【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及堆疊母排，尤其涉及一種母排繪制方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)。
技術(shù)介紹
1、隨著高低壓設(shè)施基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展，開關(guān)柜的額定電流不同，需要使用不同堆疊數(shù)量的母排滿足不同的額定電流。
2、目前，可以通過手動繪制或軟件繪制的方式，在繪制好的母排的內(nèi)側(cè)或外側(cè)實(shí)現(xiàn)堆疊母排的繪制。
3、然而，通過手動繪制或軟件繪制的方式的繪制工序繁瑣，導(dǎo)致繪制效率較低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)提供了一種母排繪制方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)，本專利技術(shù)實(shí)施例可以提高堆疊母排的繪制效率。
2、第一方面，本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種母排繪制方法，該方法包括：
3、獲取同一類型的多個(gè)堆疊母排以及堆疊間距；
4、在各堆疊母排中，選擇基準(zhǔn)母排；
5、獲取基準(zhǔn)母排對應(yīng)的相鄰母排，基準(zhǔn)母排與對應(yīng)的相鄰母排設(shè)置于元件的樁頭兩側(cè)；
6、根據(jù)樁頭的厚度和堆疊間距，確定基準(zhǔn)母排對應(yīng)的相鄰母排的彎折信息；
7、將基準(zhǔn)母排繪制于元件的樁頭的第一側(cè)；
8、根據(jù)彎折信息將相鄰母排繪制于元件的樁頭的第二側(cè)；
9、按照堆疊間距繪制各堆疊母排中剩余母排，以使各剩余母排與基準(zhǔn)母排方向?qū)R。
10、第二方面，本專利技術(shù)實(shí)施例還提供了一種母排繪制裝置，該裝置包括：
11、堆疊母排信息獲取模塊，用于獲取同一類型的多個(gè)堆疊母排以及堆疊間距；
12、基準(zhǔn)母排選擇模塊，用于在各堆疊母排中，選擇基準(zhǔn)母排；<...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種母排繪制方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取同一類型的多個(gè)堆疊母排以及堆疊間距，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述，將所述基準(zhǔn)母排繪制于所述元件的樁頭的第一側(cè)，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述樁頭的厚度和所述堆疊間距，確定所述基準(zhǔn)母排對應(yīng)的相鄰母排的彎折信息，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述按照所述堆疊間距繪制各所述堆疊母排中剩余母排之后，還包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，還包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求2或6所述的方法，其特征在于，還包括：
8.一種母排繪制裝置，其特征在于，包括：
9.一種母排繪制設(shè)備，其特征在于，所述母排繪制設(shè)備包括：
10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)存儲有計(jì)算機(jī)指令，所述計(jì)算機(jī)指令用于使處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的母排繪制方法。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種母排繪制方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取同一類型的多個(gè)堆疊母排以及堆疊間距，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述，將所述基準(zhǔn)母排繪制于所述元件的樁頭的第一側(cè)，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述樁頭的厚度和所述堆疊間距，確定所述基準(zhǔn)母排對應(yīng)的相鄰母排的彎折信息，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述按照所述堆...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：顓孫國棟，潘志平，滕宇洋，
申請(專利權(quán))人：利馳數(shù)字科技蘇州有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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