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    一種印染廢氣凈化系統技術方案

    技術編號:44492682 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-03-04 17:58
    本發明專利技術公開了一種印染廢氣凈化系統,涉及環保設備技術領域。包括具有凈化腔的殼體,凈化腔內設有多個對稱且間隔設置的凈化機構,相鄰兩個凈化機構之間形成氧化區,廢氣在氧化區內的停留時間不低于四秒,凈化機構包括光發生裝置以及光觸媒裝置,通過間隔設置的多個凈化機構能夠對廢氣進行多次光催化裂解,氧化區便于每次光催化后進行氧化反應,且通過觸媒板上開的氣孔,能夠減小廢氣的流通速度,提高廢氣的滯留時間,在有限的空間內大限度的提高紫外光與觸媒板的接觸面積和時間,增加了與廢氣的接觸機會和反應時間,提高了凈化效率和效果;蜂窩結構的觸媒板上噴涂多層催化劑層,提高了觸媒板上催化劑的含量以及比表面積,觸媒板的使用效果好。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及環保設備,具體地說,它涉及一種印染廢氣凈化系統。


    技術介紹

    1、工業生產中會產生大量的廢氣,直接排放廢氣會對環境和人體產生重大的傷害,不利于可持續性發展,基于此我國對廢氣排放做出了多種措施,主要是對工業生產中的產生的廢氣先凈化再排放,現有的廢氣凈化方式一般是利用吸附法、冷凝法、燃燒法、光催化以及生物法,吸附法、生物法作為近些年興起的處理方法,其處理方式更加環保,但是效率較低;冷凝法、燃燒法設備結構復雜,往往需要大型設備成本投入較高;光催化處理設備體積小,且光催化處理廢氣的效率較高,基于此光催化在市場上得到較多關注。

    2、印染行業中會產生較多的廢氣,如氨氣、甲苯、硫化氫、苯胺等廢氣,光催化處理廢氣的原理一般是,通過光照和催化劑將廢氣中的化學物質的化學鍵斷裂,使之形成游離態的原子或基團,同時通過氧化反應,是污染物最終被裂解、氧化成簡單的化合物;現有的光催化設備,未能將光催化的效率完全提升,其不足之處在于,現有設備往往是將廢氣通入設備后任其自然催化,導致效率較低,而且承載催化劑的載體結構設計不合理,導致催化劑含量少、催化劑比表面積小。


    技術實現思路

    1、針對現有技術存在的不足,本專利技術的目的在于提供一種印染廢氣凈化系統,通過在凈化腔內設置多個間隔設置的凈化機構,使廢氣在行進中實現催化分解,提高了凈化效率,蜂窩狀觸媒板噴涂多層催化劑層,提高了催化劑的比表面積,增加了凈化效果。

    2、本專利技術的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的:一種印染廢氣凈化系統,包括半封閉式的殼體,所述殼體內具有一凈化腔,所述凈化腔內設有多個對稱且間隔設置的凈化機構,相鄰兩個凈化機構之間的凈化腔形成氧化區,廢氣在氧化區內的停留時間不低于四秒,每一所述凈化機構包括光發生裝置以及光觸媒裝置,所述光發生裝置包括紫外燈管,所述紫外燈管產生的波長為154-184.9nm,光子能量對應為1200kj/mol-600kj/mol,紫外線劑量為45mw/c㎡。

    3、本專利技術進一步設置為:所述光發生裝置還包括第一承載板,所述紫外燈管可拆卸安裝在第一承載板上,所述紫外燈管至少設有一根,所述紫外燈管面向所述光觸媒裝置,所述光觸媒裝置包括第二承載板以及觸媒板,所述第二承載板面向紫外燈管的一面自下而上依次設有多個承載槽,所述觸媒板安置在所述承載槽內,所述承載槽與觸媒板一一對應。

    4、本專利技術進一步設置為:所述觸媒板由高分子聚合材料制成,所述觸媒板上均勻噴涂有催化劑層,所述催化劑層包括1-5層,相鄰兩個承載槽之間的第二承載板上開有多個氣孔,所述氣孔用于廢氣在凈化腔中流通。

    5、本專利技術進一步設置為:所述觸媒板呈蜂窩結構,所述觸媒板的板面上具有若干蜂窩孔,所述催化劑層至少一部分噴涂在蜂窩孔的內側面上,所述催化劑層為納米級二氧化鈦涂層,所述二氧化鈦涂層的納米粉細度為5-15nm。

    6、本專利技術進一步設置為:所述殼體相對的兩端分別設有進氣口和出氣口,所述進氣口和出氣口上均設有平口法蘭,所述殼體的外表面還固定有控制板,所述控制板與凈化機構電連接。

    7、本專利技術進一步設置為:所述殼體包括外殼和內殼,所述凈化腔設置于內殼中,所述外殼與內殼之間設有夾層空間,所述夾層空間環繞在所述內殼的外圍,該夾層空間形成控溫腔,所述控溫腔的一部分位于內殼頂部空間形成頂面腔體,所述控溫腔的另一部分設置在殼體長度方向的一側面形成側面腔體,頂面腔體和側面腔體相通,所述控溫腔內設有制冷組件。

    8、本專利技術進一步設置為:所述制冷組件安裝在側面腔體中,所述制冷組件包括支架和散熱風扇,所述散熱風扇通過支架安裝在外殼的內側壁上,所述制冷組件至少設有兩個,所述制冷組件用于為凈化腔降溫,所述凈化腔內設有溫度常感器,所述溫度傳感器與控制板電連接,所述制冷組件與控制板電連接,所述控制板設置在外殼上。

    9、本專利技術進一步設置為:所述外殼上還開有若干通氣口,所述通氣口用于控溫腔與外部的空氣交換,每一通氣口的上方均設有一弧狀遮雨板。

    10、本專利技術進一步設置為:所述殼體上設有多個門口,所述門口分別貫穿外殼、內殼后與凈化腔相通,所述門口設有一單開門,所述門口的內緣面上均焊接連接有密封板,所述單開門鉸接于所述密封板上,所述單開門與凈化機構一一對應。

    11、本專利技術進一步設置為:所述內殼采用氧化鋁板制成,所述外殼采用不銹鋼材料制成,所述內殼的厚度為3-8mm,所述殼體底部還設有多個支撐座,該支撐座的側面開有貫穿的螺孔。

    12、綜上所述,本專利技術具有以下有益效果:通過間隔設置的多個凈化機構能夠對廢氣進行多次光催化裂解,位于兩個凈化機構之間的氧化區便于每次光催化后進行氧化反應,且通過觸媒板上開的氣孔,能夠減小廢氣的流通速度,提高廢氣的滯留時間,在有限的空間內大限度的提高紫外光與觸媒板的接觸面積和時間,增加了與廢氣的接觸機會和反應時間,提高了凈化效率和效果;蜂窩結構的觸媒板上噴涂多層催化劑層,提高了觸媒板上催化劑的含量以及比表面積,觸媒板的使用效果好。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種印染廢氣凈化系統,包括半封閉式的殼體(1),所述殼體(1)內具有一凈化腔(5),其特征在于:所述凈化腔(5)內設有多個對稱且間隔設置的凈化機構(6),相鄰兩個凈化機構(6)之間的凈化腔(5)形成氧化區(51),廢氣在氧化區(51)內的停留時間不低于四秒,每一所述凈化機構(6)包括光發生裝置(61)以及光觸媒裝置(62),所述光發生裝置包括紫外燈管,所述紫外燈管產生的波長為154-184.9nm,光子能量對應為1200KJ/mol-600KJ/mol,紫外線劑量為45mw/c㎡。

    2.根據權利要求1所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述光發生裝置(61)還包括第一承載板(611),所述紫外燈管(612)可拆卸安裝在第一承載板(611)上,所述紫外燈管(612)至少設有一根,所述紫外燈管(612)面向所述光觸媒裝置(62),所述光觸媒裝置(62)包括第二承載板(621)以及觸媒板(622),所述第二承載板(621)面向紫外燈管(612)的一面自下而上依次設有多個承載槽(623),所述觸媒板(622)安置在所述承載槽(623)內,所述承載槽(623)與觸媒板(622)一一對應。

    3.根據權利要求2所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述觸媒板(622)由高分子聚合材料制成,所述觸媒板(622)上均勻噴涂有催化劑層,所述催化劑層包括1-5層,相鄰兩個承載槽(623)之間的第二承載板(621)上開有多個氣孔(624),所述氣孔(624)用于廢氣在凈化腔(5)中流通。

    4.根據權利要求3所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述觸媒板(622)呈蜂窩結構,所述觸媒板(622)的板面上具有若干蜂窩孔(6221),所述催化劑層至少一部分噴涂在蜂窩孔(6221)的內側面上,所述催化劑層為納米級二氧化鈦涂層,所述二氧化鈦涂層的納米粉細度為5-15nm。

    5.根據權利要求1所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述殼體(1)相對的兩端分別設有進氣口(3)和出氣口(4),所述進氣口(3)和出氣口(4)上均設有平口法蘭,所述殼體(1)的外表面還固定有控制板(2),所述控制板(2)與凈化機構(6)電連接。

    6.根據權利要求5所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述殼體(1)包括外殼(11)和內殼(12),所述凈化腔(5)設置于內殼(12)中,所述外殼(11)與內殼(12)之間設有夾層空間,所述夾層空間環繞在所述內殼(12)的外圍,該夾層空間形成控溫腔(7),所述控溫腔(7)的一部分位于內殼(12)頂部空間形成頂面腔體,所述控溫腔(7)的另一部分設置在殼體(1)長度方向的一側面形成側面腔體,頂面腔體和側面腔體相通,所述控溫腔(7)內設有制冷組件。

    7.根據權利要求6所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述制冷組件安裝在側面腔體中,所述制冷組件包括支架和散熱風扇,所述散熱風扇通過支架安裝在外殼(11)的內側壁上,所述制冷組件至少設有兩個,所述制冷組件用于為凈化腔(5)降溫,所述凈化腔(5)內設有溫度常感器,所述溫度傳感器與控制板(2)電連接,所述制冷組件與控制板(2)電連接,所述控制板(2)設置在外殼(11)上。

    8.根據權利要求7所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述外殼(11)上還開有若干通氣口(14),所述通氣口(14)用于控溫腔(7)與外部的空氣交換,每一通氣口(14)的上方均設有一弧狀遮雨板。

    9.根據權利要求1所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述殼體(1)上設有多個門口,所述門口分別貫穿外殼(11)、內殼(12)后與凈化腔(5)相通,所述門口設有一單開門(13),所述門口的內緣面上均焊接連接有密封板,所述單開門(13)鉸接于所述密封板上,所述單開門(13)與凈化機構(6)一一對應。

    10.根據權利要求9所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述內殼(12)采用氧化鋁板制成,所述外殼(11)采用不銹鋼材料制成,所述內殼(12)的厚度為3-8mm,所述殼體(1)底部還設有多個支撐座,該支撐座的側面開有貫穿的螺孔。

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    【技術特征摘要】

    1.一種印染廢氣凈化系統,包括半封閉式的殼體(1),所述殼體(1)內具有一凈化腔(5),其特征在于:所述凈化腔(5)內設有多個對稱且間隔設置的凈化機構(6),相鄰兩個凈化機構(6)之間的凈化腔(5)形成氧化區(51),廢氣在氧化區(51)內的停留時間不低于四秒,每一所述凈化機構(6)包括光發生裝置(61)以及光觸媒裝置(62),所述光發生裝置包括紫外燈管,所述紫外燈管產生的波長為154-184.9nm,光子能量對應為1200kj/mol-600kj/mol,紫外線劑量為45mw/c㎡。

    2.根據權利要求1所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述光發生裝置(61)還包括第一承載板(611),所述紫外燈管(612)可拆卸安裝在第一承載板(611)上,所述紫外燈管(612)至少設有一根,所述紫外燈管(612)面向所述光觸媒裝置(62),所述光觸媒裝置(62)包括第二承載板(621)以及觸媒板(622),所述第二承載板(621)面向紫外燈管(612)的一面自下而上依次設有多個承載槽(623),所述觸媒板(622)安置在所述承載槽(623)內,所述承載槽(623)與觸媒板(622)一一對應。

    3.根據權利要求2所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述觸媒板(622)由高分子聚合材料制成,所述觸媒板(622)上均勻噴涂有催化劑層,所述催化劑層包括1-5層,相鄰兩個承載槽(623)之間的第二承載板(621)上開有多個氣孔(624),所述氣孔(624)用于廢氣在凈化腔(5)中流通。

    4.根據權利要求3所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述觸媒板(622)呈蜂窩結構,所述觸媒板(622)的板面上具有若干蜂窩孔(6221),所述催化劑層至少一部分噴涂在蜂窩孔(6221)的內側面上,所述催化劑層為納米級二氧化鈦涂層,所述二氧化鈦涂層的納米粉細度為5-15nm。

    5.根據權利要求1所述的一種印染廢氣凈化系統,其特征在于:所述殼體(1)相對的兩端分別設有進氣口(3)和出氣口(4),所述進...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:張偉,鈕國強,
    申請(專利權)人:蘇州綠仕環保科技有限公司,
    類型:發明
    國別省市:

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