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    眼動追蹤發光組件和AR設備制造技術

    技術編號:44484071 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-03-04 17:50
    本技術提供了一種眼動追蹤發光組件和AR設備。眼動追蹤發光組件包括:光源;反光元件,反光元件位于光源的出光側,反光元件包括透明基底層和透明介質層,透明介質層為一層或多層,至少一層透明介質層位于透明基底層遠離光源的一側表面上,至少一層透明介質層具有弧面結構,弧面結構位于至少一層透明介質層的背光側,且弧面結構與光源相對設置,弧面結構上設置有第一反光膜。本技術解決了現有技術中的眼動追蹤發光組件存在體積大的問題。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及光學成像設備,具體而言,涉及一種眼動追蹤發光組件和ar設備。


    技術介紹

    1、近年來,ar設備在市場上不斷發展且需求日益增加,眼動追蹤發光組件作為ar設備的關鍵部件,眼動追蹤發光組件通過測量人眼注視點的位置或者眼球相對于頭部的運動,從而實現對眼球運動的追蹤,通過記錄眼動的注視時間、位置、軌跡等指標來了解人們對實時信息的獲取。

    2、通常,眼動追蹤發光組件利用紅外光照射到人眼上,通過探測器接收經過人眼反射的紅外光,然后利用圖像處理技術獲得人眼圖像,確定用戶的注視方向。由于眼動追蹤發光組件需要對人眼出射紅外光,且不能遮擋人眼,同時需要集成在ar設備中,因此若眼動追蹤發光組件的整體體積過大,則不利于集成,也會影響使用感受。

    3、也就是說,現有技術中的眼動追蹤發光組件存在體積大的問題。


    技術實現思路

    1、本技術的主要目的在于提供一種眼動追蹤發光組件和ar設備,以解決現有技術中的眼動追蹤發光組件存在體積大的問題。

    2、為了實現上述目的,根據本技術的一個方面,提供了一種眼動追蹤發光組件,包括:光源;反光元件,反光元件位于光源的出光側,反光元件包括透明基底層和透明介質層,透明介質層為一層或多層,至少一層透明介質層位于透明基底層遠離光源的一側表面上,至少一層透明介質層具有弧面結構,弧面結構位于至少一層透明介質層的背光側,且弧面結構與光源相對設置,弧面結構上設置有第一反光膜。

    3、進一步地,反光元件朝向光源的一側表面具有入光面和出光面,入光面與出光面連接或者間隔設置,弧面結構在入光面上的投影至少部分覆蓋入光面。

    4、進一步地,弧面結構為凸面,弧面結構遠離出光面的一側到透明基底層的垂直距離小于弧面結構靠近出光面的一側到透明基底層的垂直距離;和/或弧面結構到透明基底層的垂直距離由遠離出光面的一側至靠近出光面的一側逐漸增大。

    5、進一步地,反光元件還包括增透膜,入光面和出光面中的至少一個上設置有增透膜;和/或入光面為平面,出光面為平面或凸面。

    6、進一步地,當透明介質層為一層時,入光面與出光面連接且入光面和出光面均位于透明基底層上;當透明介質層為多層時,多層透明介質層包括第一透明介質層和第二透明介質層,第一透明介質層位于透明基底層遠離光源的一側表面上,第二透明介質層位于透明基底層朝向光源的一側表面上,入光面與出光面間隔設置且入光面和出光面均位于第二透明介質層上。

    7、進一步地,當透明介質層為多層時,反光元件還包括第二反光膜和第三反光膜,第二反光膜設置在第二透明介質層朝向光源的一側表面上且位于入光面和出光面之間,第三反光膜位于第一透明介質層遠離光源的一側表面上,第三反光膜在出光面上的投影至少部分覆蓋出光面,且第三反光膜在第二反光膜上的投影至少部分覆蓋第二反光膜。

    8、進一步地,弧面結構的最大高度與弧面結構的直徑之間的比值小于等于0.5;和/或弧面結構的直徑大于等于0.05mm,弧面結構的最大傾角α大于0°且小于65°。

    9、進一步地,透明介質層的折射率與透明基底層的折射率之間的比值大于等于1;和/或透明基底層的折射率大于等于1且小于等于5,透明基底層的厚度大于0mm且小于等于0.5mm。

    10、進一步地,光源到弧面結構的距離與弧面結構的最大高度之間的比值大于0且小于等于100;和/或光源的發光角度大于0°且小于等于20°,光源出射的光束的中心波長大于等于850nm且小于等于940nm。

    11、根據本技術的另一方面,提供了一種ar設備,包括:框體;發光模塊,發光模塊設置在框體上,發光模塊包括微機電振鏡組件和上述的眼動追蹤發光組件,微機電振鏡組件位于眼動追蹤發光組件的出光路徑上,微機電振鏡組件用于接收眼動追蹤發光組件出射的光束;探測模塊,發光模塊出射的光束照射在人眼上,探測模塊用于接收人眼反射的光束。

    12、應用本技術的技術方案,眼動追蹤發光組件包括光源和反光元件,反光元件位于光源的出光側,反光元件包括透明基底層和透明介質層,透明介質層為一層或多層,至少一層透明介質層位于透明基底層遠離光源的一側表面上,至少一層透明介質層具有弧面結構,弧面結構位于至少一層透明介質層的背光側,且弧面結構與光源相對設置,弧面結構上設置有第一反光膜。

    13、光源出射的光線經反光元件后輸出平行光,進而照射到人眼上,以對人眼的動態進行檢測和識別。通過規劃反光元件包括透明基底層和透明介質層,且設置至少一層透明介質層位于透明基底層遠離光源的一側表面上,由于透明基底層的折射率大于空氣的折射率,因此光源出射的具有發散角的光束依次經透明基底層后能夠實現發散角的收縮,當出射光線位置相同時,通過增加透明基底層能夠使得光源與反光元件之間的距離縮小,從而減小光線傳輸距離,進而減小眼動追蹤發光組件的體積。通過在至少一層透明介質層的背光側設置具有第一反光膜的弧面結構,且規劃弧面結構與光源相對設置,使得光源出射的光束能夠被弧面結構穩定接收并反射,實現光線傳輸方向的改變,同時弧面結構能夠實現聚光的作用,避免光線的損失,保證光線傳輸效率,同時,通過弧面結構實現光線傳輸路徑的偏轉折疊,有利于進一步減小眼動追蹤發光組件的體積。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種眼動追蹤發光組件,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,所述反光元件(11)朝向所述光源(12)的一側表面具有入光面(114)和出光面(116),所述入光面(114)與所述出光面(116)連接或者間隔設置,所述弧面結構(113)在所述入光面(114)上的投影至少部分覆蓋所述入光面(114)。

    3.根據權利要求2所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,所述弧面結構(113)為凸面,

    4.根據權利要求2所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,所述反光元件(11)還包括增透膜,所述入光面(114)和所述出光面(116)中的至少一個上設置有所述增透膜;和/或

    5.根據權利要求2所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,

    6.根據權利要求5所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,當所述透明介質層(111)為多層時,所述反光元件(11)還包括第二反光膜(115)和第三反光膜(117),所述第二反光膜(115)設置在所述第二透明介質層(1112)朝向所述光源(12)的一側表面上且位于所述入光面(114)和所述出光面(116)之間,所述第三反光膜(117)位于所述第一透明介質層(1111)遠離所述光源(12)的一側表面上,所述第三反光膜(117)在所述出光面(116)上的投影至少部分覆蓋所述出光面(116),且所述第三反光膜(117)在所述第二反光膜(115)上的投影至少部分覆蓋所述第二反光膜(115)。

    7.根據權利要求1至6中任一項所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,

    8.根據權利要求1至6中任一項所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,所述透明介質層(111)的折射率與所述透明基底層(112)的折射率之間的比值大于等于1;和/或所述透明基底層(112)的折射率大于等于1且小于等于5,所述透明基底層(112)的厚度大于0mm且小于等于0.5mm。

    9.根據權利要求1至6中任一項所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,

    10.一種AR設備,其特征在于,包括:

    ...

    【技術特征摘要】

    1.一種眼動追蹤發光組件,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,所述反光元件(11)朝向所述光源(12)的一側表面具有入光面(114)和出光面(116),所述入光面(114)與所述出光面(116)連接或者間隔設置,所述弧面結構(113)在所述入光面(114)上的投影至少部分覆蓋所述入光面(114)。

    3.根據權利要求2所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,所述弧面結構(113)為凸面,

    4.根據權利要求2所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,所述反光元件(11)還包括增透膜,所述入光面(114)和所述出光面(116)中的至少一個上設置有所述增透膜;和/或

    5.根據權利要求2所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,

    6.根據權利要求5所述的眼動追蹤發光組件,其特征在于,當所述透明介質層(111)為多層時,所述反光元件(11)還包括第二反光膜(115)和第三反光膜(117),所述第二反光膜(115)設置在...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:張偉賈敏明玉生汪杰陳遠
    申請(專利權)人:舜宇奧來微納光學上海有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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