【技術實現(xiàn)步驟摘要】
技術介紹
1、可由諸如帶電粒子基板評估系統(tǒng)之類的基板評估系統(tǒng)來評估基板。帶電粒子基板評估系統(tǒng)被配置為通過用一個或多個帶電粒子束照射基板來評估基板。
2、基板評估系統(tǒng)的示例包括：(i)缺陷審查系統(tǒng)，諸如加利福尼亞州圣何塞的應用材料tm公司的缺陷審查掃描電子顯微鏡semvisiontm；(ii)計量系統(tǒng)，諸如應用材料tm的provisiontm?3e?e束tm計量系統(tǒng)；(iii)電子束檢查系統(tǒng)，諸如應用材料tm的primevisiontm；或者(iv)關鍵尺寸掃描電子顯微鏡，諸如應用材料tm的veritysemtm等。帶電粒子評估系統(tǒng)可由諸如日本東京的hitachitm或加利福尼亞州米爾皮塔斯的klatm公司之類的供應商制造，或者可由其他供應商制造。
3、用一個或多個帶電粒子束照射基板要求將基板定位在真空腔室內(nèi)。
4、基板評估系統(tǒng)包括工廠接口、裝載鎖定腔室和目標真空腔室。工廠接口在大氣壓力水平下操作，目標真空腔室在高真空水平下操作，并且裝載鎖定腔室被配置為從工廠接口接收基板，經(jīng)歷使裝載鎖定腔室處于高真空水平的裝載鎖定壓力均衡工藝，并且然后將基板提供到目標真空腔室的臺。
5、基板必須在目標真空腔室中對準。
6、標題為“method?and?apparatus?for?semiconductor?wafer?alignment(用于半導體晶片對準的方法和裝置)”的美國專利申請公開第2008/0050006號例示了一種晶片對準系統(tǒng)，所述晶片對準系統(tǒng)包括圖像獲取設備、照射源、可旋
7、越來越需要以準確且快速的方式對準基板。
技術實現(xiàn)思路
1、提供了一種基板對準系統(tǒng)，所述基板對準系統(tǒng)包括：(i)照射單元，所述照射單元被配置為照射包括基板的整個邊緣的被照射區(qū)域；(ii)感測單元，所述感測單元具有即使在基板未對準時也覆蓋基板的整個邊緣的視場，所述感測單元包括傳感器，在所述傳感器之前是魚眼透鏡，所述傳感器被配置為生成基板的整個邊緣的檢測信號；以及(iii)處理電路，所述處理電路被配置為處理檢測信號并確定基板是否未對準。確定基板未對準觸發(fā)用于對準基板的一個或多個未對準校正操作的執(zhí)行。
2、提供了一種用于基板的對準的方法，所述方法包括：(i)由照射單元照射包括基板的整個邊緣的被照射區(qū)域；(ii)在照射被照射區(qū)域后，由感測單元生成基板的整個邊緣的檢測信號；其中所述感測單元具有即使在基板未對準時也覆蓋基板的整個邊緣的視場，所述感測單元包括傳感器，在所述傳感器之前是魚眼透鏡；以及(iii)由處理電路處理檢測信號并確定基板是否未對準，其中確定基板未對準觸發(fā)用于對準基板的一個或多個未對準校正操作的執(zhí)行。
3、提供了一種用于對準基板的非暫態(tài)計算機可讀介質(zhì)，所述非暫態(tài)計算機可讀介質(zhì)存儲指令，所述指令一旦由基板對準系統(tǒng)執(zhí)行，就使基板對準系統(tǒng)：(i)由基板對準系統(tǒng)的照射單元照射包括基板的整個邊緣的被照射區(qū)域；(ii)在照射被照射區(qū)域之后，由基板對準系統(tǒng)的感測單元生成基板的整個邊緣的檢測信號，其中所述感測單元具有即使在基板未對準時也覆蓋基板的整個邊緣的視場，所述感測單元包括傳感器，在所述傳感器之前是魚眼透鏡；以及(iii)由基板對準系統(tǒng)的處理電路處理檢測信號并確定基板是否未對準，其中確定基板未對準觸發(fā)用于對準基板的一個或多個未對準校正操作的執(zhí)行。
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1.一種基板對準系統(tǒng)，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述照射單元被配置為在所述基板位于裝載鎖定腔室內(nèi)時照射所述被照射區(qū)域，其中所述感測單元和所述照射單元位于所述裝載鎖定腔室外部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述照射單元被配置為在所述裝載鎖定腔室經(jīng)歷裝載鎖定壓力均衡工藝時照射所述被照射區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述照射單元被配置為通過在所述裝載鎖定腔室中形成的第一窗口照射所述被照射區(qū)域，并且其中所述感測單元被配置為通過在所述裝載鎖定腔室中形成的第二窗口獲取所述基板的所述整個邊緣的圖像。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述魚眼透鏡與所述基板之間的距離小于所述基板的直徑的三分之一。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述一個或多個未對準校正操作包括旋轉(zhuǎn)所述基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述一個或多個未對準校正操作包括生成關于從x軸未對準和y軸未對準中選擇的至少一個未對準的至少一個指示。
8.根據(jù)權(quán)利要求1
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述處理電路被配置為通過應用所述光學畸變的線性近似來補償由所述魚眼透鏡引入的光學畸變，其中所述應用所述線性近似包括將不同的線性畸變系數(shù)與由所述感測單元獲取的圖像的不同的同心子區(qū)域相關聯(lián)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，進一步包括控制器，所述控制器被配置為控制用于對準所述基板的所述一個或多個未對準校正操作。
11.一種用于基板的對準的方法，所述方法包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，進一步包括在所述基板位于裝載鎖定腔室內(nèi)時執(zhí)行所述照射，其中所述感測單元和所述照射單元位于所述裝載鎖定腔室外部。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，進一步包括在所述裝載鎖定腔室經(jīng)歷裝載鎖定壓力均衡工藝時執(zhí)行所述照射。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述照射包括通過在所述裝載鎖定腔室中形成的第一窗口照射所述被照射區(qū)域，并且其中所述方法包括由所述感測單元通過在所述裝載鎖定腔室中形成的第二窗口獲取所述基板的所述整個邊緣的圖像。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述魚眼透鏡與所述基板之間的距離小于所述基板的直徑的三分之一。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述一個或多個未對準校正操作包括旋轉(zhuǎn)所述基板。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述一個或多個未對準校正操作包括生成關于從x軸未對準和y軸未對準中選擇的至少一個未對準的至少一個指示。
18.根據(jù)權(quán)利要求11至17中任一項所述的方法，進一步包括由所述處理電路補償由所述魚眼透鏡引入的光學畸變。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，進一步包括由所述處理電路通過應用所述光學畸變的線性近似來補償由所述魚眼透鏡引入的光學畸變，其中所述應用所述線性近似包括將不同的線性畸變系數(shù)與由所述感測單元獲取的圖像的不同的同心子區(qū)域相關聯(lián)。
20.一種用于對準基板的非暫態(tài)計算機可讀介質(zhì)，所述非暫態(tài)計算機可讀介質(zhì)存儲指令，所述指令一旦由基板對準系統(tǒng)執(zhí)行就使所述基板對準系統(tǒng)：
...【技術特征摘要】
1.一種基板對準系統(tǒng)，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述照射單元被配置為在所述基板位于裝載鎖定腔室內(nèi)時照射所述被照射區(qū)域，其中所述感測單元和所述照射單元位于所述裝載鎖定腔室外部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述照射單元被配置為在所述裝載鎖定腔室經(jīng)歷裝載鎖定壓力均衡工藝時照射所述被照射區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述照射單元被配置為通過在所述裝載鎖定腔室中形成的第一窗口照射所述被照射區(qū)域，并且其中所述感測單元被配置為通過在所述裝載鎖定腔室中形成的第二窗口獲取所述基板的所述整個邊緣的圖像。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述魚眼透鏡與所述基板之間的距離小于所述基板的直徑的三分之一。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述一個或多個未對準校正操作包括旋轉(zhuǎn)所述基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述一個或多個未對準校正操作包括生成關于從x軸未對準和y軸未對準中選擇的至少一個未對準的至少一個指示。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述處理電路被配置為補償由所述魚眼透鏡引入的光學畸變。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板對準系統(tǒng)，其中所述處理電路被配置為通過應用所述光學畸變的線性近似來補償由所述魚眼透鏡引入的光學畸變，其中所述應用所述線性近似包括將不同的線性畸變系數(shù)與由所述感測單元獲取的圖像的不同的同心子區(qū)域相關聯(lián)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板對準系統(tǒng)，進一步包括控制器，所述控制器被配置為控制用于對準所述基板的所述一個或多...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：I·奧倫巴克，A·阿布迪，B·貝杰爾，
申請(專利權(quán))人：應用材料以色列公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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