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    一種輔助支撐裝置制造方法及圖紙

    技術編號:44495206 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-03-04 18:01
    本發明專利技術涉及精密機械加工技術領域,具體提供一種輔助支撐裝置,包括:支撐盤、磁控臺、氣缸和導磁體,磁控臺上設有磁性可控的N極區和S極區,在每個磁極區上均設置有一個外導磁體,外導磁體之間互不接觸;所有外導磁體組成結構的內部設有氣缸,氣缸的上表面設有內導磁體,內導磁體與外導磁體一一接觸,內導磁體之間互不接觸;球面導磁體位于所有內導磁體組成結構的上表面,球面導磁體的上表面與支撐盤連接。本發明專利技術通過磁性原理實現工件位置的鎖緊與放松,可同時實現6個自由度的鎖緊與放松,具有結構簡單、支撐性能優異、穩定性高等特點,有效解決了傳統液壓浮動支撐的短板,為大型鋁合金結構部件的切削加工提供穩定安全的支撐。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術屬于精密機械加工,尤其涉及一種輔助支撐裝置


    技術介紹

    1、大型的輕量化鋁構件金具有低密度、高強度的特點,可以在保證結構強度的同時減輕結構的重量,因其優異的性能在航空航天、汽車制造、建筑以及其他多個領域都得到了廣泛的應用。隨著科技的不斷進步和工藝的不斷完善,輕量化鋁構件的應用范圍還將不斷擴大。

    2、大型鋁合金結構部件在切削加工過程中,由于材料去除量較大,容易產生內應力變形,進而影響工件精度、產品剛度和裝夾效率,在金屬切削領域中具有一定挑戰。因為需要考慮材料釋放的內部應力,大尺寸輕量化構件的生產效率往往難以提升,其中一個重要原因是,需要釋放在加工過程中產生的殘余應力。如果不斷重復釋放應力的過程,則需要花費大量時間進行調整、變更夾持位置或重新裝夾,影響加工效率。

    3、當前,大型的輕量化鋁購件的裝夾工具使用的為液壓浮動支撐,起到均勻承載、減少振動、自適應調整、提高加工精度的目的有助于減小加工誤差,提高產品的精度和一致性。但液壓浮動支撐存在以下缺點:

    4、第一,液壓浮動支撐裝置與工件為點接觸,接觸剛度低,且只能提供垂直于接觸面的支撐力,對其它方向沒有支撐作用。

    5、第二,液壓系統長時間使用后,密封件會出現磨損和硬化,失去密封效果。此外在安裝密封件時,如果沒有正確安裝或安裝過程中造成損傷,也會導致液壓泄漏,失去支撐作用。

    6、第三,液壓系統的組件和管路通常需要較大的安裝空間,對于空間有限的設備或場所,可能會帶來布局上的困難。在一些緊湊的機械結構中,很難為龐大的液壓系統找到合適的安裝位置。

    7、因此,亟需設計一種可實現多自由度約束、支撐穩定性良好的輔助支撐裝置。


    技術實現思路

    1、有鑒于此,本專利技術創造旨在提供一種輔助支撐裝置,通過磁性吸附原理和氣缸實現對工件的多自由度約束,解決了傳統液壓支撐裝置僅在垂直方向上具有支撐作用、支撐剛度差、結構復雜、安裝空間大以及容易漏液等弊端。

    2、為達到上述目的,本專利技術創造的技術方案是這樣實現的:

    3、本專利技術創造提供一種輔助支撐裝置,包括:支撐盤、磁控臺、氣缸,以及外導磁體、內導磁體和球面導磁體;

    4、其中,磁控臺上設有磁性可控的陣列,陣列內交替排布有互不接觸的n極區和s極區;

    5、在每個n極區和s極區上均設置有一個外導磁體,外導磁體之間互不接觸;所有外導磁體組成結構的內部形成一個垂直于磁控臺的腔體;氣缸位于腔體內,氣缸的上表面設有與外導磁體數量相等的內導磁體,內導磁體與外導磁體一一接觸,內導磁體之間互不接觸;

    6、球面導磁體位于所有內導磁體組成結構的上表面,所有內導磁體組成結構的上表面為凹球面,球面導磁體的下表面為與凹球面配做的凸球面,球面導磁體的上表面與支撐盤連接。

    7、優選的,磁控臺上設有2×2陣列,陣列中n極區和s極區的磁性大小和有無均可控。

    8、優選的,n極區和s極區的磁性通過電磁開關控制或通過永磁體控制。

    9、優選的,n極區和s極區在具有磁性狀態下,依次沿外導磁體、內導磁體、球面導磁體進行導磁,使相鄰外導磁體相互吸引,相鄰的內導磁體相互吸引,通過支撐盤實現對工件的定位縮進;

    10、n極區和s極區在無磁性狀態下,相鄰外導磁體之間無吸引力,相鄰的內導磁體之間無吸引力,工件通過推動外導磁體、內導磁體和球面導磁體進行位移,實現應力釋放。

    11、優選的,所有外導磁體組成結構和所有內導磁體組成結構均為圓柱狀。

    12、優選的,氣缸包括第一非磁性架和活塞,第一非磁性架包括:上底面開口、下底面密閉的空心柱體,并在柱體的側面均勻設有三個隔片和一個氣管,隔片和氣管均位于相鄰外導磁體之間,用于防止外導磁體相互接觸。

    13、優選的,活塞設置在第一非磁性架內,并通過密封環與第一非磁性架的內腔密封,通過氣管向第一非磁性架內進行充放氣,利用氣壓推動氣缸的上表面內導磁體進行上下運動。

    14、優選的,還包括、第二非磁性架,第二非磁性架為“十”字形,由兩個相互垂直的非導磁板構成,第二非磁性架位于內導磁體之間,用于防止內導磁體相互接觸。

    15、優選的,通過控制n極區和s極區的磁性大小,可調整外導磁體與第一非磁性架之間的靜摩擦力。

    16、與現有技術相比,本專利技術創造能夠取得如下有益效果:

    17、本專利技術通過磁性原理實現工件位置的鎖緊與放松,可同時實現6個自由度的鎖緊與放松,外導磁體與磁控臺之間構成平面運動副,可以保證兩個水平方向上的鎖緊與放松自由度;外導磁體與內導磁體之間構成柱面運動副,可以保證高度方向上的鎖緊與放松自由度;內導磁體和球面導磁體之間構成球面轉動運動副,可以保證三個轉動方向上的鎖緊與放松自由度。在工件加工過程中,通過控制磁性開關可以有效釋放工件加工產生的內部應力。并且,相比于傳統支撐裝置,本專利技術的輔助支撐裝置對工件的支撐剛度和位置保持能力更好,解決了傳統支撐裝置只能在垂直于接觸面的方向提供支撐力的問題。此外,可以通過控制磁性大小進而調節導磁體之間的靜摩擦力,在加工過程中當工件受到的力大于靜摩擦力時,輔助支撐裝置中的導磁體會出現保護性位移,對工件起到安全保護的作用,通過調節磁性可以使輔助支撐裝置適應不同工件的加工需求,避免加工過程中出現工件損傷等問題。

    18、本專利技術的輔助支撐裝置結構簡單,可靠性高,控制難度較低,相比于傳統液壓浮動支撐裝置,無需設計管路和液壓站,不會存在泄露等問題,并且安裝空間也更小。

    19、本專利技術通過氣缸不僅驅動內導磁體與外導磁體之間的相對運動,還可以在輔助支撐裝置安裝過程中,通過氣缸實現工件支撐力的預加載,平衡工件的重力,避免工件重力在應力釋放過程中的干擾,能夠實現更高精度的支撐,傳統液壓浮動支撐裝置則無法實現重力卸載。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種輔助支撐裝置,其特征在于,包括:支撐盤、磁控臺、氣缸,以及外導磁體、內導磁體和球面導磁體;

    2.根據權利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述磁控臺上設有2×2陣列,陣列中N極區和S極區的磁性大小和有無均可控。

    3.根據權利要求2所述的輔助支撐裝置,其特征在于,N極區和S極區的磁性通過電磁開關控制或通過永磁體控制。

    4.根據權利要求3所述的輔助支撐裝置,其特征在于,N極區和S極區在具有磁性狀態下,依次沿外導磁體、內導磁體、球面導磁體進行導磁,使相鄰外導磁體相互吸引,相鄰的內導磁體相互吸引,通過支撐盤實現對工件的定位縮進;

    5.根據權利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所有外導磁體組成結構和所有內導磁體組成結構均為圓柱狀。

    6.根據權利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述氣缸包括第一非磁性架和活塞,所述第一非磁性架包括:上底面開口、下底面密閉的空心柱體,并在柱體的側面均勻設有三個隔片和一個氣管,隔片和氣管均位于相鄰外導磁體之間,用于防止外導磁體相互接觸。

    7.根據權利要求6所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述活塞設置在所述第一非磁性架內,并通過密封環與所述第一非磁性架的內腔密封,通過所述氣管向所述第一非磁性架內進行充放氣,利用氣壓推動所述氣缸的上表面內導磁體進行上下運動。

    8.根據權利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,還包括、第二非磁性架,所述第二非磁性架為“十”字形,由兩個相互垂直的非導磁板構成,所述第二非磁性架位于內導磁體之間,用于防止內導磁體相互接觸。

    9.根據權利要求6所述的輔助支撐裝置,其特征在于,通過控制N極區和S極區的磁性大小,可調整外導磁體與第一非磁性架之間的靜摩擦力。

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    【技術特征摘要】

    1.一種輔助支撐裝置,其特征在于,包括:支撐盤、磁控臺、氣缸,以及外導磁體、內導磁體和球面導磁體;

    2.根據權利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述磁控臺上設有2×2陣列,陣列中n極區和s極區的磁性大小和有無均可控。

    3.根據權利要求2所述的輔助支撐裝置,其特征在于,n極區和s極區的磁性通過電磁開關控制或通過永磁體控制。

    4.根據權利要求3所述的輔助支撐裝置,其特征在于,n極區和s極區在具有磁性狀態下,依次沿外導磁體、內導磁體、球面導磁體進行導磁,使相鄰外導磁體相互吸引,相鄰的內導磁體相互吸引,通過支撐盤實現對工件的定位縮進;

    5.根據權利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所有外導磁體組成結構和所有內導磁體組成結構均為圓柱狀。

    6.根據權利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述氣缸...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:羅霄李英杰李龍響張學軍
    申請(專利權)人:中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
    類型:發明
    國別省市:

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