【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本申請涉及半導(dǎo)體，特別涉及一種研磨液切換供給系統(tǒng)、切換供給方法及化學(xué)機械拋光系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
1、化學(xué)機械拋光(chemical?mechanical?polishing，cmp)工藝是制備半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)過程中的重要工序。尤其是對于金屬進行cmp處理時，基于不同金屬層的設(shè)計密度差異，若是以單一氧化劑濃度的研磨液來拋光所有金屬層，密度高的金屬層容易導(dǎo)致碟狀缺陷，而密度低的則可能有殘留風(fēng)險。現(xiàn)行做法之一是從工藝角度改進，即使用單一氧化劑濃度的研磨液，而通過拋光時間的調(diào)節(jié)來改善碟狀缺陷或是殘留風(fēng)險，但此法的局限性較大。
2、此外，通過研磨液供給系統(tǒng)改變使用的研磨液中的氧化劑濃度是一種有效方法。其中，現(xiàn)有的研磨液供給系統(tǒng)(slurry?dispense?system，sds)通常包括依次相連的研磨液原料桶、混合桶和供給桶，研磨液原料可被泵送到混合桶中并進行稀氧化劑的添加混合后輸送到供給罐中。為了改變研磨液的氧化劑濃度，需要先將sds中的原研磨液排空，再更換儲存氧化劑的定容器，進而在混合桶中重新調(diào)配出合適氧化劑濃度的研磨液送入供應(yīng)桶后進行使用。但在該方案中，需要停機進行更換，總體切換過程耗時長久，影響生產(chǎn)成本。
3、應(yīng)該注意，上面對技術(shù)背景的介紹只是為了方便對本申請的技術(shù)方案進行清楚、完整的說明，并方便本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解而闡述的。不能僅僅因為這些方案在本申請的
技術(shù)介紹
部分進行了闡述而認為上述技術(shù)方案為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的在于提供一種
2、為了解決上述問題，第一方面，以下提供一種研磨液切換供給系統(tǒng)，包括：原料儲存單元、混合單元、供給單元、輸送管道以及調(diào)配控制單元，所述原料儲存單元、所述混合單元和所述供給單元通過所述輸送管道依次連接；所述原料儲存單元包括研磨原液儲存罐和氧化劑儲存罐，所述研磨原液儲存罐通過第一輸送管道、所述氧化劑儲存罐通過第二輸送管道分別連接至所述混合單元；所述調(diào)配控制單元包括流速控制器，所述流速控制器設(shè)置在所述第一輸送管道和所述第二輸送管道上，用于控制輸入所述混合單元中的研磨原液和氧化劑的比例，調(diào)配出具有所需氧化劑濃度的目標研磨液。
3、本申請采用一套研磨液切換供給系統(tǒng)，通過對研磨原液和氧化劑的輸入流速進行控制，自動實現(xiàn)不同氧化劑濃度的研磨液的調(diào)配和供應(yīng)；不需要額外設(shè)置多套供應(yīng)系統(tǒng)，也不用停機進行設(shè)備更換，且該研磨液切換供給系統(tǒng)可以同生產(chǎn)系統(tǒng)聯(lián)合，自動化流水線式進行。
4、所述混合單元包括混合槽，所述供給單元包括供給槽；所述混合槽通過第三輸送管道連通至所述供給槽，所述供給槽連接有第四輸送管道，用于供應(yīng)所述目標研磨液。
5、所述混合槽的容量不超過2升，所述供給槽的容量不超過2升。采用小容量的儲存設(shè)備，可以實現(xiàn)快速切換，不影響線上生產(chǎn)。
6、所述調(diào)配控制單元包括流速控制器和控制系統(tǒng)；所述流速控制器設(shè)置于各個輸送管道處，用于控制所述輸送管道內(nèi)液體的流速；所述控制系統(tǒng)用于控制所述流速控制器。通過設(shè)置流速控制器和控制系統(tǒng)，能夠遠程控制各處的流速，既可以實現(xiàn)調(diào)配不同氧化劑濃度的研磨液，又可以此保證研磨液的持續(xù)供應(yīng)。
7、所述流速控制器為控制閥，所述控制系統(tǒng)包括控制器以及信號終端；所述控制閥有四個，分別設(shè)置于第一輸送管道、第二輸送管道、第三輸送管道和第四輸送管道的出液口；每個所述控制閥配備一個所述控制器，所述控制器可根據(jù)所述信號終端的控制來改變對應(yīng)的所述控制閥的開度，從而控制所述輸送管道內(nèi)液體的流速。閥門是實現(xiàn)流速控制的一種方便手段，通過閥門能夠遠程控制各處的流速，既可實現(xiàn)調(diào)配不同氧化劑濃度的研磨液，又可以此保證研磨液的持續(xù)供應(yīng)。
8、所述第一輸送管道、所述第三輸送管道和所述第四輸送管道內(nèi)液體的流速依次減小，且所述第一輸送管道內(nèi)液體的流速為所述第四輸送管道內(nèi)液體的流速的2-5倍。不同輸送管道的流速匹配可以保證研磨液的調(diào)配精準度以及研磨液的供應(yīng)穩(wěn)定性。
9、第二方面，本申請還提供一種化學(xué)機械拋光系統(tǒng)，包括化學(xué)機械拋光設(shè)備和第一方面所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)；所述研磨液切換供給系統(tǒng)用于向所述化學(xué)機械拋光設(shè)備供應(yīng)所述目標研磨液。
10、所述信號終端集成在所述化學(xué)機械拋光設(shè)備中，通過所述化學(xué)機械拋光設(shè)備控制所述目標研磨液的自動排空和所需的新目標研磨液的自動調(diào)配和供應(yīng)。
11、第三方面，本申請還提供一種研磨液的切換供給方法，用于如第一方面所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，包括如下步驟：排空所述混合單元以及所述供給單元中殘留的研磨液；基于待加工產(chǎn)品所需的氧化劑濃度，控制所述第一輸送管道和所述第二輸送管道內(nèi)液體的流速，在所述混合單元中調(diào)配出所需的新目標研磨液；通過所述研磨液切換供給系統(tǒng)供應(yīng)所述新目標研磨液。
12、第四方面，本申請還提供一種研磨液的切換供給方法，用于如第二方面所述的一種化學(xué)機械拋光系統(tǒng)，包括如下步驟：在所述化學(xué)機械拋光設(shè)備中創(chuàng)建待加工產(chǎn)品的工藝配方，所述工藝配方中包括調(diào)配出所需的新目標研磨液時第一輸送管道和第二輸送管道內(nèi)液體的流速；通過擋片在所述化學(xué)機械拋光設(shè)備中采用所述工藝配方執(zhí)行暖機程序，以將殘留的研磨液排空并完成所述新目標研磨液的自動調(diào)配；通過所述研磨液切換供給系統(tǒng)供應(yīng)所述新目標研磨液至所述化學(xué)機械拋光設(shè)備，進行待加工產(chǎn)品的加工。
13、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的有益效果主要包括如下：1)本申請僅采用一套研磨液供給系統(tǒng)，不需要新增一套研磨液供給系統(tǒng)，減少占地面積和成本；2)可以快速實現(xiàn)不同氧化劑濃度的研磨液的切換，不需要停機更換設(shè)備，對于線上生產(chǎn)影響小；3)該系統(tǒng)可以同生產(chǎn)系統(tǒng)聯(lián)合，在更換加工產(chǎn)品時，能夠自動實現(xiàn)研磨液的切換。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護點】
1.一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，包括：原料儲存單元、混合單元、供給單元、輸送管道以及調(diào)配控制單元，所述原料儲存單元、所述混合單元和所述供給單元通過所述輸送管道依次連接；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述混合單元包括混合槽，所述供給單元包括供給槽；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述混合槽的容量不超過2升，所述供給槽的容量不超過2升。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述調(diào)配控制單元包括流速控制器和控制系統(tǒng)；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述流速控制器為控制閥，所述控制系統(tǒng)包括控制器以及信號終端；
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述第一輸送管道、所述第三輸送管道和所述第四輸送管道內(nèi)液體的流速依次減小，且所述第一輸送管道內(nèi)液體的流速為所述第四輸送管道內(nèi)液體的流速的2-5倍。
7.一種化學(xué)機械拋光系統(tǒng)，其特征在于，包括化學(xué)機械拋光設(shè)備和根據(jù)權(quán)利要求1至6中任
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種化學(xué)機械拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述信號終端集成在所述化學(xué)機械拋光設(shè)備中，通過所述化學(xué)機械拋光設(shè)備控制所述目標研磨液的自動排空和所需的新目標研磨液的自動調(diào)配和供應(yīng)。
9.一種研磨液的切換供給方法，用于如權(quán)利要求1至6中任一項所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，包括如下步驟：
10.一種研磨液的切換供給方法，用于如權(quán)利要求8所述的一種化學(xué)機械拋光系統(tǒng)，其特征在于，包括如下步驟：
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，包括：原料儲存單元、混合單元、供給單元、輸送管道以及調(diào)配控制單元，所述原料儲存單元、所述混合單元和所述供給單元通過所述輸送管道依次連接；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述混合單元包括混合槽，所述供給單元包括供給槽；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述混合槽的容量不超過2升，所述供給槽的容量不超過2升。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述調(diào)配控制單元包括流速控制器和控制系統(tǒng)；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)，其特征在于，所述流速控制器為控制閥，所述控制系統(tǒng)包括控制器以及信號終端；
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種研磨液切換供給系統(tǒng)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉怡良，李昱廷，
申請(專利權(quán))人：重慶芯聯(lián)微電子有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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