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    一種堿銅電鍍?nèi)芤杭爸苽浞椒夹g

    技術編號:44492659 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-03-04 17:58
    本發(fā)明專利技術公開了一種新型堿銅電鍍?nèi)芤杭爸苽浞椒ǎㄒ韵陆M分,硫酸銅40~380g/L、含多?COOH基團有機酸及其鹽50~410g/L、硫酸銨65~380g/L、氨水55~180ml/L和表面活性劑2?20g/L,余量為水。本發(fā)明專利技術具有以下優(yōu)點:1、電鍍?nèi)芤航M成成分選用無毒害化工材料,屬于無氰電鍍配方,為清潔生產(chǎn)電鍍工藝;2、解決純鐵和鋼鐵件無法直接電鍍銅的難題;3、溶液穩(wěn)定性高,耐用;4、溶液組成簡單,便于生產(chǎn)過程維護;5、成本低。

    【技術實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術涉及銅電鍍,特別是一種堿銅電鍍?nèi)芤杭爸苽浞椒?/a>。


    技術介紹

    1、電鍍銅工藝為廣泛使用的表面處理工藝之一,大多用于預鍍層或中間層,可以提高鍍層結合力、耐蝕性及鍍層外觀質量,是重要的防護裝飾性鍍層銅/鎳/鉻體系的組成部分。銅鍍層還用作防滲碳鍍層、印制電路板pcb的通孔鍍層、塑料電鍍的中間層等金屬化處理。另外,光亮銅鍍層經(jīng)化學處理后做其他精飾處理,可得到美麗的外觀,用于表面裝飾。目前,電鍍銅工藝在航空航天、電子、汽車、儀器儀表、醫(yī)療器械等行業(yè)具有十分廣泛的應用,而銅電鍍?nèi)芤菏请婂冦~工藝的關鍵,直接影響該工藝能否順利實施。現(xiàn)有銅電鍍?nèi)芤杭肮に囍饕ㄇ杌镫婂冦~工藝、酸銅電鍍工藝以及其它電鍍銅工藝,這些電鍍銅工藝存在如下不足:

    2、1、氰化物電鍍銅工藝使用高濃度氰化物:氰化亞銅cucn、氰化鈉nacn,毒性極高,不易管理,同時,生產(chǎn)過程中排放的廢水對環(huán)境污染極大。氰化物電鍍銅工藝屬于淘汰工藝;

    3、2、酸銅電鍍工藝,不適合于鋼鐵件、純鐵件直接電鍍銅,需要進行前處理——預鍍;

    4、3、其它電鍍銅工藝,例如有機膦酸類氨三甲叉膦酸(atmp)、羥基乙叉二膦酸(hedp)、乙二胺四甲叉膦酸(dmp)等電鍍銅工藝,存在溶液穩(wěn)定性差、配方復雜導致電鍍銅過程質量不穩(wěn)定等問題。


    技術實現(xiàn)思路

    1、本專利技術的目的在于,提供一種堿銅電鍍?nèi)芤杭爸苽浞椒āR院?cooh基團有機酸及其鹽類為絡合物,該溶液配方簡單、穩(wěn)定性高,可以用于在鋼鐵件表面直接電鍍金屬銅。

    2、本專利技術的技術方案:一種堿銅電鍍?nèi)芤海ㄒ韵陆M分,硫酸銅40~380g/l、含多-cooh基團有機酸及其鹽50~410g/l、硫酸銨65~380g/l、氨水55~180ml/l和表面活性劑2-20g/l,余量為水。

    3、包括以下組分,硫酸銅140~280g/l、含多-cooh基團有機酸及其鹽150~310g/l、硫酸銨160~300g/l、氨水85~150ml/l和表面活性劑5-17g/l,余量為水。

    4、包括以下組分,硫酸銅200~230g/l、含多-cooh基團有機酸及其鹽220~240g/l、硫酸銨225~255g/l、氨水130~140ml/l和表面活性劑10-12g/l,余量為水。

    5、表面活性劑為聚乙二醇或三乙醇胺。

    6、含多-cooh基團有機酸及其鹽為亞氨基二乙酸、氨三乙酸或檸檬酸及其鹽。

    7、含多-cooh基團有機酸及其鹽為亞氨基二乙酸。

    8、堿銅電鍍?nèi)芤褐苽浞椒ǎ唧w步驟如下,

    9、s1將鍍槽清洗干凈,加入1/3~1/2體積計量純凈水,然后加入計量的硫酸銅,攪拌使其完全溶解;

    10、s2另外取潔凈的桶,加入適量純凈水,再加入計量的含多-cooh基團有機酸及其鹽,攪拌使其完全溶解,將溶液倒入鍍槽中;

    11、s3將計量的硫酸銨按s2的操作方法進行,待硫酸銨完全溶解后,將溶液倒入鍍槽中;

    12、s4將計量的表面活性劑加入鍍槽溶液中,攪拌;

    13、s5將計量的氨水加入鍍槽溶液中,根據(jù)原料的計量將純凈水補足,攪拌均勻。

    14、s1中,通過加熱將硫酸銅溶解。

    15、本專利技術的有益效果:本專利技術中,電鍍銅溶液各組分的主要作用:硫酸銅:電鍍銅溶液主鹽,主要提供cu2+離子;亞氨基二乙酸:主絡合劑;氨水:輔助絡合劑;硫酸銨:導電鹽;聚乙二醇:潤濕劑。和現(xiàn)有技術相比,本專利技術具有以下優(yōu)點:

    16、1、新型堿銅電鍍?nèi)芤航M成成分選用無毒害化工材料,屬于無氰電鍍配方,為清潔生產(chǎn)電鍍工藝;

    17、2、解決純鐵和鋼鐵件無法直接電鍍銅的難題;

    18、3、溶液穩(wěn)定性高,耐用;

    19、4、溶液組成簡單,便于生產(chǎn)過程維護;

    20、5、成本低。

    本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術保護點】

    1.一種堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢喊ㄒ韵陆M分,硫酸銅40~380g/L、含多-COOH基團有機酸及其鹽50~410g/L、硫酸銨65~380g/L、氨水55~180ml/L和表面活性劑2-20g/L,余量為水。

    2.根據(jù)權利要求1所述的堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢喊ㄒ韵陆M分,硫酸銅140~280g/L、含多-COOH基團有機酸及其鹽150~310g/L、硫酸銨160~300g/L、氨水85~150ml/L和表面活性劑5-17g/L,余量為水。

    3.根據(jù)權利要求2所述的堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢喊ㄒ韵陆M分,硫酸銅200~230g/L、含多-COOH基團有機酸及其鹽220~240g/L、硫酸銨225~255g/L、氨水130~140ml/L和表面活性劑10-12g/L,余量為水。

    4.根據(jù)權利要求1-3任一項所述堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢罕砻婊钚詣榫垡叶蓟蛉掖及贰?/p>

    5.根據(jù)權利要求1-3任一項所述堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢汉?COOH基團有機酸及其鹽為亞氨基二乙酸、氨三乙酸或檸檬酸及其鹽。

    6.根據(jù)權利要求5所述堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢汉?COOH基團有機酸及其鹽為亞氨基二乙酸。

    7.根據(jù)權利要求1-6任一項所述的堿銅電鍍?nèi)芤褐苽浞椒ǎ涮卣髟谟冢壕唧w步驟如下,

    8.根據(jù)權利要求7所述的堿銅電鍍?nèi)芤褐苽浞椒ǎ涮卣髟谟冢篠1中,通過加熱將硫酸銅溶解。

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    【技術特征摘要】

    1.一種堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢喊ㄒ韵陆M分,硫酸銅40~380g/l、含多-cooh基團有機酸及其鹽50~410g/l、硫酸銨65~380g/l、氨水55~180ml/l和表面活性劑2-20g/l,余量為水。

    2.根據(jù)權利要求1所述的堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢喊ㄒ韵陆M分,硫酸銅140~280g/l、含多-cooh基團有機酸及其鹽150~310g/l、硫酸銨160~300g/l、氨水85~150ml/l和表面活性劑5-17g/l,余量為水。

    3.根據(jù)權利要求2所述的堿銅電鍍?nèi)芤海涮卣髟谟冢喊ㄒ韵陆M分,硫酸銅200~230g/l、含多-cooh基團有機酸及其鹽220~240g/l、硫酸銨225~...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:
    何家康候桂葉溫欣
    申請(專利權)人:中國振華電子集團宇光電工有限公司國營第七七一廠
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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