【技術實現步驟摘要】
本申請涉及涂層，尤其涉及一種耐沖刷的霧化盤的涂層及其制備方法。
技術介紹
1、霧化盤是安裝在霧化器或相關設備上，用于將液體霧化成微小顆粒的裝置。其工作原理通常是通過高速旋轉或特定的流體動力學設計，使液體在霧化盤表面產生離心力或剪切力，從而將液體分散成細小的霧滴。霧化盤通常由圓盤形主體、噴嘴、軸套等部件組成。圓盤形主體是霧化盤的核心部分，其表面設計有特定的紋理或結構，以優化霧化效果。
2、霧化盤在運行過程中，可能會接觸到各種腐蝕性液體或氣體，如酸性或堿性溶液。高耐蝕性表面能夠有效抵抗這些腐蝕性物質的侵蝕，延長霧化盤的使用壽命。霧化盤在高速旋轉或噴射過程中，會受到較大的摩擦力和沖擊力。高耐磨性表面能夠減少這些力對霧化盤的磨損，延長其使用壽命。霧化盤在使用過程中，可能會積聚各種污物，如灰塵、油脂等。這些污物會影響霧化盤的霧化效果和性能。自清潔能力能夠防止污物在霧化盤表面堆積，保持其表面的清潔和光滑。在現有技術中，通過在霧化盤的表面設置pvd涂層，涂層薄<10μm，然而霧化盤的轉速高達8000～12000轉/分，設置pvd涂層的霧化盤耐腐蝕性和耐沖刷性不能滿足6～12個月的使用壽命要求。中國專利cn114016028b公布了一種薄壁鈦合金基體耐高溫抗沖刷復合涂層及其制備方法，但該復合涂層沒有自清潔性能，污物在霧化盤表面易堆積。因此，如何同時提高霧化盤的耐蝕性、耐磨性和自清潔能力，是目前急需解決的技術問題。
技術實現思路
1、本申請提供了一種耐沖刷的霧化盤的涂層及其制備方法
2、第一方面，本申請提供了一種耐沖刷的霧化盤的涂層，所述涂層包括：
3、底層，所述底層附著于所述霧化盤的表面，所述底層的噴涂料為高鉬鎳基自熔性合金粉末；
4、中間層，所述中間層附著于所述底層的表面，以重量份計，所述中間層的噴涂料包括：鎳基自熔合金粉末為20～50份，wc為10～25份，ti3al合金為5～10份，α-zrp為5～15份，鉬酸鹽為2～10份，硅酸鹽為2～5份，sio2為5～10份及al2o3為4～8份，氧化鈰1～3份，氧化鑭1～3份；以及
5、表層，所述表層附著于所述中間層的表面，所述表層的涂料為自清潔涂料，所述自清潔涂料的組分包括：tio2、聚四氟乙烯分散乳液，硅溶膠，α-甲基苯乙基甲基含氫聚硅氧烷。
6、可選的，所述鎳基自熔合金粉末包括：nico23cr17al12y0.5、nico23cr20al8.5ta4y0.1以及coni32cr21al8y0.5中的一種或多種，所述鎳基自熔合金粉末的平均粒徑為20～30μm。
7、可選的，所述硅酸鹽包括：云母粉、硅酸鈣、硅酸鋁及堿金屬硅酸鹽中的一種或多種，所述鉬酸鹽包括：堿金屬鉬酸鹽、鎂鉬酸鹽及鉈鉬酸鹽中的一種或多種。
8、可選的，所述硅酸鹽為云母粉和硅酸鋁，所述云母粉與所述硅酸鋁的質量比為(1～3)：1。
9、可選的，以重量份計，所述自清潔涂料包括：tio2為20～50份，聚四氟乙烯分散乳液為10～30份，硅溶膠為20～40份，α-甲基苯乙基甲基含氫聚硅氧烷10～20份。
10、可選的，所述底層的厚度為50～100μm，所述中間層的厚度為200～500μm，所述表層的厚度為40～80μm。
11、可選的，所述涂層滿足如下性能：顯微硬度hv≥500，孔隙率＜0.5％，表面含有所述涂層的霧化盤的使用壽命＞12月。
12、第二方面，本申請提供了一種如第一方面中任意一項實施例所述的涂層的制備方法，所述方法包括：
13、將霧化盤進行噴丸處理；
14、將底層的噴涂料噴涂至所述霧化盤的表面，以在所述霧化盤的表面形成底層；
15、將中間層的噴涂料噴涂至所述底層的表面，以在所述底層的表面形成中間層；
16、將具有底層和中間層所述霧化盤進行感應重熔，后降溫至室溫；
17、將表層的涂料涂覆于所述中間層的表面，后進行干燥，以在所述中間層的表面形成表層。
18、可選的，所述噴涂采用大氣等離子噴涂工藝，所述大氣等離子噴涂工藝的參數包括：氬氣流量為25～35l/min，氫氣流量為5～10l/min，電流大小控制為500～550a，功率為25～35kw，送粉氬氣流量為1.0～3.0l/min，送粉速度為50～70g/min，噴涂距離為80～100mm。
19、可選的，所述感應重熔的參數包括：熔化溫度為1300～1400℃，熔化時間為60～180s。
20、本申請實施例提供的上述技術方案與現有技術相比具有如下優點：
21、本申請提供了一種耐沖刷的霧化盤的涂層，首先通過設計底層、中間層和表層的熱膨脹系數依次減少，使得涂層在溫度變化時能夠更好地分散和平衡熱應力，提高涂層的整體穩定性和附著力；其次合理設計中間層的化學組分，各組分在噴涂過程中相互交織、緊密結合，共同形成一層具有優異耐蝕性和耐磨性的保護膜，從而能夠提高霧化盤的耐蝕性和耐磨性；再次合理設計表層的化學組分，各組分通過光催化、疏水作用、填充增稠、調節表面性能和化學鍵合等多種方式共同作用于涂層表面，從而具有優異的自清潔性能；最后三者共同作用，從而同時提高霧化盤的耐蝕性、耐磨性和自清潔能力。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種耐沖刷的霧化盤的涂層，其特征在于，所述涂層包括：
2.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述鎳基自熔合金粉末包括：NiCo23Cr17Al12Y0.5、NiCo23Cr20Al8.5Ta4Y0.1以及CoNi32Cr21Al8Y0.5中的一種或多種，所述鎳基自熔合金粉末的平均粒徑為20～30μm。
3.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述硅酸鹽包括：云母粉、硅酸鈣、硅酸鋁及堿金屬硅酸鹽中的一種或多種，所述鉬酸鹽包括：堿金屬鉬酸鹽、鎂鉬酸鹽及鉈鉬酸鹽中的一種或多種。
4.根據權利要求3所述的涂層，其特征在于，所述硅酸鹽為云母粉和硅酸鋁，所述云母粉與所述硅酸鋁的質量比為(1～3)：1。
5.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，以重量份計，所述自清潔涂料包括：TiO2為20～50份，聚四氟乙烯分散乳液為10～30份，硅溶膠為20～40份，α-甲基苯乙基甲基含氫聚硅氧烷10～20份。
6.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述底層的厚度為50～100μm，所述中間層的厚度為200～500μm，所述表層的厚
7.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述涂層滿足如下性能：顯微硬度HV≥500，孔隙率＜0.5％，表面含有所述涂層的霧化盤的使用壽命＞12月。
8.一種如權利要求1～7中任意一項所述的涂層的制備方法，其特征在于，所述方法包括：
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述噴涂采用大氣等離子噴涂工藝，所述大氣等離子噴涂工藝的參數包括：氬氣流量為25～35L/min，氫氣流量為5～10L/min，電流大小控制為500～550A，功率為25～35kW，送粉氬氣流量為1.0～3.0L/min，送粉速度為50～70g/min，噴涂距離為80～100mm。
10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述感應重熔的參數包括：熔化溫度為1300～1400℃，熔化時間為60～180s。
...【技術特征摘要】
1.一種耐沖刷的霧化盤的涂層，其特征在于，所述涂層包括：
2.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述鎳基自熔合金粉末包括：nico23cr17al12y0.5、nico23cr20al8.5ta4y0.1以及coni32cr21al8y0.5中的一種或多種，所述鎳基自熔合金粉末的平均粒徑為20～30μm。
3.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述硅酸鹽包括：云母粉、硅酸鈣、硅酸鋁及堿金屬硅酸鹽中的一種或多種，所述鉬酸鹽包括：堿金屬鉬酸鹽、鎂鉬酸鹽及鉈鉬酸鹽中的一種或多種。
4.根據權利要求3所述的涂層，其特征在于，所述硅酸鹽為云母粉和硅酸鋁，所述云母粉與所述硅酸鋁的質量比為(1～3)：1。
5.根據權利要求1所述的涂層，其特征在于，以重量份計，所述自清潔涂料包括：tio2為20～50份，聚四氟乙烯分散乳液為10～30份，硅溶膠為20～40份，α-甲基苯乙基甲基含氫聚硅氧烷10～20份。
6.根據...
【專利技術屬性】
技術研發人員：朱暉朝，黃健，雷運生，徐博翰，
申請(專利權)人：廣東粵科新材料科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。