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    正壓含塵氣體凈化設(shè)備制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):44478961 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-03-04 17:46
    一種正壓含塵氣體凈化設(shè)備(100),屬于大氣污染控制技術(shù)領(lǐng)域。凈化設(shè)備(100)包括:框架(10);旋風(fēng)裝置(20),設(shè)置在框架(10)的一側(cè),并具有一進(jìn)氣口(21);沉降室(30),設(shè)置成與旋風(fēng)裝置(20)連通;凈化室(40),設(shè)置在框架(10)的另一側(cè),并與沉降室(30)連通;收集擠壓裝置(50),設(shè)置在框架(10)的下端,并與旋風(fēng)裝置(20)、沉降室(30)和凈化室(40)中的至少一個(gè)下端(23、34、44)連通并對(duì)收集的灰塵進(jìn)行擠壓收集處理。含塵氣體從進(jìn)氣口(21)進(jìn)入旋風(fēng)裝置(20)中,并通過旋風(fēng)裝置(20)除去氣體中的至少一部分灰塵后,在沉降室(30)中至少一部分灰塵經(jīng)過碰撞在含塵氣體所攜帶的慣性力作用下沉降,進(jìn)入到凈化室(40)中進(jìn)行凈化處理后,從凈化室(40)的出口(43)流出。通過采用正壓送風(fēng)模式,改善凈化設(shè)備(100)內(nèi)氣流分布,提高除塵效率。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    【國(guó)外來華專利技術(shù)】

    本申請(qǐng)公開內(nèi)容涉及大氣污染控制,具體涉及一種正壓含塵氣體凈化設(shè)備


    技術(shù)介紹

    1、氣體除塵設(shè)備作為大氣污染防治中的重要設(shè)施,主要用于凈化生產(chǎn)和生活場(chǎng)所中氣體含有的灰塵、粉塵、大顆粒塵埃、毛絮等有害物質(zhì)。通過在生產(chǎn)和生活場(chǎng)所設(shè)置氣體除塵設(shè)備,能夠有效凈化空氣,減少甚至杜絕有害污染源,尤其是細(xì)小顆粒物質(zhì)導(dǎo)致的氣體或空氣污染,從而降低攝入有害物質(zhì)的概率,保護(hù)勞動(dòng)者和居民健康。氣體除塵設(shè)備還能夠通過有效吸收空氣中的有毒、有害物質(zhì),減少空氣污染物在大氣中的殘留率,進(jìn)而降低大氣污染強(qiáng)度,改善生產(chǎn)和生活環(huán)境。

    2、然而,現(xiàn)有的氣體除塵設(shè)備普遍采用負(fù)壓除塵模式。雖然負(fù)壓除塵相比于正壓除塵具有除塵效率高、操作穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn),但是在負(fù)壓除塵模式下,含塵氣體進(jìn)入氣體除塵設(shè)備,由于氣體除塵設(shè)備內(nèi)氣流分布不均、流動(dòng)通道布局不合理等會(huì)導(dǎo)致除塵效率急劇下降;同時(shí)在某些行業(yè)的生產(chǎn)工藝中需要采用正壓輸送氣流,尤其當(dāng)氣流中攜帶顆粒物、毛絮等情形,針對(duì)該類污染物控制迫切需要開發(fā)設(shè)計(jì)正壓含塵氣體凈化設(shè)備。

    3、目前,常見的正壓含塵氣體凈化設(shè)備普遍存在設(shè)備磨損嚴(yán)重、壓力控制不均、密封性差等問題,并且當(dāng)處理金屬粉塵時(shí)可能存在粉塵爆炸的風(fēng)險(xiǎn)。

    4、有鑒于此,有必要改進(jìn)正壓含塵氣體凈化設(shè)備內(nèi)流動(dòng)通道布局,改善氣體除塵設(shè)備內(nèi)氣流分布,提高除塵效率。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)問題或其的一部分,本專利技術(shù)的目的在于提供一種正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其采用正壓送風(fēng)模式,改善正壓含塵氣體凈化設(shè)備內(nèi)氣流分布,提高除塵效率。

    2、根據(jù)本專利技術(shù)的一個(gè)方面,提供了一種正壓含塵氣體凈化設(shè)備,所述正壓含塵氣體凈化設(shè)備包括:

    3、框架,所述正壓含塵氣體凈化設(shè)備的其他主要部件設(shè)置在所述框架上;

    4、旋風(fēng)裝置,所述旋風(fēng)裝置設(shè)置在框架的一側(cè),并設(shè)置有一進(jìn)氣口;沉降室,所述沉降室設(shè)置成與所述旋風(fēng)裝置連通;

    5、凈化室,所述凈化室設(shè)置在框架的另一側(cè),并與所述沉降室連通;

    6、收集擠壓裝置,設(shè)置在所述框架的下端,并與所述旋風(fēng)裝置、所述沉降室和所述凈化室中的至少一個(gè)的下端連通并對(duì)收集到其中的灰塵進(jìn)行擠壓收集處理。

    7、在一些實(shí)施例中,所述進(jìn)氣口下沿設(shè)置有傾斜導(dǎo)流板。

    8、進(jìn)一步地,在一些實(shí)施例中,所述傾斜導(dǎo)流板的傾斜角度與所述旋風(fēng)裝置的螺旋面的螺旋線升角相同。

    9、在一些實(shí)施例中,在所述沉降室一側(cè)設(shè)置進(jìn)氣端,所述進(jìn)氣端位于所述沉降室一側(cè)的2/3高度位置處。

    10、在一些實(shí)施例中,所述沉降室具有擋板,所述擋板位于所述進(jìn)氣端的對(duì)側(cè)。

    11、進(jìn)一步地,在一些實(shí)施例中,在所述擋板與沉降室底部之間的空隙形成為出氣端,所述出氣端的橫截面面積為所述沉降室的下端的橫截面面積的2-4倍,優(yōu)選3倍,所述沉降室的下端為沉降室與收集擠壓裝置之間的連接部。

    12、在一些實(shí)施例中,所述凈化室包括濾筒組件,所述濾筒組件設(shè)置在所述凈化室的上部,位于所述凈化室的出口與所述含塵氣體進(jìn)入所述凈化室之間的區(qū)域。

    13、在一些實(shí)施例中,所述收集擠壓裝置包括殼體,所述殼體為長(zhǎng)圓柱體,所述殼體設(shè)置在所述框架的下端,所述旋風(fēng)裝置、所述沉降室和所述凈化室的至少一個(gè)的下端與所述殼體連接。

    14、進(jìn)一步地,在一些實(shí)施例中,所述殼體內(nèi)具有葉片,所述葉片沿所述殼體縱長(zhǎng)方向布置,所述葉片的外沿與所述殼體的內(nèi)壁抵接;所述殼體縱長(zhǎng)方向的一端設(shè)置有驅(qū)動(dòng)部,所述驅(qū)動(dòng)部驅(qū)動(dòng)所述葉片旋轉(zhuǎn)。

    15、進(jìn)一步地,在另一些實(shí)施例中,所述殼體具有錐形出口,所述錐形出口位于所述殼體縱長(zhǎng)方向的另一端,所述錐形出口的錐底與所述殼體連接;所述收集擠壓裝置還具有收集部,所述收集部與所述錐形出口的錐頂連接。

    16、根據(jù)本專利技術(shù)的多個(gè)實(shí)施例提供所述的一種正壓含塵氣體凈化設(shè)備,至少具備以下中的至少一個(gè)優(yōu)點(diǎn)或一個(gè)優(yōu)點(diǎn)的一部分:

    17、(1)采用正壓送風(fēng)模式,避免采用負(fù)壓送風(fēng)模式,改善除塵設(shè)備內(nèi)氣流分布,提高除塵效率;

    18、(2)通過在旋風(fēng)裝置進(jìn)氣口下沿處設(shè)置傾斜導(dǎo)流板,所述傾斜導(dǎo)流板的傾斜角度與所述旋風(fēng)裝置的螺旋面的螺旋線升角相同,避免二次揚(yáng)塵,且內(nèi)部氣流分布更均勻有利于塵屑、毛絮沉降;

    19、(3)通過將進(jìn)氣端設(shè)置于沉降室一側(cè)2/3高度位置處,將擋板設(shè)置于進(jìn)氣端的對(duì)側(cè),所述含塵氣體進(jìn)入沉降室后與擋板碰撞,氣流方向急轉(zhuǎn),至少一部分灰塵在含塵氣體所攜帶慣性力作用下與含塵氣體分離,達(dá)到部分除塵作用;

    20、(4)通過擋板與沉降室內(nèi)部之間空隙設(shè)置的出氣端,所述出氣端的橫截面面積為所述沉降室的下端的橫截面面積的2-4倍,當(dāng)含塵氣體通過出氣端排出進(jìn)入凈化室,由于所述出氣端的橫截面面積的設(shè)定,含塵氣體通過濾筒組件時(shí),風(fēng)速急降,避免由于風(fēng)速過大,導(dǎo)致塵屑、毛絮揚(yáng)起,提高沉降室除塵效果;

    21、(5)通過將收集擠壓裝置的葉片的外沿與殼體的內(nèi)壁抵接,與旋轉(zhuǎn)的葉片配合達(dá)到關(guān)閉風(fēng)閥的作用,避免竄風(fēng);

    22、(6)錐形出口使得灰塵被擠壓,收集灰塵的空間也會(huì)減少,更便于存儲(chǔ)。

    23、應(yīng)當(dāng)理解的是,以上一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本申請(qǐng)。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種正壓含塵氣體凈化設(shè)備,包括框架,其特征在于,所述含塵氣體凈化設(shè)備還包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    7.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    8.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    【技術(shù)特征摘要】
    【國(guó)外來華專利技術(shù)】

    1.一種正壓含塵氣體凈化設(shè)備,包括框架,其特征在于,所述含塵氣體凈化設(shè)備還包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的正壓含塵氣體凈化設(shè)備,其特征在于,

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:張星遲玉斌王志鋼陶文劍
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:蘇州科技大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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