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    一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑、消光/半消光尼龍及制備方法技術

    技術編號:44488620 閱讀:7 留言:0更新日期:2025-03-04 17:53
    本發明專利技術屬于高分子材料技術領域,公開了一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑、消光/半消光尼龍及制備方法。該多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,包括以下步驟:將氫氧化鈉、偏鋁酸鈉、二氧化硅和水混合,然后加入二氧化鈦混合,進行晶化反應,得到多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑。本發明專利技術中對于銳鈦型TiO2進行改性,在其外面包裹一層多孔分子篩,解決了TiO2團聚、分散不均勻的問題,消除其對尼龍的不利影響,因而得到分子量高、聚合度高、力學性能優異的尼龍產品。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及高分子材料,尤其涉及一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑、消光/半消光尼龍及制備方法。


    技術介紹

    1、根據行業標準的分類,一般以在尼龍樹脂中加入的二氧化鈦質量分數的多少將尼龍切片分為有光(二氧化鈦質量百分含量小于或等于0.05%)、半消光(二氧化鈦質量百分含量大于0.1%且小于0.6%)和全消光切片(二氧化鈦質量百分含量大于或等于1.2%);利用這些切片可分別制得有光、半消光和全消光長絲及其工程塑料。

    2、由于在半消光/消光尼龍制備過程中,需要添加一定量的tio2以達到半消光/消光目的,然而添加的tio2由于難以分散均勻會對尼龍聚合物本身聚合有不利影響,導致尼龍聚合向副反應方向進行,或影響其聚合度,得到聚合度較低、分子量較低的尼龍產品,其拉伸強度、沖擊強度等指標也會受到影響。同時,普通超細銳鈦型二氧化鈦具有較高的光催化活性,能吸收光輻射產生自由基和過氧化物,加速纖維的光老化作用,引起消光纖維的強度,伸長等機械性能因光照而迅速下降。

    3、因此,解決tio2的光催化活性高,提高其穩定性,避免活性過強導致尼龍老化、力學性能變差的問題對于消光/半消光尼龍材料的發展具有重要意義。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的在于提供一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑、消光/半消光尼龍及制備方法,解決現有tio2的光催化活性高、穩定性差的問題。

    2、為了實現上述專利技術目的,本專利技術提供以下技術方案:

    3、本專利技術提供了一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,包括以下步驟:

    4、將氫氧化鈉、偏鋁酸鈉、二氧化硅和水混合,然后加入二氧化鈦混合,進行晶化反應,得到多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑。

    5、優選的,在上述一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法中,所述氫氧化鈉和水的用量比為4~8g:40~70ml;

    6、所述氫氧化鈉和偏鋁酸鈉的質量比為4~8:2~3;

    7、所述偏鋁酸鈉和二氧化硅的質量比為1:0.9~2.5;

    8、所述二氧化鈦的質量為氫氧化鈉、偏鋁酸鈉、二氧化硅和二氧化鈦的總質量的5~30wt%;

    9、所述二氧化鈦為銳鈦型二氧化鈦。

    10、優選的,在上述一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法中,所述晶化反應的溫度為80~120℃,所述晶化反應的時間為10~30h。

    11、本專利技術還提供了一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法制得的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑。

    12、本專利技術還提供了一種消光/半消光尼龍的制備方法,包括以下步驟:

    13、將多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑、生物基尼龍鹽、溶劑、催化劑和抗氧化劑混合得到混合溶液,進行聚合反應,得到消光/半消光尼龍。

    14、優選的,在上述一種消光/半消光尼龍的制備方法中,所述混合溶液中多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的濃度為0.1~5wt%;

    15、所述混合溶液中生物基尼龍鹽的濃度為30~80wt%;

    16、所述催化劑的質量為生物基尼龍鹽和溶劑總質量的0.1~1wt%;

    17、所述抗氧化劑的質量為生物基尼龍鹽和溶劑總質量的0.01~1wt%。

    18、優選的,在上述一種消光/半消光尼龍的制備方法中,所述催化劑為含磷的化合物、氫氧化鈉、甲苯二異氰酸酯或硼酸類化合物;

    19、所述抗氧化劑為四[3-3’,5’-二叔丁基-4’-羥基苯基]丙酸丁季戊四醇酯、硫代二丙酸二月桂酯、硫代二丙酸二硬脂醇酯、酚類物質、胺類物質、亞磷酸脂類物質或硫酯類物質。

    20、優選的,在上述一種消光/半消光尼龍的制備方法中,所述聚合反應包括預聚反應和終聚反應;

    21、所述預聚反應的條件:溫度為120~200℃,時間為0.5~8h,壓力為0.5~3mpa;

    22、所述終聚反應的過程:在常壓下進行第一階段反應,第一階段反應結束后抽真空進行第二階段反應;

    23、所述第一階段反應的溫度為250~290℃,所述第一階段反應的時間為60~240min;

    24、所述第二階段反應的溫度為250~290℃,所述第二階段反應的時間為10~60min。

    25、本專利技術還提供了一種消光/半消光尼龍的制備方法制得的消光/半消光尼龍。

    26、經由上述的技術方案可知,與現有技術相比,本專利技術具有如下有益效果:

    27、本專利技術中對于銳鈦型tio2進行改性,在其外面包裹一層多孔分子篩,解決了tio2團聚、分散不均勻及tio2反應活性太強會加速尼龍纖維老化的問題,消除其對尼龍的不利影響,因而得到分子量高、聚合度高、力學性能優異的尼龍產品。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

    2.根據權利要求1所述的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,其特征在于,所述氫氧化鈉和水的用量比為4~8g:40~70mL;

    3.根據權利要求1所述的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,其特征在于,所述晶化反應的溫度為80~120℃,所述晶化反應的時間為10~30h。

    4.權利要求1~3任一項所述的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法制得的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑。

    5.一種消光/半消光尼龍的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

    6.根據權利要求5所述的消光/半消光尼龍的制備方法,其特征在于,所述混合溶液中權利要求4所述的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的濃度為0.1~5wt%;

    7.根據權利要求6所述的消光/半消光尼龍的制備方法,其特征在于,所述催化劑為含磷的化合物、氫氧化鈉、甲苯二異氰酸酯或硼酸類化合物;

    8.根據權利要求6或7所述的消光/半消光尼龍的制備方法,其特征在于,所述聚合反應包括預聚反應和終聚反應;

    9.權利要求5~8任一項所述的消光/半消光尼龍的制備方法制得的消光/半消光尼龍。

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    【技術特征摘要】

    1.一種多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

    2.根據權利要求1所述的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,其特征在于,所述氫氧化鈉和水的用量比為4~8g:40~70ml;

    3.根據權利要求1所述的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法,其特征在于,所述晶化反應的溫度為80~120℃,所述晶化反應的時間為10~30h。

    4.權利要求1~3任一項所述的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑的制備方法制得的多孔分子篩包裹二氧化鈦消光劑。

    5.一種消光/半消光尼龍的制備方法,...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:馬占玲,黃玉紅董閃閃王肖行秦紹杰辛宗武張鎖江
    申請(專利權)人:中國科學院過程工程研究所
    類型:發明
    國別省市:

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