【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,屬于半導體濕法清洗。
技術介紹
1、功率半導體分立器件濕法清洗工藝屬于比較成熟的工藝,在整個流程制造過程中需要多次經過濕法腐蝕清洗,濕法清洗環節中多次使用后的化學試劑腐蝕濃度達不到工藝要求,濕法腐蝕設備根據化學試劑使用時間和作業批次數,自動選擇將腐蝕藥液排于濃氟藥液管道,歸于動力部門處理,再無利用價值,后續重新配液前,為了化學試劑配比的正確性,還需沖洗酸槽,排出大量稀氟藥液。
2、濃氟藥液以及沖洗濃氟槽體、管道的大量稀氟藥液的處理成了企業的難題,如需處理后達標排放,企業則在增加成本同時還造成大量水資源浪費。如何將腐蝕清洗設備中濃度下降的腐蝕藥液再次回收利用是目前功率半導體分立器件濕法清洗工序的重點。
技術實現思路
1、本技術所要解決的技術問題是針對上述現有技術提供一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,能夠對濃度下降的腐蝕藥液進行回收利用,減少企業成本,節能降耗。
2、本技術解決上述問題所采用的技術方案為:一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,包括排液裝置、回收罐和再利用裝置,所述排液裝置、回收罐和再利用裝置之間通過管組件連接,所述管組件包括排液總管和進液總管,所述排液裝置和回收罐之間通過排液總管連接,所述回收罐和再利用裝置通過進液總管連接。
3、所述排液裝置設有若干個,任一所述排液裝置排液口分別與排液支管一端連接,所述排液支管另一端與排液總管連接,所述排液裝
4、所述排液裝置為多槽清洗機。
5、所述再利用裝置設有多個,任一所述再利用裝置進液口分別與進液支管一端連接,所述進液支管另一端與進液總管連接。
6、所述再利用裝置分別為爐管清洗機,所述爐管清洗機上分別設有液位傳感器,所述進液口上分別設有控制閥。
7、所述排液總管、進液總管、排液支管和進液支管分別包括特氟龍管,所述特氟龍管上套設防護管。
8、與現有技術相比,本技術的優點在于:一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,能夠對多槽清洗機工藝生產環節中產生的濃度下降的腐蝕藥液進行回收利用,減少企業成本,節能降耗。
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1.一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:包括排液裝置、回收罐和再利用裝置,所述排液裝置、回收罐和再利用裝置之間通過管組件連接,所述管組件包括排液總管和進液總管,所述排液裝置和回收罐之間通過排液總管連接,所述回收罐和再利用裝置通過進液總管連接。
2.根據權利要求1所述的一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:所述排液裝置設有若干個,任一所述排液裝置排液口分別與排液支管一端連接,所述排液支管另一端與排液總管連接,所述排液裝置內分別設有排液泵。
3.根據權利要求2所述的一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:所述排液裝置為多槽清洗機。
4.根據權利要求2所述的一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:所述再利用裝置設有多個,任一所述再利用裝置進液口分別與進液支管一端連接,所述進液支管另一端與進液總管連接。
5.根據權利要求4所述的一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:所述再利用裝置分別為爐管清洗機,所述爐管清洗機上分
6.根據權利要求5所述的一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:所述排液總管、進液總管、排液支管和進液支管分別包括特氟龍管,所述特氟龍管上套設防護管。
...【技術特征摘要】
1.一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:包括排液裝置、回收罐和再利用裝置,所述排液裝置、回收罐和再利用裝置之間通過管組件連接,所述管組件包括排液總管和進液總管,所述排液裝置和回收罐之間通過排液總管連接,所述回收罐和再利用裝置通過進液總管連接。
2.根據權利要求1所述的一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:所述排液裝置設有若干個,任一所述排液裝置排液口分別與排液支管一端連接,所述排液支管另一端與排液總管連接,所述排液裝置內分別設有排液泵。
3.根據權利要求2所述的一種功率半導體分立器件腐蝕清洗設備藥液回收利用裝置,其特征在于:所述排...
【專利技術屬性】
技術研發人員:蔣亞東,周曉,龔宇科,徐林,賈云波,陳建標,
申請(專利權)人:江蘇新順微電子股份有限公司,
類型:新型
國別省市:
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