【技術實現步驟摘要】
本說明書涉及芯片，更具體地說，本申請涉及一種標準單元生成方法及相關設備。
技術介紹
1、隨著半導體技術的不斷演進，芯片制造工藝朝著更小的特征尺寸發展，finfet?工藝應運而生并成為現代集成電路制造的關鍵技術。finfet?工藝興起以克服傳統平面工藝局限。其三維鰭狀晶體管雖提升性能與功耗表現，但給?stdcell?開發帶來挑戰。
2、工藝上，finfet?結構復雜，電學特性分析難，制造精度要求高，影響單元性能且協調工藝與物理實現不易。eda?工具繁雜，邏輯到驗證各環節工具功能、格式、操作皆不同，協同困難，數據轉換適配繁瑣。開發流程串行且長，各環節相互依存，一環出錯需回溯，如物理設計與時序分析的迭代，致周期延長。開發還高度依賴專家經驗，因工藝復雜，專家需權衡晶體管參數并精通工具與流程，既提升技術門檻，又限制團隊規模與效率。總之finfet工藝中stdcell開發的所面臨的工藝復雜、eda工具繁雜、開發流程長、依賴于高級專家經驗等問題亟待解決。
技術實現思路
1、在
技術實現思路
部分中引入了一系列簡化形式的概念，這將在具體實施方式部分中進一步詳細說明。本申請的
技術實現思路
部分并不意味著要試圖限定出所要求保護的技術方案的關鍵特征和必要技術特征，更不意味著試圖確定所要求保護的技術方案的保護范圍。
2、第一方面，本申請提出一種標準單元生成方法，包括：
3、讀取目標工藝的工藝文件和需要生成的標準單元的行為描述；
4、針對需要調用的底層工具，生成所述
5、根據所述標準單元的目標要求和所述目標工藝，確定執行策略，所述執行策略為與所述標準單元相關的多級參數的組合；
6、通過所述適配器調用所述底層工具，以使所述底層工具根據所述執行策略中的各級參數、所述工藝文件和所述行為描述進行執行，生成所述標準單元。
7、在一種可行的實施方式中，根據需要生成的標準單元的目標要求和所述目標工藝，確定執行策略，包括：根據需要生成的所述標準單元的目標要求，確定一級策略參數；根據所述一級策略參數和所述目標工藝，確定二級設計參數；根據所述一級策略參數和所述二級設計參數，確定所述底層工具的三級工具參數，并將所述一級策略參數、所述二級設計參數與所述三級工具參數的組合作為所述執行策略。
8、在一種可行的實施方式中，針對需要調用的底層工具，生成所述底層工具對應的適配器，包括：對于需要調用的底層工具，生成對應的腳本語言；對所述腳本語言進行封裝，得到所述腳本語言對應的封裝體，并根據所述封裝體，建立所述底層工具對應的適配器。
9、在一種可行的實施方式中，所述方法還包括：在所述底層工具進行執行的過程中，緩存每個執行節點對應的輸出，若當前執行節點出現錯誤，則根據上一執行節點對應的輸出回退至所述上一執行節點。
10、在一種可行的實施方式中，在所述底層工具進行執行的過程中，若發生報警，則生成報警信息，并將所述報警信息記錄至日志文件中，以便用戶對所述報警信息進行查看。
11、在一種可行的實施方式中，所述方法還包括：獲取所述標準單元對應的結果文件，所述結果文件是所述底層工具根據所述執行策略和所述工藝文件進行執行所生成的文件；對所述結果文件進行統一管理操作，所述統一管理操作包含有檢查校驗操作、讀寫權限動態調整操作、文件流程管理操作以及超大文本優化操作。
12、在一種可行的實施方式中，所述方法還包括：若生成的所述標準單元對于所述目標要求的滿足率超過預設閾值，則將所述執行策略作為默認策略保存至策略庫中，以更新所述策略庫。
13、第二方面、本申請提出一種標準單元生成裝置，包括：
14、讀取單元，配置為讀取目標工藝的工藝文件和需要生成的標準單元的行為描述；
15、生成單元，配置為針對需要調用的底層工具，生成所述底層工具對應的適配器；
16、確定單元，配置為根據所述標準單元的目標要求和所述目標工藝，確定執行策略，所述執行策略為與所述標準單元相關的多級參數的組合；
17、調用單元，配置為通過所述適配器調用所述底層工具，以使所述底層工具根據所述執行策略中的各級參數、所述工藝文件和所述行為描述進行執行，生成所述標準單元。
18、第三方面，一種電子設備，包括：存儲器、處理器以及存儲在上述存儲器中并可在上述處理器上運行的計算機程序，上述處理器用于執行存儲器中存儲的計算機程序時實現如上述的第一方面任一項的標準單元生成方法的步驟。
19、第四方面，本申請還提出一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，上述計算機程序被處理器執行時實現第一方面任一項的標準單元生成方法。
20、綜上，本申請提出的技術方案，通過讀取工藝文件和需要生成的標準單元的行為描述，借助適配器轉換使底層工具能精準處理工藝信息和設計要求，有效應對工藝復雜性；針對繁雜底層工具生成對應適配器，將執行策略轉化為底層工具所需格式，實現無縫對接與協同，降低工具差異帶來的難度；依據目標工藝與目標要求確定多級參數組合的執行策略，經適配器調用底層工具依此執行，優化開發路徑，避免反復試錯，顯著縮短開發流程時長；且方案將流程規范化、自動化，減少對高級專家經驗的依賴，讓經驗不足的工程師也可依流程開展工作，降低人力依賴、促進知識共享并減少人員流動風險，全方位解決了標準單元開發面臨的諸多難題。
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1.一種標準單元生成方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，根據需要生成的標準單元的目標要求和所述目標工藝，確定執行策略，包括：
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，針對需要調用的底層工具，生成所述底層工具對應的適配器，包括：
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
8.一種標準單元生成裝置，其特征在于，包括：
9.一種電子設備，包括：存儲器和處理器，其特征在于，所述處理器用于執行存儲器中存儲的計算機程序時實現如權利要求1-7中任一項所述的標準單元生成方法。
10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1-7中任一項所述的標準單元生成方法。
【技術特征摘要】
1.一種標準單元生成方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，根據需要生成的標準單元的目標要求和所述目標工藝，確定執行策略，包括：
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，針對需要調用的底層工具，生成所述底層工具對應的適配器，包括：
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
6.根據權利要求1所述的方法，其特...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉丹，
申請(專利權)人：北京湯谷軟件技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
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