倒角的形狀。
9、此外，所述第一薄膜與所述第二薄膜可以通過粘合劑或膠帶進行接合。
10、此外，所述第一薄膜與所述第二薄膜可以分別配備對齊標志。
11、此外，所述第一薄膜與所述第二薄膜可以是從同一個光掩膜用薄膜材料片上獲得的。
12、此外，與所述掩膜條的形狀對應的圖案的長度方向上的長度可以為2.8～3.2m。
13、此外，用于制造所述第一薄膜或所述第二薄膜的光掩膜用薄膜材料片可以為矩形形狀，而且所述矩形形狀的一個邊的長度可以為1612～2450mm。
14、進而，根據本專利技術的又一實施例的一種在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的薄膜光掩膜的制造方法，所述制造方法可以包括：制造配備有沿著寬度方向排列的一個以上的第一透過部的第一薄膜的工程，所述第一薄膜的長度方向上的長度大于寬度方向上的長度；以及制造配備有與所述第一透過部對應的第二透過部的第二薄膜的工程；所述制造方法還包括：在所述第一薄膜的長度方向的兩端中的至少一個上對所述第二薄膜進行接合，以將所述第一透過部與所述第二透過部連續連接并借此形成與所述掩膜條的形狀對應的圖案的工程。
15、此外，所述第二薄膜可以為矩形形狀。
16、此外，所述第二薄膜可以在沒有配備所述第二透過部的寬度方向的兩端部中的至少一個上具有長度方向上的凸出部。
17、此外，所述第一薄膜可以為矩形形狀。
18、此外，所述第一薄膜可以為在所述矩形形狀上對一個以上的邊角進行倒角的形狀。
19、此外，所述第一薄膜與所述第二薄膜可以通過粘合劑或膠帶進行接合。
20、此外，所述第一薄膜與所述第二薄膜可以分別配備對齊標志。
21、此外，制造第一薄膜的工程還可以包括：沿著光掩膜用薄膜材料片的對角線方向配置所述第一薄膜的長度方向的步驟。
22、此外，制造第二薄膜的工程還可以包括：在所述光掩膜用薄膜材料片中本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種薄膜光掩模，所述薄膜光掩模作為在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的薄膜光掩膜，所述薄膜光掩模包括：
2.根據權利要求1所述的薄膜光掩模，其中，
3.根據權利要求1所述的薄膜光掩模，其中，
4.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
5.根據權利要求4所述的薄膜光掩模，其中，
6.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
7.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
8.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
9.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
10.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
11.一種薄膜光掩模的制造方法，所述薄膜光掩模作為在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的薄膜光掩膜，所述制造方法包括：
12.根據權利要求11所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
13
14.根據權利要求11至權利要求13中的任一項所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
15.根據權利要求14所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
16.根據權利要求11至權利要求13中的任一項所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
17.根據權利要求11至權利要求13中的任一項所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
18.根據權利要求11至權利要求13中的任一項所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
19.根據權利要求18所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
20.根據權利要求11至權利要求13中的任一項所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
21.根據權利要求11至權利要求13中的任一項所述的薄膜光掩模的制作方法，其中，
...【技術特征摘要】
1.一種薄膜光掩模，所述薄膜光掩模作為在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的薄膜光掩膜，所述薄膜光掩模包括：
2.根據權利要求1所述的薄膜光掩模，其中，
3.根據權利要求1所述的薄膜光掩模，其中，
4.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
5.根據權利要求4所述的薄膜光掩模，其中，
6.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
7.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
8.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
9.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
10.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的薄膜光掩模，其中，
11.一種薄膜光掩模的制造方法，所述薄膜光掩模作為在用于制造構成開口金屬掩膜的掩膜條的曝光工程中使用的...
【專利技術屬性】
技術研發人員：柳明勛，李承敃，C·W·洪，
申請(專利權)人：豐元精密株式會社，
類型：發明
國別省市：
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