【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種金屬薄膜基板、及包括其的透明顯示器。
技術介紹
1、近來,在顯示器市場中,隨著技術的發展,對大面積顯示裝置的需求逐漸增加。能夠分別調節單位面積的明暗亮度的micro-led、mini-led等尖端電子電路和顯示事業領域也正在逐步開展技術開發,其中,正在研究用于制作用于同時滿足大面積尺寸以及高分辨率、對比度質量的電子器件的光刻工法。
2、韓國公開專利第10-2019-0003025也公開了一種采用玻璃基板上部的金屬層的圖案化工法的電路板及其制造方法。
3、然而,作為以往用于在玻璃基板上實現低電阻的金屬布線的方法,采用金屬薄膜的電鍍或蒸鍍等多種方法,但這些方法中的每一種都在顯示器的大面積化方面存在局限性。
4、為了克服這種局限性,近來已經嘗試開發一種將金屬薄膜接合到玻璃基板上后采用光刻(photolithography)工法對金屬薄膜進行圖案化的技術。
5、然而,這種將金屬薄膜接合到玻璃基板上的方法的問題在于,不僅金屬薄膜與玻璃基板之間的貼緊力不足,而且在金屬層的圖案化之后露出的下部粘接層因與金屬蝕刻液接觸而受損。
6、進一步地,尤其當使用于如透明顯示器等長時間暴露于外部環境的電子裝置時,耐熱性和高溫高濕環境下的可靠性非常重要,但就使用于以往的金屬薄膜的丙烯酸粘接劑或環氧粘接劑而言,存在不僅在耐熱性或高溫高濕環境下的可靠性不足,而且當以大面積實現透明顯示器現時導致卷曲的問題。
7、于是,出現了對一種不僅與玻璃基板的粘接力、對金屬層蝕刻液的耐化學性優
8、現有技術文獻
9、專利文獻
10、韓國公開專利第10-2019-0003025號
技術實現思路
1、本技術的目的在于,提供一種不僅與玻璃基板的貼緊力和粘接層的耐磨性優異,而且對蝕刻液的耐化學性、耐熱性及可靠性優異,并且在應用于大面積玻璃時也不會卷曲,從而能夠應用于大面積透明顯示器的金屬薄膜基板及透明顯示器。
2、本技術為了實現上述目的,采用如下技術方案。
3、本技術涉及一種金屬薄膜基板,包括:玻璃基板;粘接層,其形成在所述玻璃基板的一面上;以及金屬層,其形成在所述粘接層的一面上,并且所述粘接層包括硅系粘接劑。
4、在本技術的一實施例中,所述粘接層可以由包括硅系粘接劑和溶劑的粘接層組合物形成,并且包括相對于粘接層組合物的總重量的40%至60%的硅系粘接劑。
5、在本技術的另一實施例中,所述硅系粘接劑可以包括硅化合物以及硅氧烷化合物中的一種以上。
6、在本技術的另一實施例中,所述金屬層可以具有3μm至120μm的厚度。
7、在本技術的另一實施例中,所述金屬層可以包括選自由銅(cu)、鋁(al)、鎳(ni)、鉻(cr)、銀(ag)、鐵(fe)、金(au)、鈷(co)、鈦(ti)以及鎢(w)組成的組中的一種以上。
8、在本技術的另一實施例中,所述粘接層可以具有5μm至50μm的厚度。
9、在本技術的另一實施例中,在所述金屬層與粘接層之間可以不包括單獨的部件。
10、在本技術的另一實施例中,所述金屬薄膜基板可以用于透明顯示器。
11、此外,本技術提供一種透明顯示器,包括:所述金屬薄膜基板;以及發光二極管(led)。
12、本技術的效果如下。本技術的金屬薄膜和金屬薄膜基板具備包括硅系粘接劑的粘接層,從而可以獲得與玻璃基板的貼緊力、對蝕刻液的耐化學性、耐熱性以及對高溫高濕環境的可靠性優異的效果。
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1.一種金屬薄膜基板,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的金屬薄膜基板,其特征在于,
3.根據權利要求1所述的金屬薄膜基板,其特征在于,
4.根據權利要求1所述的金屬薄膜基板,其特征在于,
5.根據權利要求1所述的金屬薄膜基板,其特征在于,
6.根據權利要求1所述的金屬薄膜基板,其特征在于,
7.一種透明顯示器,其特征在于,包括:
【技術特征摘要】
1.一種金屬薄膜基板,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的金屬薄膜基板,其特征在于,
3.根據權利要求1所述的金屬薄膜基板,其特征在于,
4.根據權利要求1所述的...
【專利技術屬性】
技術研發人員:李俊九,魯圣辰,樸基晙,李喆勛,
申請(專利權)人:東友精細化工有限公司,
類型:新型
國別省市:
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