【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本公開(kāi)內(nèi)容涉及一種用于接觸式清潔系統(tǒng)的輸送器，并且特別地但非排他地涉及一種用于接觸式清潔系統(tǒng)的輸送器，其具有在縮回位置與伸出位置之間可移動(dòng)的入站輸送器和出站輸送器。本公開(kāi)內(nèi)容還涉及一種包括輸送器的接觸式清潔系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
1、接觸式清潔系統(tǒng)通常包括輸送器，該輸送器將待清潔的基板輸送到接觸式清潔輥。接觸式清潔輥具有包括彈性體材料的接觸表面。接觸式清潔輥旋轉(zhuǎn)并且在接觸表面與基板的表面接合時(shí)，接觸表面收集碎屑或其他污染物并且從基板表面去除這些碎屑或其他污染物。
2、現(xiàn)有技術(shù)接觸式清潔系統(tǒng)的示例具有定位在輸送器表面上方的一個(gè)上部接觸式清潔輥組。這些接觸式清潔輥僅在該基板經(jīng)過(guò)這些接觸式清潔輥下方時(shí)清潔基板的上表面。如果基板的上表面和下表面均需要清潔，則必須將基板翻轉(zhuǎn)并沿輸送器再次輸送。翻轉(zhuǎn)基板并將其重新放置在輸送器上需要手動(dòng)操縱基板，這可能導(dǎo)致更多的碎屑被引入到基板表面上。
3、現(xiàn)有技術(shù)接觸式清潔系統(tǒng)的其他示例同時(shí)清潔基板的上表面和下表面。這些接觸式清潔系統(tǒng)還包括定位在輸送器的平面中的一個(gè)下部接觸式清潔輥組。下部接觸式清潔輥組直接定位在上部接觸式清潔輥組下方，使得基板在上部接觸式清潔輥組和下部接觸式清潔輥組之間經(jīng)過(guò)時(shí)上部接觸式清潔輥組和下部接觸式清潔輥組兩者同時(shí)清潔基板的上表面和下表面。入站輸送器將基板朝向接觸式清潔輥輸送，并且基板被傳送到下部接觸式清潔輥上，這些下部接觸式清潔輥在基板經(jīng)過(guò)時(shí)支撐基板。接觸式清潔輥旋轉(zhuǎn)以清潔基板表面并將基板傳送通過(guò)接觸式清潔輥并傳送到出站輸送器上，該出站輸送器將基板背離接觸式清潔輥
4、這些接觸式清潔系統(tǒng)可以在清潔模式下操作，在該清潔模式下，上部接觸式清潔輥組和下部接觸式清潔輥組兩者將接觸基板。它們還可以在回避模式下操作，在該回避模式下，這些下部接觸式清潔輥移離這些輸送器的平面。當(dāng)僅要清潔基板的上表面時(shí)、或者當(dāng)基板要完全回避清潔時(shí)，這可能是期望的。在回避模式下，在基板從入站輸送器傳遞到出站輸送器時(shí)，基板不被支撐。
5、本專利技術(shù)實(shí)施例的目的是至少減輕現(xiàn)有技術(shù)的一個(gè)或多個(gè)問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的多個(gè)方面和實(shí)施例提供了一種如所附權(quán)利要求中要求保護(hù)的一種用于接觸式清潔系統(tǒng)的輸送器和一種接觸式清潔系統(tǒng)。
2、根據(jù)本專利技術(shù)的一方面，提供了一種用于接觸式清潔系統(tǒng)的輸送器，該輸送器包括：入站輸送器；以及出站輸送器，該出站輸送器與入站輸送器間隔開(kāi)距離(a)，其中，入站輸送器和/或出站輸送器相對(duì)于入站輸送器或出站輸送器中的另一者在縮回位置和伸出位置之間可移動(dòng)，在該縮回位置，距離(a)是第一距離(a清潔)，在該伸出位置，距離(a)小于第一距離(a清潔)。
3、有利地，當(dāng)入站輸送器和/或出站輸送器處于伸出位置時(shí)，從入站輸送器輸送到出站輸送器的基板保持由輸送器支撐。
4、在某些實(shí)施例中，入站輸送器和出站輸送器可以被配置為當(dāng)入站輸送器和出站輸送器處于縮回位置時(shí)在其間接納至少一個(gè)接觸式清潔輥。入站輸送器和出站輸送器可以被配置為當(dāng)入站輸送器和出站輸送器處于縮回位置時(shí)在其間接納至少一個(gè)接觸式清潔輥，使得基板在其從入站輸送器輸送到出站輸送器時(shí)可以由至少一個(gè)接觸式清潔輥支撐。
5、有利地，入站輸送器和出站輸送器是可調(diào)節(jié)的，使得在縮回位置，至少一個(gè)接觸式清潔輥可以被接納在其間，并且在伸出位置，入站輸送器和出站輸送器可以支撐基板而沒(méi)有至少一個(gè)接觸式清潔輥介于其間。
6、在某些實(shí)施例中，在縮回位置，入站輸送器、出站輸送器和至少一個(gè)接觸式清潔輥的表面可以共面，使得經(jīng)由該至少一個(gè)接觸式清潔輥從入站輸送器輸送到出站輸送器的基板保持水平。
7、有利地，入站輸送器、出站輸送器和至少一個(gè)接觸式清潔輥沿著水平表面輸送基板。這可以防止對(duì)基板的損壞。
8、在某些實(shí)施例中，當(dāng)入站輸送器和出站輸送器處于伸出位置時(shí)，距離(a)可以小于要支撐在輸送器上的基板的長(zhǎng)度。當(dāng)入站輸送器和出站輸送器處于伸出位置時(shí)，距離(a)可以小于要支撐在輸送器上的基板的長(zhǎng)度，使得當(dāng)基板從入站輸送器輸送到出站輸送器時(shí)，基板可以由入站輸送器和出站輸送器兩者支撐。
9、有利地，可以基于基板的長(zhǎng)度來(lái)選擇或調(diào)節(jié)距離(a)，并且基板將由入站輸送器和出站輸送器支撐而不會(huì)落在這些輸送器之間，基板的掉落可能導(dǎo)致對(duì)基板的損壞。
10、在某些實(shí)施例中，距離(a)可以是處于伸出位置的最小距離(amin)。
11、在某些實(shí)施例中，最小距離(amin)可以是大約0.5mm至大約50mm。優(yōu)選地，最小距離(amin)可以是大約25mm至大約45mm。優(yōu)選地，最小距離(amin)可以是大約30mm至大約40mm，例如大約39mm。
12、在某些實(shí)施例中，距離(a)可以是處于縮回位置的最大距離(amax)。
13、在某些實(shí)施例中，最大距離(amax)可以是大約90mm至大約110mm。優(yōu)選地，最大距離(amax)可以是大約102mm。
14、在某些實(shí)施例中，入站輸送器可以包括入站輸送器張緊機(jī)構(gòu)，該入站輸送器張緊機(jī)構(gòu)被配置為在縮回位置和伸出位置中的每一個(gè)位置中將入站輸送器保持處于拉緊配置。
15、在某些實(shí)施例中，出站輸送器可以包括出站輸送器張緊機(jī)構(gòu)，該出站輸送器張緊機(jī)構(gòu)被配置為在縮回位置和伸出位置中的每一個(gè)位置中將出站輸送器保持處于拉緊配置。
16、在某些實(shí)施例中，入站輸送器和出站輸送器可以包括張緊機(jī)構(gòu)，該張緊機(jī)構(gòu)被配置為在縮回位置和伸出位置中的每一個(gè)位置中將入站輸送器和出站輸送器兩者保持處于拉緊配置。
17、有利地，張緊機(jī)構(gòu)確保在入站輸送器和/或出站輸送器在縮回位置與伸出位置之間移動(dòng)時(shí)，入站輸送器和/或出站輸送器中的每一個(gè)輸送器保持拉緊。
18、在某些實(shí)施例中，張緊機(jī)構(gòu)、入站輸送器張緊機(jī)構(gòu)和/或出站輸送器張緊機(jī)構(gòu)可以包括一系列滑輪，該一系列滑輪被布置為支撐相應(yīng)輸送器，例如處于拉緊配置的入站輸送器或出站輸送器。該一系列滑輪可以附接到入站輸送器的機(jī)架或出站輸送器的機(jī)架。該一系列滑輪中的至少一個(gè)滑輪可以被布置為相對(duì)于入站輸送器的機(jī)架或出站輸送器的機(jī)架在第一位置與第二位置之間移動(dòng)，以便在入站輸送器或出站輸送器移動(dòng)時(shí)將入站輸送器或出站輸送器保持處于拉緊配置。
19、在某些實(shí)施例中，輸送器可以進(jìn)一步包括至少一個(gè)機(jī)械調(diào)節(jié)裝置，該至少一個(gè)機(jī)械調(diào)節(jié)裝置被配置為在縮回位置與伸出位置之間移動(dòng)入站輸送器和/或出站輸送器。
20、在某些實(shí)施例中，輸送器進(jìn)一步包括至少一個(gè)氣動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，該至少一個(gè)氣動(dòng)調(diào)節(jié)裝置被配置為在縮回位置與伸出位置之間移動(dòng)入站輸送器和/或出站輸送器。
21、在某些實(shí)施例中，輸送器進(jìn)一步包括至少一個(gè)機(jī)電調(diào)節(jié)裝置，該至少一個(gè)機(jī)電調(diào)節(jié)裝置被配置為在縮回位置與伸出位置之間移動(dòng)入站輸送器和/或出站輸送器。
22、有利地，可以在縮回位置與伸出位置之間自動(dòng)調(diào)節(jié)入站輸送器和/或出站輸送器的位置，而無(wú)需由操作者進(jìn)行手動(dòng)干預(yù)。...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種用于接觸式清潔系統(tǒng)的輸送器，所述輸送器包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送器，其中，所述入站輸送器和所述出站輸送器被配置為當(dāng)所述入站輸送器和所述出站輸送器處于所述縮回位置時(shí)在其間接納至少一個(gè)接觸式清潔輥。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輸送器，其中，在所述縮回位置，所述入站輸送器、所述出站輸送器和所述至少一個(gè)接觸式清潔輥的表面共面，使得經(jīng)由所述至少一個(gè)接觸式清潔輥從所述入站輸送器輸送到所述出站輸送器的基板保持水平。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，當(dāng)所述入站輸送器和出站輸送器處于所述伸出位置時(shí)，所述距離(A)小于要支撐在所述輸送器上的基板的長(zhǎng)度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述距離(A)是處于所述伸出位置的最小距離(Amin)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述距離(A)是處于所述縮回位置的最大距離(Amax)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述入站輸送器包括入站輸送器張緊機(jī)構(gòu)，所述入站輸送器張緊機(jī)構(gòu)被配置為在所述縮回位置
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述出站輸送器包括出站輸送器張緊機(jī)構(gòu)，所述出站輸送器張緊機(jī)構(gòu)被配置為在所述縮回位置和所述伸出位置中的每一個(gè)位置中將所述出站輸送器保持處于拉緊配置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述輸送器進(jìn)一步包括以下至少一項(xiàng)：機(jī)械調(diào)節(jié)裝置、氣動(dòng)調(diào)節(jié)裝置或機(jī)電調(diào)節(jié)裝置，所述機(jī)械調(diào)節(jié)裝置、氣動(dòng)調(diào)節(jié)裝置或機(jī)電調(diào)節(jié)裝置被配置為在所述縮回位置與所述伸出位置之間移動(dòng)所述入站輸送器和/或所述出站輸送器。
10.一種接觸式清潔系統(tǒng)，包括：
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的接觸式清潔系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述一個(gè)或多個(gè)下部接觸式清潔輥處于所述清潔位置時(shí)，所述入站輸送器和所述出站輸送器處于所述縮回位置，并且所述入站輸送器與所述出站輸送器之間的所述距離的大小被確定為在其間接納所述一個(gè)或多個(gè)下部接觸式清潔輥。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的接觸式清潔系統(tǒng)，包括所述一個(gè)或多個(gè)上部接觸式清潔輥和所述一個(gè)或多個(gè)下部接觸式清潔輥。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種用于接觸式清潔系統(tǒng)的輸送器，所述輸送器包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送器，其中，所述入站輸送器和所述出站輸送器被配置為當(dāng)所述入站輸送器和所述出站輸送器處于所述縮回位置時(shí)在其間接納至少一個(gè)接觸式清潔輥。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輸送器，其中，在所述縮回位置，所述入站輸送器、所述出站輸送器和所述至少一個(gè)接觸式清潔輥的表面共面，使得經(jīng)由所述至少一個(gè)接觸式清潔輥從所述入站輸送器輸送到所述出站輸送器的基板保持水平。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，當(dāng)所述入站輸送器和出站輸送器處于所述伸出位置時(shí)，所述距離(a)小于要支撐在所述輸送器上的基板的長(zhǎng)度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述距離(a)是處于所述伸出位置的最小距離(amin)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述距離(a)是處于所述縮回位置的最大距離(amax)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的輸送器，其中，所述入站輸送器包括入站輸送器張緊機(jī)構(gòu)，所述入站輸送器張緊機(jī)構(gòu)被配置為在所述縮回...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：馬修·班寧，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：伊利諾斯工具制品有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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