【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及光學元件，具體為一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品。
技術介紹
1、玻璃基質具有優異的透明性、化學穩定性和機械強度，能夠為光功能材料提供良好的支撐和保護，玻璃基質可以實現多種功能的集成，提高器件性能和效率，有望用于透明光電器件，如照明顯示、觸摸屏、透明電路等；由于玻璃基質會出現不可避免的反射，影響其在光學器件中的使用，因此，在玻璃基質表面覆蓋有一層或多層具有優異防反射功能的涂層，形成防反射玻璃制品，這些涂層可以有效減少反射光的產生，提高光的透過率，使得光線能夠更好地穿透玻璃，實現防反射效果，用來保護電子產品內部的關鍵器件，包括移動設備，例如智能手機、播放機和平板電腦等光學器件，此外，防反射玻璃制品一旦出現明顯擦痕，使得防反射玻璃制品的光散射增強，導致顯示圖像的亮度、清晰度和對比度、顯示器的感官質量顯著降低，還需要一定程度的透明度、耐劃痕性、耐磨性。
2、以玻璃為基材，在玻璃表面涂敷防反射薄膜，能夠有效減少光的反射，增加光的透過率，但防反射薄膜與玻璃基質之間的附著力較差，導致防反射薄膜易脫落，且防反射薄膜硬度較低，容易受到劃傷和磨損，影響玻璃的防反射性能。
技術實現思路
1、本專利技術提供了一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，解決了防反射薄膜與玻璃基材之間附著力差、防反射薄膜硬度較低易受到劃傷和磨損的問題。
2、本專利技術的技術方案：
3、一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，由以下步驟制得：
4、s1.對玻璃基
5、s2.將改性玻璃基材浸漬到組合物中，取出，固化，得到防反射玻璃基材。
6、s3.將脫乙酰化納米纖維分散液噴涂到防反射玻璃基材表面，經加熱干燥，得到耐劃痕防反射玻璃制品。
7、所述組合物由納米氮化硅、四水合鉬酸銨和硫脲反應后，再與二氧化硅溶膠混合而得。
8、進一步地，步驟s1中，玻璃基材選自鈉鈣玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、硼硅酸玻璃、k9玻璃中的任意一種。
9、進一步地，步驟s2中，固化溫度為70-90℃，固化時間為2-5min。
10、進一步地，步驟s2中，浸漬時間為20-30min。
11、進一步地，步驟s3中，加熱干燥溫度為80-120℃，加熱干燥時間為2-5h。
12、進一步地，步驟s3中，噴涂選擇rh-cp0.3噴槍進行噴涂。
13、進一步地，步驟s1中，改性玻璃基材具體由以下步驟制得：
14、a1.將玻璃基材用去離子水洗滌、無水乙醇清洗后，置于硫酸和過氧化氫混合液中，在超聲功率為280-320w下，超聲處理13-17min，取出，洗滌，干燥，得到預處理玻璃基材；
15、a2.將硝酸鑭加入到去離子水中，攪拌，得到鑭源，將預處理玻璃基材浸漬到鑭源中，攪拌，置于95-105℃水浴鍋中，加入質量分數為25-28%的氨水調節ph為7.5-8.5，攪拌1-2h，取出，冷卻至室溫，經過濾、洗滌、干燥，得到改性玻璃基材。
16、進一步地，上述a1反應過程中，硫酸與過氧化氫清洗玻璃基材，可以去除玻璃基材表面的有機污染物，同時使玻璃基材表面富有羥基，能夠與鑭源中鑭離子相互作用，作為合成氫氧化鑭納米棒的位點。
17、進一步地，上述a2反應過程中，預處理玻璃基材表面含有大量的羥基結構，能夠與鑭源中的鑭離子結合，使得鑭離子沉積在預處理玻璃基材表面，在95-105℃下進行反應，氨水為沉淀劑，能夠與沉積在預處理玻璃基材表面的鑭離子結合，形成氫氧化鑭沉淀，隨著反應的進行，氫氧化鑭進行結晶生長、相互碰撞，形成納米棒狀的結構，實現在玻璃基材表面原位合成氫氧化鑭納米棒。
18、進一步地，步驟a1中，所述硫酸、過氧化氫用量比為(30-40)ml:(10-20)ml。
19、進一步地，步驟a2中，所述硝酸鑭、去離子水用量比為(0.3-0.7)g:(90-110)ml。
20、進一步地，步驟s2中，組合物具體由以下步驟制得：
21、b1.將納米氮化硅和十二烷基苯磺酸鈉加入到去離子水中，攪拌1-3h，加入硫脲和四水合鉬酸銨，繼續攪拌1-3h，得到混合物，將混合物轉移到反應釜中，在210-230℃條件下，攪拌反應6-8h后，冷卻至室溫，靜置，取出沉淀，沉淀洗滌、干燥，得到核殼材料；
22、b2.將核殼材料加入到乙醇中，攪拌均勻，加入二氧化硅溶膠，在280-320rpm下攪拌混合25-35min，得到組合物。
23、進一步地，上述b1反應過程中，納米氮化硅經十二烷基苯磺酸鈉表面處理后，使得表面攜帶磺酸根離子，在210-230℃下反應，使得四水合鉬酸銨分解釋放出鉬離子，能夠吸附到經十二烷基苯磺酸鈉的納米氮化硅表面，硫脲在高溫下分解釋放出硫元素與鉬離子發生硫化反應，形成二硫化鉬晶核，繼續反應，使得二硫化鉬晶核長大，實現在納米氮化硅表面形成二硫化鉬納米片，形成核殼材料。
24、進一步地，上述b2反應過程中，核殼材料表面二硫化鉬納米片含有大量的羥基結構，能夠與二氧化硅溶膠中含有的硅羥基通過化學鍵結合，使得核殼材料均勻分散在二氧化硅溶膠體系中，形成組合物。
25、進一步地，步驟b1中，所述納米氮化硅、十二烷基苯磺酸鈉、去離子水、硫脲、四水合鉬酸銨用量比為(0.1-0.2)g:(0.1-0.14)g:(45-55)ml:(0.8-1)g:(0.5-0.7)g。
26、進一步地，步驟b2中，所述核殼材料、乙醇、二氧化硅溶膠用量比為(2-3)g:(15-25)ml:(13-17)g。
27、進一步地，二氧化硅溶膠由正硅酸四乙酯、乙醇、去離子水、鹽酸按照(2-3)g:(40-50)ml:(5-7)ml:(0.4-0.5)g用量比混合反應而成。
28、進一步地，步驟s3中，脫乙酰化納米纖維分散液具體由以下步驟制得：
29、將甲殼素加入到質量分數為34-36%氫氧化鈉水溶液中，攪拌反應，冷卻至室溫，加入質量分數為35-37%的乙酸水溶液調節ph為3-4，在功率為550-600w下，進行超聲處理30-40min，得到脫乙酰化納米纖維分散液。
30、進一步地，上述反應過程中，甲殼素經氫氧化鈉處理，使得甲殼素納米纖維中酰胺鍵水解，進而脫離乙酰基，經超聲處理，超聲波產生的巨大能量可以破壞甲殼素納米纖維之間的氫鍵和范德華力，從而將甲殼素纖維束解離成甲殼素納米纖維，形成攜帶氨基的甲殼素納米纖維分散液。
31、進一步地，甲殼素、氫氧化鈉水溶液用量比(1-2)g:(25-35)ml
32、進一步地，脫乙酰化納米纖維直徑為10-30nm，長度為1-1.2μm。
33、本專利技術具有以下有益效果：
34、（1）本專利技術技術方案中，硫酸與過氧化氫清洗玻璃基材，可以去除玻璃基材表面的有機污染物，同時使玻璃基材表面富有羥基，本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，由以下步驟制得：
2.根據權利要求1所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，所述步驟S1中，改性玻璃基材具體由以下步驟制得：
3.根據權利要求2所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，步驟A1中，所述硫酸、過氧化氫用量比為(30-40)mL:(10-20)mL。
4.根據權利要求2所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，步驟A2中，所述硝酸鑭、去離子水用量比為(0.3-0.7)g:(90-110)mL。
5.根據權利要求1所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，所述步驟S2中，組合物具體由以下步驟制得：
6.根據權利要求5所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，步驟B1中，所述納米氮化硅、十二烷基苯磺酸鈉、去離子水、硫脲、四水合鉬酸銨用量比為(0.1-0.2)g:(0.1-0.14)g:(45-55)mL:(0.8-1)g:(0.5-0.7)g。
7.根據權利要求5
8.根據權利要求1所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，所述步驟S3中，脫乙酰化納米纖維分散液具體由以下步驟制得：
9.根據權利要求1所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，所述二氧化硅溶膠由正硅酸四乙酯、乙醇、去離子水、鹽酸按照(2-3)g:(40-50)mL:(5-7)mL:(0.4-0.5)g用量比混合反應而成。
10.根據權利要求1所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，所述玻璃基材選自鈉鈣玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、硼硅酸玻璃、K9玻璃中的任意一種；所述固化溫度為70-90℃，固化時間為2-5min；所述加熱干燥溫度為80-120℃，加熱干燥時間為2-5h。
...【技術特征摘要】
1.一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，由以下步驟制得：
2.根據權利要求1所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，所述步驟s1中，改性玻璃基材具體由以下步驟制得：
3.根據權利要求2所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，步驟a1中，所述硫酸、過氧化氫用量比為(30-40)ml:(10-20)ml。
4.根據權利要求2所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，步驟a2中，所述硝酸鑭、去離子水用量比為(0.3-0.7)g:(90-110)ml。
5.根據權利要求1所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，所述步驟s2中，組合物具體由以下步驟制得：
6.根據權利要求5所述的一種具有光學性質的耐劃痕防反射玻璃制品，其特征在于，步驟b1中，所述納米氮化硅、十二烷基苯磺酸鈉、去離子水、硫脲、四水合鉬酸銨用量比為(0.1-0.2)g:(0.1-0.14)g:(45...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉明星，劉明祥，陳再涵，羅毅，
申請(專利權)人：安徽清和光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。