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    一種低粘低污染保護膜及其制備方法和應用技術

    技術編號:44496517 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-03-04 18:03
    本發(fā)明專利技術提供一種低粘低污染保護膜及其制備方法和應用,所述低粘低污染保護膜包括依次層疊設置的基材層、聚氨酯膠黏劑層、丙烯酸酯膠黏劑層、離型材層;所述丙烯酸酯膠黏劑層的制備原料包括聚丙烯酸酯和聚酯樹脂。本發(fā)明專利技術提供的保護膜包括按照特定順序設置的聚氨酯膠黏劑層、丙烯酸酯膠黏劑層,同時在丙烯酸酯膠黏劑層中引入了聚酯樹脂,使得該保護膜同時具有低粘性低污染性,而且其粘力不爬升。

    【技術實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術屬于保護膜,涉及一種低粘低污染保護膜及其制備方法和應用


    技術介紹

    1、在pet、pi等需要高潔凈度生產(chǎn)環(huán)境的場景下,保護膜用于隔離、保護作用,因此在生產(chǎn)進程中保護膜需要對被貼面具有良好的吸附性能,生產(chǎn)后段保護膜需要易剝離且對被貼物污染性小,現(xiàn)有的保護膜均為單層結構。一些保護膜雖然可以保持較低的粘性,但是有小分子析出,后期污染性高,而其他一些保護膜雖然對被貼物污染性小、吸附性好,但剝離力易爬升,后期不易剝離生產(chǎn)。即,傳統(tǒng)的保護膜一般是將膠黏劑直接涂布在基材表面,通過異氰酸酯類和環(huán)氧類固化劑固化,無法滿足低粘、低污染不爬升的生產(chǎn)工藝要求。

    2、因此,在本領域中,期望開發(fā)一種保護膜,其同時具有低粘性和低污染性。


    技術實現(xiàn)思路

    1、針對現(xiàn)有技術的不足,本專利技術的目的在于提供一種低粘低污染保護膜及其制備方法和應用。本專利技術提供了一種具有低粘性、良好的吸附性、對被貼物具有低污染性、同時粘力不爬升的多用途保護膜,可以滿足現(xiàn)階段pet、pi等基材產(chǎn)品在生產(chǎn)制程中安全穩(wěn)定、防污染的要求,同時該保護膜不影響被貼物性能,后段保護膜易移除。

    2、為達到此專利技術目的,本專利技術采用以下技術方案:

    3、第一方面,本專利技術提供一種低粘低污染保護膜,所述低粘低污染保護膜包括依次層疊設置的基材層、聚氨酯膠黏劑層、丙烯酸酯膠黏劑層、離型材層;

    4、所述丙烯酸酯膠黏劑層的制備原料包括聚丙烯酸酯和聚酯樹脂。

    5、本專利技術提供的保護膜包括按照特定順序設置的聚氨酯膠黏劑層、丙烯酸酯膠黏劑層,同時在丙烯酸酯膠黏劑層中引入了聚酯樹脂,使得該保護膜同時具有低粘性低污染性,而且其粘力不爬升。

    6、本專利技術在基材上先涂一層聚氨酯膠黏劑層,再將丙烯酸酯膠黏劑層轉涂至聚氨酯膠黏劑層,聚氨酯型膠黏劑層具有優(yōu)異的柔韌性、卓越的耐磨性和柔韌性、良好的彈性,均能保證和表面丙烯酸酯膠黏劑優(yōu)異的粘結性能,可以將表層膠黏劑粘結緊密,同時表層膠黏劑添加聚酯樹脂進一步降低表面粘性穩(wěn)定,整體結構可以達到不爬升,易貼服,低污染的效果。

    7、在本專利技術中,所述低粘低污染保護膜中的“低粘”指的是保護膜與貼合面的剝離力小于10.0gf/inch,“低污染”指的是與未貼保護膜直接測試tesa?7475膠帶與貼合面的剝離力相比,將保護膜貼至貼合面7天之后再將保護膜去除,測試tesa?7475膠帶與貼合面的剝離力,二者剝離力的變化百分比不高于10%,將保護膜貼至貼合面30天之后再將保護膜去除,測試tesa?7475膠帶與貼合面的剝離力,二者剝離力的變化百分比不高于15%。

    8、優(yōu)選地,所述丙烯酸酯膠黏劑層的制備原料還包括抗靜電劑、增粘樹脂、固化劑中的任意一種或至少兩種的組合。

    9、優(yōu)選地,所述丙烯酸酯膠黏劑層的制備原料按照重量份數(shù)計,包括如下組分:聚丙烯酸酯100份、抗靜電劑0.5~2份(例如0.5份、0.8份、1份、1.3份、1.5份、1.8份、2份等)、聚酯樹脂1~4份(例如1份、1.5份、2份、2.5份、3份、3.5份、4份等)、增粘樹脂15~45份(例如15份、20份、25份、30份、35份、40份、45份等)、固化劑0.1~3份(例如0.1份、0.3份、0.5份、0.8份、1份、1.3份、1.5份、1.8份、2份、2.3份、2.5份、2.8份、3份等)、溶劑20~80份(例如20份、30份、40份、50份、60份、70份、80份等)。

    10、優(yōu)選地,所述聚氨酯膠黏劑層的制備原料按照重量份數(shù)計,包括如下組分:聚氨酯樹脂100份、增粘樹脂15~45份(例如15份、20份、25份、30份、35份、40份、45份等)、固化劑0.1~3份(例如0.1份、0.3份、0.5份、0.8份、1份、1.3份、1.5份、1.8份、2份、2.3份、2.5份、2.8份、3份等)、催化劑0.1~1份(例如0.1份、0.3份、0.5份、0.8份、1份等)、溶劑20~80份(例如20份、30份、40份、50份、60份、70份、80份等)。

    11、優(yōu)選地,所述聚丙烯酸酯由丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異辛酯或丙烯酸正丁酯中的任意一種聚合或至少兩種共聚得到。

    12、優(yōu)選地,所述抗靜電劑包括三丁基甲基銨三氟甲烷磺酰亞胺鹽、雙(三氟甲磺酰)亞胺鋰鹽、碳酸二甲酯中的任意一種或至少兩種的組合。

    13、優(yōu)選地,所述聚酯樹脂為通過二元醇和交替二元醇交替共聚而成的共聚聚酯類高分子化合物。

    14、優(yōu)選地,所述聚氨酯樹脂由多異氰酸酯與聚醚多元醇或聚酯多元醇聚合得到。

    15、優(yōu)選地,所述催化劑包括二月桂酸二丁基錫、油酸亞錫、三乙胺、三乙醇胺、n-甲基嗎啉中的任意一種或至少兩種的組合。

    16、優(yōu)選地,所述丙烯酸酯膠黏劑層和所述聚氨酯膠黏劑層的制備原料中的增粘樹脂各自獨立地包括液態(tài)c5石油樹脂wingtack?10、液態(tài)聚萜烯樹脂dercolyte?ltg、氫化松香酸甲酯、雙環(huán)戊二烯樹脂、2,2’-硫代二乙基雙[3-(3,5-二叔丁基-4-羥苯基)丙酸酯、醋酸乙酯中的任意一種或者至少兩種混合。

    17、優(yōu)選地,所述丙烯酸酯膠黏劑層和所述聚氨酯膠黏劑層的制備原料中的固化劑各自獨立地包括六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯或二環(huán)己基甲烷二異氰酸酯中的任意一種或至少兩種的組合。

    18、優(yōu)選地,所述丙烯酸酯膠黏劑層和所述聚氨酯膠黏劑層的制備原料中的溶劑各自獨立地包括乙酸乙酯、甲苯、乙醇、甲基乙基酮、丙酮、二氯甲烷中的任意一種或至少兩種的組合。

    19、優(yōu)選地,所述基材層的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)。根據(jù)某些應用場景需要,所述基材層在遠離所述聚氨酯膠黏劑層的一側可以涂有抗靜電劑。

    20、本專利技術對基材層的拉伸強度、斷裂伸長率、表面阻抗不作具體限定,其可以根據(jù)實際應用需求進行選擇。

    21、優(yōu)選地,所述離型材層的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯。

    22、優(yōu)選地,所述基材層的厚度為30~90μm,例如30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm等。

    23、優(yōu)選地,所述聚氨酯膠黏劑層的厚度為5~10μm,例如5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm等。

    24、優(yōu)選地,所述丙烯酸酯膠黏劑層的厚度為5~10μm,例如5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm等。

    25、優(yōu)選地,所述離型材層的厚度為20~40μm,例如20μm、25μm、30μm、35μm、40μm等。

    26、優(yōu)選地,所述低粘低污染保護膜的總厚度為60~150μm,例如60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm等。

    27、第二方面,本專利技術提供一種如第一方面所述的低粘低污染保護膜的制備方法,所述制備方法包括以下步驟:...

    【技術保護點】

    1.一種低粘低污染保護膜,其特征在于,所述低粘低污染保護膜包括依次層疊設置的基材層、聚氨酯膠黏劑層、丙烯酸酯膠黏劑層、離型材層;

    2.根據(jù)權利要求1所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述丙烯酸酯膠黏劑層的制備原料還包括抗靜電劑、增粘樹脂、固化劑中的任意一種或至少兩種的組合;

    3.根據(jù)權利要求1或2所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述聚丙烯酸酯由丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異辛酯或丙烯酸正丁酯中的任意一種聚合或至少兩種共聚得到;

    4.根據(jù)權利要求1-3中任一項所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述聚酯樹脂為通過二元醇和交替二元醇交替共聚而成的共聚聚酯類高分子化合物;

    5.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述丙烯酸酯膠黏劑層和所述聚氨酯膠黏劑層的制備原料中的增粘樹脂各自獨立地包括液態(tài)C5石油樹脂、液態(tài)聚萜烯樹脂、氫化松香酸甲酯、雙環(huán)戊二烯樹脂、2,2’-硫代二乙基雙[3-(3,5-二叔丁基-4-羥苯基)丙酸酯、醋酸乙酯中的任意一種或者至少兩種混合;

    6.根據(jù)權利要求1-5中任一項所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述基材層的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯;

    7.根據(jù)權利要求1-6中任一項所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述基材層的厚度為30~90μm;

    8.一種如權利要求1-7中任一項所述的低粘低污染保護膜的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括以下步驟:

    9.根據(jù)權利要求8所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述固化的溫度為110~130℃,固化的時間為5~15min;

    10.一種如權利要求1-7中任一項所述的低粘低污染保護膜在顯示屏制備工藝中的應用。

    ...

    【技術特征摘要】

    1.一種低粘低污染保護膜,其特征在于,所述低粘低污染保護膜包括依次層疊設置的基材層、聚氨酯膠黏劑層、丙烯酸酯膠黏劑層、離型材層;

    2.根據(jù)權利要求1所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述丙烯酸酯膠黏劑層的制備原料還包括抗靜電劑、增粘樹脂、固化劑中的任意一種或至少兩種的組合;

    3.根據(jù)權利要求1或2所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述聚丙烯酸酯由丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異辛酯或丙烯酸正丁酯中的任意一種聚合或至少兩種共聚得到;

    4.根據(jù)權利要求1-3中任一項所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述聚酯樹脂為通過二元醇和交替二元醇交替共聚而成的共聚聚酯類高分子化合物;

    5.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的低粘低污染保護膜,其特征在于,所述丙烯酸酯膠黏劑層和所述聚氨酯膠黏劑層的制備原料中...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:李杰呂建國張紅鳳宋風鵬陳余謙楊慧達
    申請(專利權)人:蘇州德佑新材料科技股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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