【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體，具體涉及一種圖形修正模型的校準(zhǔn)方法、裝置、圖形修正方法以及電子設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(optical?proximity?correction,簡稱opc)能夠有效地抵消光刻系統(tǒng)成像時由于光的衍射現(xiàn)象導(dǎo)致的光刻膠圖像畸變。目前光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)是基于模型的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正，通過收集晶圓上實際的光刻膠輪廓數(shù)據(jù)，擬合近似光刻模型的參數(shù)，從而模擬實際光刻系統(tǒng)的成像規(guī)律。因此，實際光刻膠輪廓數(shù)據(jù)的信息量越多，所擬合出來的模型參數(shù)越準(zhǔn)確，模型精度就越高，opc的修正結(jié)果越準(zhǔn)確。
2、然而，現(xiàn)有的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正模型的數(shù)據(jù)為實際測量值的近似值，進(jìn)而導(dǎo)致后續(xù)在修正的過程中出現(xiàn)誤差，降低了光學(xué)鄰近修正的精度。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)解決的技術(shù)問題是提供一種圖形修正模型的校準(zhǔn)方法、裝置、圖形修正方法以及電子設(shè)備，以提升光學(xué)鄰近修正的精度。
2、為解決上述技術(shù)問題，本專利技術(shù)實施例提供一種圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，用于對初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)，包括：獲取圖形化的光刻膠，所述光刻膠具有實驗圖形；量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信號的波形；根據(jù)所述波形，定位量測點；根據(jù)所述量測點對應(yīng)的位置參數(shù)，計算得到模型校準(zhǔn)參數(shù)；基于所述模型校準(zhǔn)參數(shù)，對所述初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)，得到圖形修正模型。
3、可選的，根據(jù)所述波形，定位量測點的步驟包括：獲取所述波形的峰值對應(yīng)的位置參數(shù)或谷值對應(yīng)的位置參數(shù)；根據(jù)所述峰值
4、可選的，根據(jù)所述量測點對應(yīng)的位置參數(shù)，計算得到模型校準(zhǔn)參數(shù)的步驟，包括：獲取所述第一量測點的位置參數(shù)以及所述第二量測點的位置參數(shù)；根據(jù)所述位置參數(shù)，計算所述第一量測點以及所述第二量測點之間的線寬。
5、可選的，根據(jù)所述位置參數(shù)，計算所述第一量測點以及所述第二量測點之間的線寬的步驟，還包括：獲取光刻膠厚度；根據(jù)所述線寬和所述光刻膠厚度，得到光刻膠傾斜角。
6、可選的，根據(jù)所述線寬、所述光刻膠厚度，得到光刻膠傾斜度的步驟包括：基于三角函數(shù)，計算所述光刻膠傾斜角θ＝arctan(h/w)，θ表示光刻膠傾斜角，h表示光刻膠厚度，w表示線寬。
7、可選的，基于所述模型校準(zhǔn)參數(shù)，對所述初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)的步驟包括：基于所述光刻膠傾斜角、所述線寬、所述光刻膠厚度，對所述初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)。
8、可選的，所述圖形修正模型的校準(zhǔn)方法還包括：獲取實驗圖形的量測圖像。
9、可選的，獲取實驗圖形的量測圖像的步驟包括：量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信號的波形的同時，獲取實驗圖形的量測圖像。
10、可選的，量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信號的波形的步驟中，通過cd-sem量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信號的波形。
11、可選的，所述圖形修正模型的校準(zhǔn)方法還包括：獲取圖形化的光刻膠的步驟之前，提供光刻膠層；對所述光刻膠層進(jìn)行圖形化，形成圖形化光刻膠層。
12、相應(yīng)的，本專利技術(shù)還提供一種圖形修正方法，包括：獲得設(shè)計版圖；獲得圖形修正模型，所述圖形修正模型經(jīng)以上所述的校準(zhǔn)方法校準(zhǔn)；基于所述圖形修正模型，對所述設(shè)計版圖進(jìn)行修正。
13、相應(yīng)的，本專利技術(shù)還提供一種圖形修正模型的校準(zhǔn)裝置，包括：獲取單元，用于獲取圖形化的光刻膠，所述光刻膠具有實驗圖形；量測單元，用于量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信號的波形；定位單元，用于根據(jù)所述波形，定位量測點；計算單元，用于根據(jù)所述量測點對應(yīng)的位置參數(shù)，計算得到模型校準(zhǔn)參數(shù)；校準(zhǔn)單元，用于基于所述模型校準(zhǔn)參數(shù)，對初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)，得到圖形修正模型。
14、相應(yīng)的，本專利技術(shù)還提供一種電子設(shè)備，包括存儲器和處理器，所述存儲器上存儲有能夠在所述處理器上運行的計算機(jī)程序，所述處理器運行所述計算機(jī)程序時執(zhí)行以上所述方法的步驟。
15、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)實施例的技術(shù)方案具有以下有益效果：
16、本專利技術(shù)實施例根據(jù)所述實驗圖形的電信號的波形，定位量測點，并通過所述量測點的位置參數(shù)，計算所述得到模型校準(zhǔn)參數(shù)，相較于現(xiàn)有技術(shù)中的利用電信號波形的斜率近似得到模型校準(zhǔn)參數(shù)，本專利技術(shù)的模型校準(zhǔn)參數(shù)更加精確，進(jìn)而實現(xiàn)圖形修正模型的精準(zhǔn)度的提高，后續(xù)基于校正后的圖形修正模型對待修正圖形進(jìn)行修正，提高光學(xué)鄰近修正的精度。
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1.一種圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，用于對初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)，其特征在于，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述波形，定位量測點的步驟包括：
3.如權(quán)利要求2所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述量測點對應(yīng)的位置參數(shù)，計算得到模型校準(zhǔn)參數(shù)的步驟，包括：
4.如權(quán)利要求3所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述位置參數(shù)，計算所述第一量測點以及所述第二量測點之間的線寬的步驟，還包括：
5.如權(quán)利要求4所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述線寬、所述光刻膠厚度，得到光刻膠傾斜度的步驟包括：
6.如權(quán)利要求4所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，基于所述模型校準(zhǔn)參數(shù)，對所述初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)的步驟包括：
7.如權(quán)利要求1所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，還包括：獲取實驗圖形的量測圖像。
8.如權(quán)利要求7所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，獲取實驗圖形的量測圖像的步驟包括：量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信
9.如權(quán)利要求1、7或8所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信號的波形的步驟中，通過CD-SEM量測所述實驗圖形，獲取所述實驗圖形的電信號的波形。
10.如權(quán)利要求1所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，還包括：獲取圖形化的光刻膠的步驟之前，提供光刻膠層；對所述光刻膠層進(jìn)行圖形化，形成圖形化光刻膠層。
11.一種圖形修正方法，其特征在于，包括：
12.一種圖形修正模型的校準(zhǔn)裝置，其特征在于，包括：
13.一種電子設(shè)備，包括存儲器和處理器，所述存儲器上存儲有能夠在所述處理器上運行的計算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器運行所述計算機(jī)程序時執(zhí)行權(quán)利要求1至10任一項所述方法的步驟。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，用于對初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)，其特征在于，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述波形，定位量測點的步驟包括：
3.如權(quán)利要求2所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述量測點對應(yīng)的位置參數(shù)，計算得到模型校準(zhǔn)參數(shù)的步驟，包括：
4.如權(quán)利要求3所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述位置參數(shù)，計算所述第一量測點以及所述第二量測點之間的線寬的步驟，還包括：
5.如權(quán)利要求4所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，根據(jù)所述線寬、所述光刻膠厚度，得到光刻膠傾斜度的步驟包括：
6.如權(quán)利要求4所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，基于所述模型校準(zhǔn)參數(shù)，對所述初始圖形修正模型進(jìn)行校準(zhǔn)的步驟包括：
7.如權(quán)利要求1所述的圖形修正模型的校準(zhǔn)方法，其特征在于，還包括：獲取實驗圖形的量測圖像。
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：任堃，楊聆雪，
申請(專利權(quán))人：浙江創(chuàng)芯集成電路有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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