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    球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法技術(shù)

    技術(shù)編號:44492651 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-03-04 17:58
    本發(fā)明專利技術(shù)公開一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,包括如下步驟:植球面特定位置點坐標測量:測量封裝電路植球面特定位置點的垂直坐標,包括中心點、頂點、頂點與中心點連線的中點;關(guān)鍵點坐標確定:根據(jù)各頂點、中點與中心點高度差,得到各點高度,選擇與其最近的頂點高度差最大的中點為極值點,該最近頂點為高權(quán)重頂點,與該頂點相鄰的兩個頂點為低權(quán)重頂點;基準平面確定:由高權(quán)重頂點和兩個低權(quán)重頂點共同確定基準平面;極值點投影高度簡化計算:采用簡化公式,計算極值點在基準平面上的投影點的高度;共面度估算:極值點與其投影點的高度差,即為共面度估算值。本發(fā)明專利技術(shù)的共面度估算方法,能有效估計植球前各工序的共面度。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)屬于混合集成電路生產(chǎn)制造,特別是一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法


    技術(shù)介紹

    1、球柵陣列(ball?grid?array,簡稱bga)封裝是在封裝體基板的底部制作陣列,焊球作為電路的i/o端與印刷線路板(pcb)互接。采用該項技術(shù)封裝的器件是一種表面貼裝型器件。球柵陣列是在基板的背面按陣列方式制出球形觸點作為引腳,在基板正面裝配lsi(部分bga芯片與引出端在基板同一面)是多引腳lsi用的一種表面貼裝型封裝。

    2、雖然有機基板具有較低的熱膨脹系數(shù),但隨著封裝尺寸越來越大,在不同器件之間的熱失配也越專利技術(shù)顯。隨著晶圓加工工藝能力的提升,單芯裸片尺寸越來越大,增大了焊接后裸芯片于有機基板間的熱應力。由于對于倒裝芯片封裝形式,為保護裸芯片凸點的可靠性,需要在焊接后對裸芯片進行底部填充,該操作既保護了裸芯片凸點免遭應力釋放破壞,同時也減少了一種熱形變過程中的應力釋放手段。封裝尺寸越大、集成密度越高的混合集成電路,其封裝加工過程中的翹曲變化越復雜,封裝共面度優(yōu)化分析難度越高。而集成電路的可焊接性對焊球的共面度提出了要求,共面度超出可焊接范圍,再先進的集成電路也無法工程化應用。

    3、在bga電路植球前,倒裝上芯、貼蓋、貼蓋后烘烤、貼蓋sat除濕等工序均會對最終共面度產(chǎn)生影響,所以在植球前能夠?qū)ga封裝電路的各工序后共面度測量或估算顯得尤為重要。在各工序后獲得共面度結(jié)果,一方面可以定位各工序?qū)裁娑鹊挠绊懗潭?,另一方面可以為工序的工藝改進措施的有效性提供評判依據(jù)。系統(tǒng)級封裝電路內(nèi)部集成了fpga、dsp、ddr和adc等裸芯片,這類器件價值較高。在加工過程中提前獲得共面度值并制定相應的應急糾正措施,可以避免在封裝完成后出現(xiàn)批次性的共面度超差情況,進而避免造成極大的成本損失和更多批次加工周期的浪費。由于缺少過程中共面度測量手段,封裝廠也無法有效實施太多的工藝改進措施,在加工過程中提前獲得共面度值,封裝廠可以準確定位對共面度影響較大的工序,并可以對工藝改進措施的有效性作出評價,可以加快封裝廠的封裝工藝改進發(fā)展的進程,可促進集成電路封裝產(chǎn)業(yè)工藝改進發(fā)展。

    4、然而,目前市場上的共面度測量儀均基于光學檢測原理,自動識別器件的引腳分布,對引腳高度差進行測量,再運用通用共面度算法解出共面度值。在bga封裝電路最終完成植球后可以使用該方式測量共面度數(shù)據(jù),而無法實現(xiàn)植球前對bga封裝電路半成品的共面度測量。根據(jù)現(xiàn)有資料,也沒有發(fā)現(xiàn)可以估算bga封裝電路植球前共面度的其他方法。

    5、因此,現(xiàn)有技術(shù)存在的問題是:缺少對bga封裝電路植球前共面度進行有效測量或估算的方法。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的目的在于提供一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,能有效估計植球前各工序的共面度,便于控制和評估植球前各環(huán)節(jié)對電路共面度的影響。

    2、實現(xiàn)本專利技術(shù)目的的技術(shù)解決方案為:

    3、一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,包括如下步驟:

    4、植球面特定位置點坐標測量:測量封裝電路植球面9個特定位置點的垂直坐標;所述9個特定位置分別為封裝電路中心點、封裝電路4個頂點、所述封裝電路4個頂點分別與封裝電路中心點連線的中點;

    5、關(guān)鍵點坐標確定:根據(jù)各封裝電路頂點及中點與封裝電路中心點高度差,得到各封裝電路頂點及中點高度,選擇與其最近的封裝電路頂點高度差最大的中點為極值點,與該極值點最近的封裝電路頂點為高權(quán)重頂點,與該高權(quán)重頂點相鄰的兩個封裝電路頂點為低權(quán)重頂點;

    6、基準平面確定:由所述高權(quán)重頂點和兩個所述低權(quán)重頂點共同確定一個平面,該平面為基準平面;

    7、極值點投影高度簡化計算:采用簡化公式,計算所述極值點在基準平面上的投影點的高度;

    8、共面度估算:根據(jù)所述極值點高度與該極值點在基準平面上的投影點的高度,計算得到共面度估算值。

    9、優(yōu)選地,所述極值點確定步驟包括:

    10、計算非中心點高度:根據(jù)所述封裝電路4個頂點p1、p2、p3、p4,及封裝電路4個頂點分別與封裝電路中心點連線的4個中點p1’、p2’、p3’、p4’的垂直坐標,以及封裝電路中心點的垂直坐標,計算得到各非中心點,即各頂點及中點相對于封裝電路中心點的高度,

    11、所述非中心點高度按如下公式計算:

    12、hpi=vpi-vp0

    13、其中,hpi為非中心點pi的高度,vpi為非中心點pi的垂直坐標測量值,i=1、2、3、4、1‘、2’、3‘、4’,vp0為封裝電路中心點的垂直坐標測量值;

    14、極值點確定:以封裝電路各個頂點的高度減去與該頂點最近的中點高度,得到封裝電路各個頂點的翹曲值,選取與翹曲值最大的頂點最近的中點為極值點;

    15、高權(quán)重頂點確定:選擇與所述極值點最近的頂點為高權(quán)重頂點,該高權(quán)重頂點的高度值作為高權(quán)重值;

    16、低權(quán)重頂點確定:選擇與所述高權(quán)重頂點相鄰的兩個頂點為個低權(quán)重頂點,所述低權(quán)重頂點的高度值作為低權(quán)重值。

    17、優(yōu)選地,所述極值點投影高度簡化計算步驟具體為:

    18、按如下簡化公式計算極值點在基準平面上的投影點的高度近似值,

    19、hs=(hh×2+hl1+hl2)

    20、其中,hs為簡化的投影點高度,hh為高權(quán)重值,hl1和hl2為兩個低權(quán)重值。

    21、優(yōu)選地,所述共面度估算步驟具體為:

    22、按下式計算得到共面度估算值,

    23、c=hpi′=-hs

    24、式中,c為共面度,hpi′為極值點高度,hs為投影點高度。

    25、本專利技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,其顯著優(yōu)點為:

    26、1、有效估算共面度:本專利技術(shù)基于簡化算法模型和簡單測量,實現(xiàn)了對植球前bga封裝電路的共面度估算方法,為植球前電路共面度評估提供有效手段,彌補了在當前工業(yè)設備研制窗口期中評估手段的空缺。

    27、2、便于提前評估工序影響:本專利技術(shù)基于每個狀態(tài)的實測數(shù)據(jù)估算出共面度數(shù)據(jù),可有效支撐各工序?qū)裁娑茸兓潭鹊挠绊?,可用于對封裝工序各環(huán)節(jié)對電路共面度影響提供評判依據(jù)。而現(xiàn)有技術(shù)僅在bga封裝電路植球后測量共面度最終結(jié)果,無法準確定位影響更大的工序,僅能依據(jù)仿真數(shù)據(jù),而當前大部分封裝過程中,還無法準確建立各封裝工序的環(huán)境條件,模擬推導有指導意義的仿真數(shù)據(jù)。

    28、下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本專利技術(shù)作進一步的詳細描述。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,其特征在于,包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點確定步驟包括:

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點確定步驟中翹曲值按如下公式計算:

    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點投影高度簡化計算步驟具體為:

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的共面度估算方法,其特征在于,所述共面度估算步驟具體為:

    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,其特征在于,包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點確定步驟包括:

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:邱慶偉,孔金磊,楊繞波
    申請(專利權(quán))人:江蘇萬邦微電子有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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