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    一種消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構制造技術

    技術編號:44492422 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-03-04 17:58
    本發明專利技術公開了一種消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,包括閥體,所述閥體開設有相對設置的第一進液通道和第二進液通道,所述第一進液通道的出液口、所述第二進液通道的出液口分別沿所述閥體的內壁表面延伸且其二者的延伸方向相反;其中,所述第一進液通道、所述第二進液通道位于不同軸線。本發明專利技術的結構本身采用有一定彈性的的高分子材料,可以顯著降低內部結構所受的沖擊力,降低震動噪音,從而保護內部結構免受損害;進一步的,相對設置的2個進液口相互交錯,在閥體內產生渦流區,抑制湍流產生;更進一步的,通過在進液通道內設置的槽齒結構,達到減少噪音和震動,減少內能產生,提高工作效率。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及進液閥的,尤其涉及一種消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構


    技術介紹

    1、在大流量液泵中,進液口的流速大,流速快,頻率高,為了滿足大流量和高流速,需要對置進液口。在兩個進液口對置的情況下,高速流動的液體相互碰撞,產生噪聲和振動。對機械內部相關零件造成損壞。同時還會產生湍流。造成能量損失,降低工作效率。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的是提供一種消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,通過交錯設置的第一進液通道、第二進液通道使2股高速射流不會產生碰撞,進一步的,還通過設置在進液通道中的緩沖結構減少噪音和震動,從而克服現有技術中存在的缺陷。

    2、為了實現上述目的,本專利技術采用了如下技術方案:

    3、一種消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,包括閥體,所述閥體開設有相對設置的第一進液通道和第二進液通道,所述第一進液通道的出液口、所述第二進液通道的出液口分別沿所述閥體的內壁表面延伸且其二者的延伸方向相反;其中,所述第一進液通道、所述第二進液通道位于不同軸線。

    4、需要說明的是,沿所述第一進液通道的內側壁、沿所述第一進液通道的內側壁分別設有第一緩沖結構和第二緩沖結構,其中,所述第一緩沖結構、所述第二緩沖結構分別靠近于所述閥體的橫向中心線設置。

    5、需要說明的是,所述第一緩沖結構為若干第一槽齒,若干的所述第一槽齒沿所述第一進液通道的內側壁依次排列設置。

    6、需要說明的是,若干的所述第一槽齒為縱向排列。

    7、需要說明的是,所述第二緩沖結構為若干第二槽齒,若干的所述第二槽齒沿所述第二進液通道的內側壁依次排列設置。

    8、需要說明的是,若干的所述第二槽齒為縱向排列。

    9、需要說明的是,由所述第一進液通道的出液口與所述第二進液通道的出液口之間形成有渦流區。

    10、需要說明的是,所述第一進液通道的軸線和第二進液通道的軸線相互平行。

    11、需要說明的是,所述第一進液通道的軸線與所述第二進液通道的軸線位于相同的平面中。

    12、需要說明的是,所述第一進液通道的軸線與所述第二進液通道的軸線位于不同的平面中。

    13、本專利技術的有益效果在于:本專利技術的結構本身采用有一定彈性的的高分子材料,可以顯著降低內部結構所受的沖擊力,降低震動噪音,從而保護內部結構免受損害;進一步的,相對設置的2個進液口相互交錯,在閥體內產生渦流區,抑制湍流產生;更進一步的,通過在進液通道內設置的槽齒結構,達到減少噪音和震動,減少內能產生,提高工作效率。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,包括閥體,其特征在于,所述閥體開設有相對設置的第一進液通道和第二進液通道,所述第一進液通道的出液口、所述第二進液通道的出液口分別沿所述閥體的內壁表面延伸且其二者的延伸方向相反;其中,所述第一進液通道、所述第二進液通道位于不同軸線。

    2.根據權利要求1所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,沿所述第一進液通道的內側壁、沿所述第一進液通道的內側壁分別設有第一緩沖結構和第二緩沖結構,其中,所述第一緩沖結構、所述第二緩沖結構分別靠近于所述閥體的橫向中心線設置。

    3.根據權利要求2所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,所述第一緩沖結構為若干第一槽齒,若干的所述第一槽齒沿所述第一進液通道的內側壁依次排列設置。

    4.根據權利要求3所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,若干的所述第一槽齒為縱向排列。

    5.根據權利要求2所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,所述第二緩沖結構為若干第二槽齒,若干的所述第二槽齒沿所述第二進液通道的內側壁依次排列設置。

    6.根據權利要求5所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,若干的所述第二槽齒為縱向排列。

    7.根據權利要求5所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,由所述第一進液通道的出液口與所述第二進液通道的出液口之間形成有渦流區。

    8.根據權利要求1所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,所述第一進液通道的軸線和第二進液通道的軸線相互平行。

    9.根據權利要求8所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,所述第一進液通道的軸線與所述第二進液通道的軸線位于相同的平面中。

    10.根據權利要求8所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,所述第一進液通道的軸線與所述第二進液通道的軸線位于不同的平面中。

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    【技術特征摘要】

    1.一種消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,包括閥體,其特征在于,所述閥體開設有相對設置的第一進液通道和第二進液通道,所述第一進液通道的出液口、所述第二進液通道的出液口分別沿所述閥體的內壁表面延伸且其二者的延伸方向相反;其中,所述第一進液通道、所述第二進液通道位于不同軸線。

    2.根據權利要求1所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,沿所述第一進液通道的內側壁、沿所述第一進液通道的內側壁分別設有第一緩沖結構和第二緩沖結構,其中,所述第一緩沖結構、所述第二緩沖結構分別靠近于所述閥體的橫向中心線設置。

    3.根據權利要求2所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,所述第一緩沖結構為若干第一槽齒,若干的所述第一槽齒沿所述第一進液通道的內側壁依次排列設置。

    4.根據權利要求3所述的消減射流沖擊影響的高速進液閥口的結構,其特征在于,若干的所述第一槽齒為縱向排列。

    5.根據權利要求2所述的...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:史學鵬
    申請(專利權)人:北京艾思航科技服務有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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