【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)屬于自動(dòng)控制，尤其涉及一種構(gòu)架清洗控制裝置和清洗控制方法。
技術(shù)介紹
1、目前，鐵路系統(tǒng)構(gòu)架、轉(zhuǎn)向架等大型機(jī)車車架設(shè)備清洗主要還是靠人工清洗來完成，通過前期人工向構(gòu)架上噴灑清洗劑以達(dá)到消解油污的作用，后期再使用高壓液體槍進(jìn)行沖刷清洗完成，一臺(tái)構(gòu)架設(shè)備清洗需要3～4人同時(shí)作業(yè)對(duì)設(shè)備進(jìn)行清洗作業(yè)，大大增加了用人成本；其次是多人清洗過程中難免會(huì)存在交叉重復(fù)清洗一個(gè)區(qū)域的可能，因此這樣就勢(shì)必造成液體資源的浪費(fèi)以及生產(chǎn)效率低下的問題，還有就是構(gòu)架設(shè)備上的濁物及噴灑的藥劑都會(huì)對(duì)周邊環(huán)境產(chǎn)生一定的危害，不僅需要很長(zhǎng)時(shí)間，還需要需要較多的人力，如何能夠提高清洗效率，且省時(shí)省力，是目前急需解決的問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)意在提供一種構(gòu)架清洗控制裝置和清洗控制方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本申請(qǐng)要解決的技術(shù)問題通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)。
2、第一個(gè)方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種構(gòu)架清洗控制裝置，所述裝置
3、至少包括：交互模塊、控制模塊、第一定位模塊和第一執(zhí)行模塊，所述交互模塊通過所述控制模塊相連，所述控制模塊通過所述第一定位模塊與所述第一執(zhí)行模塊相連，其中：
4、所述交互模塊用于發(fā)送清洗控制指令；
5、所述控制模塊用于根據(jù)所述清洗控制指令，控制第一定位模塊將待清洗設(shè)備移動(dòng)到第一預(yù)設(shè)位置；
6、所述第一定位模塊用于將所述待清洗設(shè)備移動(dòng)至所述第一預(yù)設(shè)位置；
7、所述第一執(zhí)行模塊用于在所述待清洗設(shè)備位于所述第一預(yù)設(shè)位置的情況
8、可選地，所述第一執(zhí)行模塊至少包括一個(gè)或多個(gè)第一離心泵，所述第一離心泵用于獲取清洗液體箱中液體，并以預(yù)設(shè)壓力和預(yù)設(shè)流速通過管道對(duì)所述待清洗設(shè)備進(jìn)行清洗。
9、可選地，所述構(gòu)架清洗控制裝置還包括液位檢測(cè)模塊，所述液位檢測(cè)模塊與所述控制模塊相連，所述液位檢測(cè)模塊用于對(duì)清洗后液體的液體位進(jìn)行檢測(cè)，若所述液體位大于第一預(yù)設(shè)值，則向所述控制模塊發(fā)送循環(huán)利用指令。
10、可選地，所述液位檢測(cè)模塊用于對(duì)清洗后的液體進(jìn)行過濾處理，并通過控制第一閥門將處理后的液體返回至清洗液體箱。
11、可選地，所述第一定位模塊為增量式編碼器。
12、可選地，所述構(gòu)架清洗控制裝置還包括第二定位模塊和第二執(zhí)行模塊，其中，所述第二定位模塊分別與所述控制模塊和所述第二執(zhí)行模塊相連；
13、所述第二定位模塊用于接收所述控制模塊發(fā)送的再次清洗控制指令，并將清洗后的所述待清洗設(shè)備移動(dòng)至第二預(yù)設(shè)位置；
14、所述第二執(zhí)行模塊用于在所述待清洗設(shè)備位于所述第二預(yù)設(shè)位置的情況下，對(duì)所述待清洗設(shè)備進(jìn)行再次清洗。
15、可選地，所述第二執(zhí)行模塊用于控制所述待清洗設(shè)備往返運(yùn)動(dòng)。
16、可選地，所述交互模塊還用于顯示清洗結(jié)果，其中，所述清洗結(jié)果至少包括清洗完成或清洗未完成。
17、可選地，所述構(gòu)架清洗控制裝置還包括檢測(cè)模塊，所述檢測(cè)模塊與所述控制模塊相連，所述檢測(cè)模塊用于將獲取到電流值按照預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)換條件，轉(zhuǎn)換成溫度值。
18、第二個(gè)方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種清洗控制方法，應(yīng)用于第一方面所述的構(gòu)架清洗控制裝置，所述方法包括：
19、發(fā)送清洗控制指令；
20、根據(jù)所述清洗控制指令，控制第一定位模塊將待清洗設(shè)備移動(dòng)到第一預(yù)設(shè)位置；
21、將所述待清洗設(shè)備移動(dòng)至所述第一預(yù)設(shè)位置；
22、在所述待清洗設(shè)備位于所述第一預(yù)設(shè)位置的情況下，對(duì)所述待清洗設(shè)備進(jìn)行清洗。
23、本申請(qǐng)實(shí)施例包括以下優(yōu)點(diǎn)：
24、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的構(gòu)架清洗控制裝置和清洗控制方法，該裝置至少包括：交互模塊、控制模塊、第一定位模塊和第一執(zhí)行模塊，所述交互模塊通過所述控制模塊相連，所述控制模塊通過所述第一定位模塊與所述第一執(zhí)行模塊相連，其中：所述交互模塊用于發(fā)送清洗控制指令；所述控制模塊用于根據(jù)所述清洗控制指令，控制第一定位模塊將待清洗設(shè)備移動(dòng)到第一預(yù)設(shè)位置；所述第一定位模塊用于將所述待清洗設(shè)備移動(dòng)至所述第一預(yù)設(shè)位置；所述第一執(zhí)行模塊用于在所述待清洗設(shè)備位于所述第一預(yù)設(shè)位置的情況下，對(duì)所述待清洗設(shè)備進(jìn)行清洗，本申請(qǐng)實(shí)施例中，通過交互模塊向控制模塊發(fā)送清洗控制指令，根據(jù)清洗控制指令，控制第一定位模塊將待清洗設(shè)備移動(dòng)到第一預(yù)設(shè)位置，從清洗液體箱中獲取液體對(duì)待清洗設(shè)備進(jìn)行清洗，提高了工件的清洗效果和清洗效率，降低了人力成本，提高了生產(chǎn)效率。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述裝置至少包括：交互模塊、控制模塊、第一定位模塊和第一執(zhí)行模塊，所述交互模塊通過所述控制模塊相連，所述控制模塊通過所述第一定位模塊與所述第一執(zhí)行模塊相連，其中：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述第一執(zhí)行模塊至少包括一個(gè)或多個(gè)第一離心泵，所述第一離心泵用于獲取清洗液體箱中液體，并以預(yù)設(shè)壓力和預(yù)設(shè)流速通過管道對(duì)所述待清洗設(shè)備進(jìn)行清洗。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述構(gòu)架清洗控制裝置還包括液位檢測(cè)模塊，所述液位檢測(cè)模塊與所述控制模塊相連，所述液位檢測(cè)模塊用于對(duì)清洗后液體的液體位進(jìn)行檢測(cè)，若所述液體位大于第一預(yù)設(shè)值，則向所述控制模塊發(fā)送循環(huán)利用指令。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述液位檢測(cè)模塊用于對(duì)清洗后的液體進(jìn)行過濾處理，并通過控制第一閥門將處理后的液體返回至清洗液體箱。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述第一定位模塊為增量式編碼器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述第二執(zhí)行模塊用于控制所述待清洗設(shè)備往返運(yùn)動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述交互模塊還用于顯示清洗結(jié)果，其中，所述清洗結(jié)果至少包括清洗完成或清洗未完成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述構(gòu)架清洗控制裝置還包括檢測(cè)模塊，所述檢測(cè)模塊與所述控制模塊相連，所述檢測(cè)模塊用于將獲取到電流值按照預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)換條件，轉(zhuǎn)換成溫度值。
10.一種清洗控制方法，其特征在于，應(yīng)用于如權(quán)利要求1-9任一所述的構(gòu)架清洗控制裝置，所述方法包括：
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述裝置至少包括：交互模塊、控制模塊、第一定位模塊和第一執(zhí)行模塊，所述交互模塊通過所述控制模塊相連，所述控制模塊通過所述第一定位模塊與所述第一執(zhí)行模塊相連，其中：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述第一執(zhí)行模塊至少包括一個(gè)或多個(gè)第一離心泵，所述第一離心泵用于獲取清洗液體箱中液體，并以預(yù)設(shè)壓力和預(yù)設(shè)流速通過管道對(duì)所述待清洗設(shè)備進(jìn)行清洗。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述構(gòu)架清洗控制裝置還包括液位檢測(cè)模塊，所述液位檢測(cè)模塊與所述控制模塊相連，所述液位檢測(cè)模塊用于對(duì)清洗后液體的液體位進(jìn)行檢測(cè)，若所述液體位大于第一預(yù)設(shè)值，則向所述控制模塊發(fā)送循環(huán)利用指令。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的構(gòu)架清洗控制裝置，其特征在于，所述液位檢測(cè)模塊用于對(duì)清洗后的液體進(jìn)行過濾處理，并通過控制第一閥門將處理后的液體返回至清洗液體箱。
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉群，曹建偉，房大偉，黃健中，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：北京潔德科技發(fā)展有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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