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【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)屬于混合集成電路生產(chǎn)制造,特別是一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法。
技術(shù)介紹
1、球柵陣列(ball?grid?array,簡稱bga)封裝是在封裝體基板的底部制作陣列,焊球作為電路的i/o端與印刷線路板(pcb)互接。采用該項技術(shù)封裝的器件是一種表面貼裝型器件。球柵陣列是在基板的背面按陣列方式制出球形觸點作為引腳,在基板正面裝配lsi(部分bga芯片與引出端在基板同一面)是多引腳lsi用的一種表面貼裝型封裝。
2、雖然有機基板具有較低的熱膨脹系數(shù),但隨著封裝尺寸越來越大,在不同器件之間的熱失配也越專利技術(shù)顯。隨著晶圓加工工藝能力的提升,單芯裸片尺寸越來越大,增大了焊接后裸芯片于有機基板間的熱應力。由于對于倒裝芯片封裝形式,為保護裸芯片凸點的可靠性,需要在焊接后對裸芯片進行底部填充,該操作既保護了裸芯片凸點免遭應力釋放破壞,同時也減少了一種熱形變過程中的應力釋放手段。封裝尺寸越大、集成密度越高的混合集成電路,其封裝加工過程中的翹曲變化越復雜,封裝共面度優(yōu)化分析難度越高。而集成電路的可焊接性對焊球的共面度提出了要求,共面度超出可焊接范圍,再先進的集成電路也無法工程化應用。
3、在bga電路植球前,倒裝上芯、貼蓋、貼蓋后烘烤、貼蓋sat除濕等工序均會對最終共面度產(chǎn)生影響,所以在植球前能夠?qū)ga封裝電路的各工序后共面度測量或估算顯得尤為重要。在各工序后獲得共面度結(jié)果,一方面可以定位各工序?qū)裁娑鹊挠绊懗潭?,另一方面可以為工序的工藝改進措施的有效性提供評判依據(jù)。系統(tǒng)級封裝電路內(nèi)部集成了fpga
4、然而,目前市場上的共面度測量儀均基于光學檢測原理,自動識別器件的引腳分布,對引腳高度差進行測量,再運用通用共面度算法解出共面度值。在bga封裝電路最終完成植球后可以使用該方式測量共面度數(shù)據(jù),而無法實現(xiàn)植球前對bga封裝電路半成品的共面度測量。根據(jù)現(xiàn)有資料,也沒有發(fā)現(xiàn)可以估算bga封裝電路植球前共面度的其他方法。
5、因此,現(xiàn)有技術(shù)存在的問題是:缺少對bga封裝電路植球前共面度進行有效測量或估算的方法。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的在于提供一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,能有效估計植球前各工序的共面度,便于控制和評估植球前各環(huán)節(jié)對電路共面度的影響。
2、實現(xiàn)本專利技術(shù)目的的技術(shù)解決方案為:
3、一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,包括如下步驟:
4、植球面特定位置點坐標測量:測量封裝電路植球面9個特定位置點的垂直坐標;所述9個特定位置分別為封裝電路中心點、封裝電路4個頂點、所述封裝電路4個頂點分別與封裝電路中心點連線的中點;
5、關(guān)鍵點坐標確定:根據(jù)各封裝電路頂點及中點與封裝電路中心點高度差,得到各封裝電路頂點及中點高度,選擇與其最近的封裝電路頂點高度差最大的中點為極值點,與該極值點最近的封裝電路頂點為高權(quán)重頂點,與該高權(quán)重頂點相鄰的兩個封裝電路頂點為低權(quán)重頂點;
6、基準平面確定:由所述高權(quán)重頂點和兩個所述低權(quán)重頂點共同確定一個平面,該平面為基準平面;
7、極值點投影高度簡化計算:采用簡化公式,計算所述極值點在基準平面上的投影點的高度;
8、共面度估算:根據(jù)所述極值點高度與該極值點在基準平面上的投影點的高度,計算得到共面度估算值。
9、優(yōu)選地,所述極值點確定步驟包括:
10、計算非中心點高度:根據(jù)所述封裝電路4個頂點p1、p2、p3、p4,及封裝電路4個頂點分別與封裝電路中心點連線的4個中點p1’、p2’、p3’、p4’的垂直坐標,以及封裝電路中心點的垂直坐標,計算得到各非中心點,即各頂點及中點相對于封裝電路中心點的高度,
11、所述非中心點高度按如下公式計算:
12、hpi=vpi-vp0
13、其中,hpi為非中心點pi的高度,vpi為非中心點pi的垂直坐標測量值,i=1、2、3、4、1‘、2’、3‘、4’,vp0為封裝電路中心點的垂直坐標測量值;
14、極值點確定:以封裝電路各個頂點的高度減去與該頂點最近的中點高度,得到封裝電路各個頂點的翹曲值,選取與翹曲值最大的頂點最近的中點為極值點;
15、高權(quán)重頂點確定:選擇與所述極值點最近的頂點為高權(quán)重頂點,該高權(quán)重頂點的高度值作為高權(quán)重值;
16、低權(quán)重頂點確定:選擇與所述高權(quán)重頂點相鄰的兩個頂點為個低權(quán)重頂點,所述低權(quán)重頂點的高度值作為低權(quán)重值。
17、優(yōu)選地,所述極值點投影高度簡化計算步驟具體為:
18、按如下簡化公式計算極值點在基準平面上的投影點的高度近似值,
19、hs=(hh×2+hl1+hl2)
20、其中,hs為簡化的投影點高度,hh為高權(quán)重值,hl1和hl2為兩個低權(quán)重值。
21、優(yōu)選地,所述共面度估算步驟具體為:
22、按下式計算得到共面度估算值,
23、c=hpi′=-hs
24、式中,c為共面度,hpi′為極值點高度,hs為投影點高度。
25、本專利技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,其顯著優(yōu)點為:
26、1、有效估算共面度:本專利技術(shù)基于簡化算法模型和簡單測量,實現(xiàn)了對植球前bga封裝電路的共面度估算方法,為植球前電路共面度評估提供有效手段,彌補了在當前工業(yè)設備研制窗口期中評估手段的空缺。
27、2、便于提前評估工序影響:本專利技術(shù)基于每個狀態(tài)的實測數(shù)據(jù)估算出共面度數(shù)據(jù),可有效支撐各工序?qū)裁娑茸兓潭鹊挠绊?,可用于對封裝工序各環(huán)節(jié)對電路共面度影響提供評判依據(jù)。而現(xiàn)有技術(shù)僅在bga封裝電路植球后測量共面度最終結(jié)果,無法準確定位影響更大的工序,僅能依據(jù)仿真數(shù)據(jù),而當前大部分封裝過程中,還無法準確建立各封裝工序的環(huán)境條件,模擬推導有指導意義的仿真數(shù)據(jù)。
28、下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本專利技術(shù)作進一步的詳細描述。
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1.一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,其特征在于,包括如下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點確定步驟包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點確定步驟中翹曲值按如下公式計算:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點投影高度簡化計算步驟具體為:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的共面度估算方法,其特征在于,所述共面度估算步驟具體為:
【技術(shù)特征摘要】
1.一種球柵陣列封裝電路植球前共面度估算方法,其特征在于,包括如下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極值點確定步驟包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的共面度估算方法,其特征在于,所述極...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:邱慶偉,孔金磊,楊繞波,
申請(專利權(quán))人:江蘇萬邦微電子有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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