【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于基板清洗，更具體地說，是涉及一種基板清洗監測裝置及監測方法。
技術介紹
1、基板是制造pcb的基本材料，一般情況下，基板就是覆銅箔層壓板，單、雙面印制板在制造中是在基板材料-覆銅箔層壓板上，有選擇地進行孔加工、化學鍍銅、電鍍銅、蝕刻等加工，得到所需電路圖形。基板使用一段時間后表面會沉積金屬層及油污、雜質等，影響了后續的加工程序，使用性能降低，因此需要定期對基板進行清洗。
2、基板在清洗時，將基板固定在清洗臺上，輸送清洗液的清洗管位于基板的上方，通過清洗管擺動向基板上均勻噴灑清洗液，對基板表面進行清洗。若基板的固定時位置出現偏差，會導致清洗液無法完全覆蓋基板，影響基板清洗后的效果。另外，若基板表面存在破損或基板沒有被輸送至清洗臺，清洗管依然正常噴灑清洗液，不僅會造成清洗液的浪費，而且還會導致損壞的基板流向下一工序，或機械手無法將基板輸送至下一工序而出現作業故障。因此，在基板清洗過程中，對基板進行實時監測，確保清洗臺上的基板完整、位置精準是完成基本清洗的必要條件。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于提供一種基板清洗監測裝置及監測方法，旨在解決現有技術中基板清洗裝置無法對清洗臺上是否存在基板，以及基板是否完整、位置是否準確進行有效監測，從而造成基板清洗作業容易出現故障的問題。
2、為實現上述目的，本專利技術采用的技術方案是：
3、第一方面，提供一種基板清洗監測裝置，包括控制單元、監測單元和報警單元，所述監測單元和所述報警單元分別與所述
4、第一檢測器，包括第一圖像采集模塊和/或重量檢測模塊，用于對清洗臺的圖像信息和/或重量信息進行檢測；以及
5、位置檢測器，包括第二圖像采集模塊和/或距離檢測模塊，用于檢測基板在清洗臺上的位置信息。
6、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述基板清洗監測裝置還包括清洗單元，所述清洗單元包括：
7、支撐組件，包括驅動器和連接于所述驅動器的清洗臺，所述驅動器位于所述清洗臺的下方，并控制所述清洗臺繞自身軸線旋轉；以及
8、清洗組件，包括固定管和連接于所述固定管的清洗管，所述固定管繞上下方向轉動設于所述清洗臺的一側，并連接于儲液箱，所述清洗管位于所述清洗臺的上方，用于向基板噴灑清洗液，所述固定管和/或所述清洗管上設有開關閥；
9、所述驅動器和所述開關閥分別與所述控制單元通訊連接。
10、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述基板清洗監測裝置還包括圍設于所述清洗臺外周的導流單元，所述導流單元包括罩設于所述清洗臺外的導流罩和連通于所述導流罩的導流管，所述導流管將所述導流罩內的廢液排出。
11、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述導流罩包括沿上下方向依次分布的多個罩體，還包括與所述罩體一一對應連接的升降器，所述升降器控制所述罩體沿上下方向移動，以使相鄰的兩個所述罩體之間形成導流區，每個所述導流區均連接有對應的所述導流管。
12、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述導流單元還包括設于所述清洗臺下方的圍擋，所述圍擋圍設于所述驅動器外周，用于將廢液阻隔在所述驅動器外側。
13、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述基板清洗監測裝置還包括罩設于所述清洗單元和所述導流單元外的防護罩，以及連通于所述防護罩的氣壓調節單元，所述氣壓調節單元包括送風組件和排氣組件。
14、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述排氣組件包括：
15、排氣機構，具有多個相互獨立的排氣通道，所述排氣通道的進氣端連通于防護罩，出氣端連通于廢氣處理裝置；
16、動力器，連接于所述排氣機構，用于將所述防護罩內的氣體沿所述排氣通道輸送至相應的廢氣處理裝置；以及
17、開關機構，連接于所述排氣通道，用于控制所述排氣通道導通或封閉。
18、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述排氣機構包括主管和并聯于所述主管出氣端的多個支管，所述主管的進氣端連通于防護罩，每個所述支管的出氣端均連通于一個廢氣處理裝置，每個所述支管均與所述主管連通形成一個所述排氣通道。
19、結合第一方面，在一種可能的實現方式中，所述開關機構包括：
20、切換件，繞第一軸線轉動設于所述主管和多個所述支管的連接處，并將所述主管與多個所述支管隔斷，所述第一軸線平行于所述主管的軸線，所述切換件開設有導氣腔，還開設有連通于所述導氣腔的進氣孔和切換孔，所述進氣孔還連通于所述主管，用于將所述主管內的氣體引入所述導氣腔內，所述切換件繞所述第一軸線轉動使所述切換孔連通于其中一個所述支管；以及
21、驅動件，連接于所述切換件，用于控制所述切換件繞所述第一軸線轉動。
22、本專利技術提供的基板清洗監測裝置的有益效果在于：與現有技術相比，本專利技術基板清洗監測裝置通過第一檢測器對清洗臺上的圖像信息和/或重量信息進行檢測，判斷出清洗臺上是否存在基板。若清洗上臺沒有基板，控制單元控制報警單元發出基板缺失警報。若清洗臺上有基板，進一步檢測基板是否完整，基板有破損時，控制單元控制報警單元發出基板破損警報。清洗臺上放置有完整的基板時，位置檢測器檢測基板的位置信息，確定基板是否處于指定位置，若基板位置偏離指定位置，控制單元控制報警單元發出偏移警報；若基板位置處于指定位置，可以開始清洗作業。本專利技術可以在清洗作業開始前對清洗臺上的基板進行全面檢測，不僅可以避免無效清洗，而且避免破損的基板流入下工序，影響產品的合格率，同時降低了清洗作業故障的幾率。另外，確保基板位于清洗臺上的指定位置，可以保證對基板實施全面有效的清理，避免基板上存在清理死角，影響清理效果。
23、第二方面，本專利技術實施例另提供一種基板清洗監測方法，包括：
24、s100、檢測清洗臺上是否放置有基板，當清洗臺上沒有基板時，發出第一報警信號；
25、s200、當清洗臺上放置有基板上，檢測清洗臺上的基板是否完整，當檢測出基板有破損時，發出第二報警信號；
26、s300、當檢測出清洗臺上的基板完整時，對基板的位置進行檢測，判斷基板是否位于清洗臺的指定位置，當檢測出基板的位置偏離指定位置后，發出第三報警信號；
27、s400、當清洗臺上的基板位于指定位置時，開始清洗作業。
28、本專利技術提供的基板清洗監測方法的有益效果在于：與現有技術相比，本專利技術基板清洗監測方法可以在清洗作業開始前對清洗臺上的基板進行全面檢測，不僅可以避免無效清洗，而且避免破損的基板流入下工序，影響產品的合格率，同時降低了清洗作業故障的幾率。另外，確保基板位于清洗臺上的指定位置，可以保證對基板實施全面有效的清理，避免基板上存在清理死角，影響清理效果。
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1.基板清洗監測裝置，其特征在于，包括控制單元、監測單元和報警單元，所述監測單元和所述報警單元分別與所述控制單元通訊連接，所述監測單元包括：
2.如權利要求1所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述基板清洗監測裝置還包括清洗單元，所述清洗單元包括：
3.如權利要求2所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述基板清洗監測裝置還包括圍設于所述清洗臺外周的導流單元，所述導流單元包括罩設于所述清洗臺外的導流罩和連通于所述導流罩的導流管，所述導流管將所述導流罩內的廢液排出。
4.如權利要求3所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述導流罩包括沿上下方向依次分布的多個罩體，還包括與所述罩體一一對應連接的升降器，所述升降器控制所述罩體沿上下方向移動，以使相鄰的兩個所述罩體之間形成導流區，每個所述導流區均連接有對應的所述導流管。
5.如權利要求3所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述導流單元還包括設于所述清洗臺下方的圍擋，所述圍擋圍設于所述驅動器外周，用于將廢液阻隔在所述驅動器外側。
6.如權利要求3所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所
7.如權利要求6所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述排氣組件包括：
8.如權利要求7所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述排氣機構包括主管和并聯于所述主管出氣端的多個支管，所述主管的進氣端連通于防護罩，每個所述支管的出氣端均連通于一個廢氣處理裝置，每個所述支管均與所述主管連通形成一個所述排氣通道。
9.如權利要求8所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述開關機構包括：
10.基板清洗監測方法，其特征在于，包括：
...【技術特征摘要】
1.基板清洗監測裝置，其特征在于，包括控制單元、監測單元和報警單元，所述監測單元和所述報警單元分別與所述控制單元通訊連接，所述監測單元包括：
2.如權利要求1所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述基板清洗監測裝置還包括清洗單元，所述清洗單元包括：
3.如權利要求2所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述基板清洗監測裝置還包括圍設于所述清洗臺外周的導流單元，所述導流單元包括罩設于所述清洗臺外的導流罩和連通于所述導流罩的導流管，所述導流管將所述導流罩內的廢液排出。
4.如權利要求3所述的基板清洗監測裝置，其特征在于，所述導流罩包括沿上下方向依次分布的多個罩體，還包括與所述罩體一一對應連接的升降器，所述升降器控制所述罩體沿上下方向移動，以使相鄰的兩個所述罩體之間形成導流區，每個所述導流區均連接有對應的所述導流管。
5.如權利要求3所述的基板清洗監測裝...
【專利技術屬性】
技術研發人員：張博，張為強，尹影，李婷，
申請(專利權)人：北京晶亦精微科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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