【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及掃描量測，具體涉及一種多波長相位調制掃描量測系統及方法。
技術介紹
1、在現代精密制造和材料科學研究領域，對微觀結構的高精度測量需求日益增長。傳統的光學測量技術受限于光源波長和測量原理，難以實現對復雜微觀結構的全面表征。為了克服這一難題，本專利技術提出了一種多波長相位調制掃描量測系統及方法，旨在通過引入多個波長的光源和先進的相位調制技術，實現對目標結構的高精度三維形貌測量。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于克服現有技術的缺點，提供了一種多波長相位調制掃描量測系統及方法，具體通過以下技術方案來實現：
2、本專利技術還提供的一種多波長相位調制掃描量測系統，包括輻射源、第一光學系統、第二光學系統、第三光學系統以及處理器，其中：
3、所述輻射源用于產生多波長光束；
4、所述第一光學系統用于將輻射源產生的光束分束并施加相位差；
5、所述第二光學系統用于引導光束至目標結構處；
6、所述第三光學系統用于使散射光束在成像檢測器處干涉；
7、所述處理器用于分析檢測信號以確定目標結構的性質。
8、可選或優選地，所述輻射源為能夠穩定且連續產生多波長光束的激光器。
9、可選或優選地，所述第一光學系統由分束器和相位調制器組成；所述分束器用于將入射光束分為兩束或多束，每束光都可以獨立進行相位調制；所述相位調制器通過調整相位調制器的參數，可以在不同光束之間施加一個或多個相位差，以滿足不同的測量需求
10、可選或優選地，所述第二光學系統包括多個聚焦透鏡，所述聚焦透鏡用于將調制后的光束聚焦到目標結構上。
11、可選或優選地，所述第三光學系統包括成像檢測器；所述成像檢測器用于接收從目標結構散射回來的光束并使其發生干涉。
12、可選或優選地，所述處理器用于對第三光學系統捕獲的干涉圖樣進行分析處理，以實時提取出目標結構的相關信息；所述處理器通過對比不同相位差下的干涉圖樣，計算出目標結構的三維形貌、粗糙度和折射率。
13、本專利技術還提供一種多波長相位調制掃描量測方法，基于如上述多波長相位調制掃描量測系統，包括以下步驟：
14、s1、利用輻射源產生多波長光束；
15、s2、將光束通過第一光學系統進行分束和相位調制；
16、s3、將調制后的光束聚焦到目標結構上；
17、s4、收集散射光束并在成像檢測器處發生干涉；
18、s5、由處理器分析處理干涉圖樣，提取出目標結構的相關信息。
19、基于上述技術方案，本專利技術提供的一種多波長相位調制掃描量測系統方法，可產生如下技術效果：
20、(1)多波長光源集成：通過集成多個波長的光源，實現了光刻過程的多樣化和靈活性；不同波段的光源可以根據實際需要進行調整和組合，以滿足不同材料和結構的光刻需求；
21、(2)光束合成技術：采用先進的光束合成技術，提高了光束質量和光刻分辨率。通過精確控制各波段光束的能量分布和相位關系，實現了高質量的光刻圖案；
22、(3)智能化控制系統：引入了智能化控制系統，實現了光刻過程的自動化和精確控制；通過實時監測和反饋機制，可以及時發現并糾正光刻過程中的偏差和誤差；
23、(4)高兼容性：本系統可兼容現有的光刻設備和技術，無需進行大規模的改造和升級，同時，也為未來的技術發展預留了足夠的空間和接口；
24、(5)運行成本低：長期運行成本低，能夠帶來顯著的光刻效率提升和產量增加。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：包括輻射源、第一光學系統、第二光學系統、第三光學系統以及處理器，其中：
2.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：所述輻射源為能夠穩定且連續產生多波長光束的激光器。
3.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：所述第一光學系統由分束器和相位調制器組成；所述分束器用于將入射光束分為兩束或多束，每束光都可以獨立進行相位調制；所述相位調制器通過調整相位調制器的參數，可以在不同光束之間施加一個或多個相位差，以滿足不同的測量需求，從而實現光束相位的精確控制。
4.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：所述第二光學系統包括多個聚焦透鏡，所述聚焦透鏡用于將調制后的光束聚焦到目標結構上。
5.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：所述第三光學系統包括成像檢測器；所述成像檢測器用于接收從目標結構散射回來的光束并使其發生干涉。
6.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于
7.一種多波長相位調制掃描量測方法，其特征在于：采用上述多波長相位調制掃描量測系統進行量測，包括以下步驟：
...【技術特征摘要】
1.一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：包括輻射源、第一光學系統、第二光學系統、第三光學系統以及處理器，其中：
2.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：所述輻射源為能夠穩定且連續產生多波長光束的激光器。
3.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，其特征在于：所述第一光學系統由分束器和相位調制器組成；所述分束器用于將入射光束分為兩束或多束，每束光都可以獨立進行相位調制；所述相位調制器通過調整相位調制器的參數，可以在不同光束之間施加一個或多個相位差，以滿足不同的測量需求，從而實現光束相位的精確控制。
4.根據權利要求1所述的一種多波長相位調制掃描量測系統，...
【專利技術屬性】
技術研發人員：葛明敏，林秋生，
申請(專利權)人：蘇州勵索精密裝備科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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