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    一種MoTiNi靶材及其制備方法與應(yīng)用技術(shù)

    技術(shù)編號:44496168 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-03-04 18:03
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種MoTiNi靶材及其制備方法與應(yīng)用,所述MoTiNi靶材的制備方法包括如下步驟:(1)將Mo粉、Ti粉以及Ni粉依次進行預(yù)混處理與混粉處理,所得MoTiNi合金粉進行冷等靜壓處理,得到MoTiNi合金坯;(2)將步驟(1)所得MoTiNi合金坯依次進行拼接、脫氣、第一熱等靜壓處理以及第二熱等靜壓處理,機加工后得到所述MoTiNi靶材。本發(fā)明專利技術(shù)采用冷等靜壓與分段式熱等靜壓處理相結(jié)合的方式,使得制備得到的MoTiNi靶材具有較高的致密度與純度,可大尺寸批量化生產(chǎn),能夠滿足作為平面顯示面板的高性能要求。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及靶材制備,具體涉及一種motini靶材及其制備方法與應(yīng)用。


    技術(shù)介紹

    1、當前,平面顯示面板尺寸及品質(zhì)的提升,對靶材的純度、致密度以及尺寸的提出了較高的要求。純mo靶材的性能良好,但是由于純mo靶材濺射出的薄膜耐腐蝕性和致密度還有待改善,現(xiàn)有技術(shù)中通常會在mo中加入ti、ni、nb、w、ta等金屬,從而改善靶材的耐蝕性、致密度等問題。然而平面顯示面板用靶材尺寸通常較大,采用傳統(tǒng)的壓延擴大靶材尺寸,成本較高,不適合大規(guī)模生產(chǎn)。因此制備一種大尺寸、純度與致密度高的motini靶材具有十分重要的意義。

    2、cn?104532201a公開了一種鉬鈦合金濺射靶材板的制備方法,將mo粉和ti粉混合均勻后進行冷等靜壓,將預(yù)成形坯抽真空后在氦氣氣氛下燒結(jié),得到燒結(jié)毛坯,最后經(jīng)過機加工至成品。該方法通過常規(guī)制得鉬鈦合金靶材,尺寸有限,難以滿足大尺寸mo合金靶材的生產(chǎn)。

    3、cn?115637412a公開了一種鉬合金靶材及其制作工藝,所述鉬合金靶材配方各成分的質(zhì)量百分數(shù)為:mo?55~65%,ni?15~25%,ti?15~25%,re?0.1~5%,w?0.1~2%,nb?0.1~2%,mn?0.1~0.2%,co?0.1~0.2%,采用冷等靜壓壓制成胚,然后使用熱等靜壓燒結(jié),然后機械加工、綁定。該專利技術(shù)提供的制作工藝可以使得鉬合金靶材的耐溫性能、耐氧化性能以及蝕刻性能得到改善,但對于靶材的純度、致密度等性能還有待提升。

    4、cn?103740979a公開了一種高密度、大尺寸、高均勻性鉬鈦合金靶材的制備方法,1)向mo粉與ti粉內(nèi)加溶劑和粘結(jié)劑磨制成漿料;2)用噴霧機對漿料噴霧造粒,進口溫度為250-300℃,噴頭轉(zhuǎn)速為8000-12000rpm,得到mo-ti復合粉,壓制成尺寸規(guī)整的坯料;3)將多個坯料裝入包套內(nèi),向相鄰坯料間內(nèi)填充入50-250μm的mo-ti復合粉形成均勻的復合粉層,復合粉層厚度為0.5-1mm,保證任意一側(cè)包套內(nèi)壁與相鄰坯料外壁間的間隙小于或等于0.5mm;4)將包套焊接、脫氣后熱等靜壓處理,處理條件為750-900℃、120-160mpa,保溫保壓時間為4-6h,去除包套即可。該方法僅通過加入金屬ti改善靶材性能,對于靶材的純度、致密度等性能提升效果具有一定局限性。

    5、因此,針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,需要提供一種大尺寸、高密度與高純度的motini靶材。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的目的在于提供一種motini靶材及其制備方法與應(yīng)用,采用所述制備方法制備得到的motini靶材密度與純度較高,可以大尺寸批量生產(chǎn),能夠滿足作為平面顯示面板的高性能要求。

    2、為達到此專利技術(shù)目的,本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案:

    3、第一方面,本專利技術(shù)提供了一種motini靶材的制備方法,所述制備方法包括如下步驟:

    4、(1)將mo粉、ti粉以及ni粉依次進行預(yù)混處理與混粉處理,所得motini合金粉進行冷等靜壓處理,得到motini合金坯;

    5、(2)將步驟(1)所得motini合金坯依次進行拼接、脫氣、第一熱等靜壓處理以及第二熱等靜壓處理,機加工后得到所述motini靶材。

    6、本專利技術(shù)提供的motini靶材的制備方法,首先對原料粉末進行預(yù)混處理,使得制得的motini合金粉分散均勻,有利于成品品質(zhì)的提升;采用冷等靜壓與分段式熱等靜壓處理相結(jié)合的方式,使得制備得到的motini靶材具有較高的致密度與純度,可大尺寸批量化生產(chǎn),能夠滿足作為平面顯示面板的高性能要求。

    7、優(yōu)選地,步驟(1)所述mo粉的平均粒徑為5-8μm,例如可以是5μm、5.5μm、6μm、7μm或8μm,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    8、優(yōu)選地,步驟(1)所述ti粉的平均粒徑為10-300μm,例如可以是10μm、50μm、100μm、200μm或300μm,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    9、優(yōu)選地,步驟(1)所述ni粉的平均粒徑為5-10μm,例如可以是5μm、6μm、8μm、9μm或10μm,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    10、優(yōu)選地,步驟(1)所述預(yù)混處理與混粉處理均在氬氣氣氛中進行。

    11、優(yōu)選地,步驟(1)所述預(yù)混處理與混粉處理均在三維混粉機中進行。

    12、優(yōu)選地,步驟(1)所述預(yù)混處理的時間為3-6h,例如可以是3h、3.5h、4h、5h或6h,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    13、優(yōu)選地,步驟(1)所述混粉處理的時間為24-48h,例如可以是24h、30h、36h、42h或48h,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    14、優(yōu)選地,步驟(1)所述冷等靜壓處理的壓力為200-300mpa,例如可以是200mpa、220mpa、250mpa、280mpa或300mpa,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    15、優(yōu)選地,步驟(1)所述冷等靜壓處理的時間為10-20min,例如可以是10min、12min、15min、18min或20min,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    16、優(yōu)選地,步驟(2)所述拼接后的長度≥2m,例如可以是2m、3m、4m、5m或6m,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    17、優(yōu)選地,步驟(2)所述拼接之后、脫氣之前還包括將所述motini合金坯放入不銹鋼包套的步驟。

    18、優(yōu)選地,步驟(2)所述脫氣的溫度為500-600℃,例如可以是500℃、520℃、550℃、580℃或600℃,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    19、優(yōu)選地,步驟(2)所述脫氣的時間為24-36h,例如可以是24h、28h、32h或36h,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    20、優(yōu)選地,步驟(2)所述脫氣中使不銹鋼包套的真空度為1×10-3pa至1×10-2pa,例如可以是1×10-3pa、2×10-3pa、5×10-3pa、8×10-3pa或1×10-2pa,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    21、優(yōu)選地,步驟(2)所述第一熱等靜壓處理的溫度為850-1000℃,例如可以是850℃、900℃、950℃、980℃或1000℃,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    22、優(yōu)選地,步驟(2)所述第一熱等靜壓處理的壓力為120-180mpa,例如可以是120mpa、130mpa、150mpa、160mpa或180mpa,但不限于所列舉的數(shù)值,數(shù)值范圍內(nèi)其它未列舉的數(shù)值同樣適用。

    23、優(yōu)選地,步驟(2)所述第一熱等靜壓處理的時間為1-3h,例如可以是1h本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.一種MoTiNi靶材的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述Mo粉的平均粒徑為5-8μm;

    3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述預(yù)混處理與混粉處理均在氬氣氣氛中進行;

    4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述冷等靜壓處理的壓力為200-300MPa;

    5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)所述拼接后的長度≥2m;

    6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)所述第一熱等靜壓處理的溫度為850-1000℃;

    7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)所述第二熱等靜壓處理的溫度為900-1050℃;

    8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項所述的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:

    9.一種MoTiNi靶材,其特征在于,所述MoTiNi靶材通過權(quán)利要求1-8任一項所述MoTiNi靶材的制備方法制備得到;

    10.一種如權(quán)利要求9所述MoTiNi靶材的應(yīng)用,其特征在于,所述MoTiNi靶材用于平面顯示面板領(lǐng)域。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種motini靶材的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述mo粉的平均粒徑為5-8μm;

    3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述預(yù)混處理與混粉處理均在氬氣氣氛中進行;

    4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述冷等靜壓處理的壓力為200-300mpa;

    5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)所述拼接后的長度≥2m;

    6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:姚力軍黃潔文周友平吳東青
    申請(專利權(quán))人:寧波江豐電子材料股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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