【技術實現步驟摘要】
本申請屬于光刻仿真，尤其涉及一種光刻膠仿真模型的評估方法、設備、介質及產品。
技術介紹
1、在集成電路制造中，高性能芯片的結構越來越復雜，線寬也在不斷地減小。隨著線寬的減小，光學鄰近效應會導致光罩圖形在光刻膠上的成像差距逐漸增大。因此，對光學鄰近效應的影響進行修正顯得至關重要。
2、現有方法中，利用光刻膠仿真模型修正光學鄰近效應在光刻過程中的影響。而在創建光刻膠仿真模型中，選取的光學建模參數往往會存在對于某些方向的測試版圖占比偏重過大的情形，易導致光刻膠仿真模型對于這些占比偏重過大方向的測試版圖出現過擬合現象。
3、然而，現有方法無法準確識別創建的光刻膠仿真模型是否存在過擬合現象，對光刻膠仿真模型評估的準確性不高。
技術實現思路
1、本申請實施例提供了一種光刻膠仿真模型的評估方法、設備、介質及產品，能夠提高對光刻膠仿真模型評估的準確性。
2、本申請實施例的一方面，提供一種光刻膠仿真模型的評估方法，包括：
3、獲取待評估光刻膠仿真模型的光刻膠參數與光學建模文件，光學建模文件中包括用于構建待評估光刻膠仿真模型的原始光學建模參數；
4、根據光刻膠參數與光學建模文件，構建旋轉光刻膠仿真模型，旋轉光刻膠仿真模型為對原始光學建模參數旋轉目標角度后的旋轉光學建模參數進行光刻膠成像仿真的模型；
5、將旋轉光學建模參數輸入至旋轉光刻膠仿真模型中，得到旋轉圖形尺寸；
6、將旋轉圖形尺寸與基準圖形尺寸進行比較，得到尺寸差
7、根據尺寸差值，評估待評估光刻膠仿真模型是否存在過擬合現象。
8、本申請實施例的一方面，提供一種光刻膠仿真模型的評估裝置，包括：
9、參數獲取模塊，用于獲取待評估光刻膠仿真模型的光刻膠參數與光學建模文件，光學建模文件中包括用于構建待評估光刻膠仿真模型的原始光學建模參數；
10、模型構建模塊，用于根據光刻膠參數與光學建模文件，構建旋轉光刻膠仿真模型，旋轉光刻膠仿真模型為對原始光學建模參數旋轉目標角度后的旋轉光學建模參數進行光刻膠成像仿真的模型；
11、尺寸確定模塊，用于將旋轉光學建模參數輸入至旋轉光刻膠仿真模型中，得到旋轉圖形尺寸；
12、差值確定模塊，用于將旋轉圖形尺寸與基準圖形尺寸進行比較，得到尺寸差值，基準圖形尺寸為將原始光學建模參數輸入至待評估光刻膠仿真模型中得到的圖形尺寸；
13、模型評估模塊，用于根據尺寸差值，評估待評估光刻膠仿真模型是否存在過擬合現象。
14、本申請實施例的一方面，提供一種電子設備，該設備包括：存儲器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的程序或指令，程序或指令被處理器執行時實現如上述本申請實施例的任意一方面提供的光刻膠仿真模型的評估方法。
15、本申請實施例的一方面，提供一種可讀存儲介質，可讀存儲介質上存儲程序或指令，程序或指令被處理器執行時實現如上述本申請實施例的任意一方面提供的光刻膠仿真模型的評估方法。
16、本申請實施例的一方面，提供一種計算機程序產品，計算機程序產品中的指令由電子設備的處理器執行時，使得電子設備執行如上述本申請實施例的任意一方面提供的光刻膠仿真模型的評估方法。
17、本申請實施例提供的光刻膠仿真模型的評估方法中，根據待評估光刻膠仿真模型的光刻膠參數與光學建模文件，構建旋轉光刻膠仿真模型，用于對原始光學建模參數旋轉目標角度后的旋轉光學建模參數進行光刻膠成像仿真。如此，通過旋轉光刻膠仿真模型，可以精準確定旋轉目標角度后的光學建模參數與旋轉前的光學建模參數分別進行光刻膠成像仿真得到的圖形尺寸之間是否存在偏差，從而驗證待評估光刻膠仿真模型是否符合旋轉對稱性。通過驗證目標光刻膠仿真模型是否符合旋轉對稱性，精準判斷出待評估光刻膠仿真模型是否會出現過擬合現象。如此，本申請實施例通過旋轉光刻膠仿真模型，能夠準確識別出待評估光刻膠仿真模型是否存在過擬合現象，提高對光刻膠仿真模型評估的準確性。
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1.一種光刻膠仿真模型的評估方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述光刻膠參數與所述光學建模文件，構建旋轉光刻膠仿真模型，包括：
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述旋轉光學建模參數包括旋轉測試版圖、旋轉量測數據以及旋轉測試光源；
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取所述旋轉測試光源對應的旋轉交叉傳感系數，包括：
5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述對所述旋轉測試版圖、所述旋轉量測數據以及所述旋轉交叉傳感系數進行光學仿真，構建所述旋轉光學仿真模型，包括：
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述旋轉光學建模參數輸入至所述旋轉光刻膠仿真模型中，得到旋轉圖形尺寸，包括：
7.根據權利要求1-6任意一項所述的方法，其特征在于，在對所述光學建模文件中的光學建模參數旋轉多個目標角度的情況下；
8.一種電子設備，其特征在于，所述設備包括：處理器以及存儲有計算機程序指令的存儲器；
9.一種計算機可讀存儲介質，其特征
10.一種計算機程序產品，其特征在于，所述計算機程序產品中的指令由電子設備的處理器執行時，使得所述電子設備執行如權利要求1-7任意一項所述的光刻膠仿真模型的評估方法。
...【技術特征摘要】
1.一種光刻膠仿真模型的評估方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述光刻膠參數與所述光學建模文件，構建旋轉光刻膠仿真模型，包括：
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述旋轉光學建模參數包括旋轉測試版圖、旋轉量測數據以及旋轉測試光源；
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取所述旋轉測試光源對應的旋轉交叉傳感系數，包括：
5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述對所述旋轉測試版圖、所述旋轉量測數據以及所述旋轉交叉傳感系數進行光學仿真，構建所述旋轉光學仿真模型，包括：
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述旋轉光學建模參...
【專利技術屬性】
技術研發人員：施智誠，
申請(專利權)人：深圳晶源信息技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
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