【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及電子設備，特別是涉及一種攝像頭組合結構及遮蔽增強蓋板的制作方法。
技術介紹
1、對于手機、平板或穿戴設備上的傳感器進行遮蔽是一項重要工作，目的是提升設備的美觀性。例如，環境光傳感器可以通過使用油墨隱藏，但這種方法只適用于透過率要求不高的傳感器。對于攝像頭，由于其對透過率的要求較高，常規的遮蔽方法并不適用。目前，攝像頭的遮蔽方法包括減小攝像頭尺寸、在蓋板周圍印刷顏色相近的油墨，或使用顯示模組進行覆蓋。
2、在增透膜行業，通常關注的參數包括透過率和反射率，目標是通過增加透光量來提升攝像頭的成像效果。增透膜可以是單層或多層結構，單層結構只能針對特定波段進行增透，而多層結構能夠調節對整個可見光波段的增透效果，通常以平均透過率作為監控手段。
3、然而，由于攝像頭鏡頭通常有鍍膜，鍍膜顏色會導致鏡頭與周圍部件顏色存在差異。使用常規的鏡頭周圍印刷油墨方法，油墨難以完全覆蓋所有鏡頭外部件，可能會留下明顯的異色圓環。此外，鏡頭本身的弧度也會導致顏色和亮度的不一致，使得難以達到完美的遮蔽效果。如果使用顯示模組覆蓋方法，會降低鏡頭的進光量，影響成像效果，并影響屏幕亮度。而對于以往使用增透膜玻璃對攝像頭進行覆蓋的方案，由于增透膜本身的顏色僅由出于增透目的的材料特性決定，因此無法對攝像頭產生很好的遮蔽效果。
4、需要說明的是，在上述
技術介紹
部分公開的信息僅用于對本申請的背景的理解，因此可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。
技術實現思路
1、
2、為實現上述目的，本專利技術采用以下技術方案：
3、一種攝像頭組合結構，包括：
4、-攝像頭模組；
5、-覆蓋在所述攝像頭模組上的遮蔽增強蓋板，所述遮蔽增強蓋板包括：
6、-基板；
7、-增透膜層，所述增透膜層附著在所述基板表面，其中所述增透膜層包括交替層疊的高折射率材料層和低折射率材料層，所述高折射率材料層和低折射率材料層的厚度和材料種類被選擇和調整以使所述增透膜層具有與所述攝像頭模組接近的lab值，使得顏色差異值△e2000不大于3。
8、進一步地，所述高折射率材料選自為latio3(鈦酸鑭)和/或tio2(二氧化鈦)，所述低折射率材料為sio2(二氧化硅)。
9、進一步地，所述增透膜層為電鍍膜層。
10、進一步地，所述增透膜層的400-750納米波段的平均透過率在94％以上。
11、進一步地，所述基板由玻璃、藍寶石或塑料制成。
12、一種遮蔽增強蓋板的制作方法，包括以下步驟：
13、-獲取待與所述遮蔽增強蓋板組裝的攝像頭模組的lab值；
14、-準備基板；
15、-在所述基板的表面交替層疊高折射率材料層和低折射率材料層，以形成增透膜層；其中，所述高折射率材料層和低折射率材料層的厚度和材料種類被選擇和調整以使所述增透膜層具有與所述攝像頭模組接近的lab值。
16、進一步地，通過測量獲取所述攝像頭模組的lab。
17、進一步地，所述高折射率材料選自為latio3(鈦酸鑭)和tio2(二氧化鈦)，所述低折射率材料為sio2(二氧化硅)。
18、進一步地，在真空環境下，通過電鍍工藝在所述基板的表面形成增透膜層。
19、進一步地，所述增透膜層的400-750納米波段的平均透過率在94％以上。
20、本專利技術具有如下有益效果：
21、本專利技術提供了一種攝像頭組合結構，其具有能夠顯著提升攝像頭隱蔽性的遮蔽增強蓋板，同時確保了成像效果不受影響。這種蓋板通過精心設計的增透膜層，該膜層由交替層疊的高折射率材料層和低折射率材料層構成，這些材料層的厚度和種類經過精確選擇和調整，以匹配攝像頭模組的lab值，從而在視覺上實現了與攝像頭模組顏色的一致性，有效解決了傳統遮蔽方法中存在的色差問題。這種設計不僅避免了因鏡頭鍍膜顏色差異而產生的可見異色圓環，而且克服了鏡頭弧度導致的亮度和顏色不一致的問題。此外，與使用顯示模組覆蓋方法相比，本專利技術不會降低鏡頭的進光量，因此不影響成像效果和屏幕亮度。相比以往僅依據增透目的的材料特性決定顏色的增透膜玻璃方案，本專利技術的遮蔽增強蓋板在保證攝像頭的高透過率要求、保證了成像效果的同時，使得攝像頭隱蔽性大幅改善，實現了隱蔽性與功能性的完美結合。
22、本專利技術實施例中的其他有益效果將在下文中進一步述及。
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1.一種攝像頭組合結構，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述高折射率材料為LaTiO3(鈦酸鑭)和/或TiO2(二氧化鈦)，所述低折射率材料為SiO2(二氧化硅)。
3.如權利要求1或2所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述增透膜層為電鍍膜層。
4.如權利要求1至3任一項所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述增透膜層的400-750納米波段的平均透過率在94％以上。
5.如權利要求1至4任一項所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述基板由玻璃、藍寶石或塑料制成。
6.一種遮蔽增強蓋板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
7.如權利要求6所述的遮蔽增強蓋板的制作方法，其特征在于，通過測量獲取所述攝像頭模組的LAB。
8.如權利要求6或7所述的遮蔽增強蓋板的制作方法，其特征在于，所述高折射率材料選自為LaTiO3(鈦酸鑭)和TiO2(二氧化鈦)，所述低折射率材料為SiO2(二氧化硅)。
9.如權利要求6至8任一項所述的遮蔽增強蓋板的制作方法，其特征在于
10.如權利要求6至9任一項所述的遮蔽增強蓋板的制作方法，其特征在于，所述增透膜層的400-750納米波段的平均透過率在94％以上。
...【技術特征摘要】
1.一種攝像頭組合結構，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述高折射率材料為latio3(鈦酸鑭)和/或tio2(二氧化鈦)，所述低折射率材料為sio2(二氧化硅)。
3.如權利要求1或2所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述增透膜層為電鍍膜層。
4.如權利要求1至3任一項所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述增透膜層的400-750納米波段的平均透過率在94％以上。
5.如權利要求1至4任一項所述的攝像頭組合結構，其特征在于，所述基板由玻璃、藍寶石或塑料制成。
6.一種遮蔽增強蓋板的制作方法，其特...
【專利技術屬性】
技術研發人員：高再功，洪嘉樂，顏嘉麗，李歡園，程濤，
申請(專利權)人：伯恩光學深圳有限公司，
類型：發明
國別省市：
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