【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及euv掩模缺陷檢測，具體為一種euv掩模缺陷檢測裝置。
技術介紹
1、uv光刻技術的量產，是光刻技術邁向7nm、5nm等更小工藝節點的重要一步。euv掩模缺陷檢測是光刻工藝中提高芯片生產良率、降低生產成本的關鍵步驟。euv掩模主要由mo/si多層膜反射層和吸收層組成，因此euv掩模缺陷的類型主要包括多層膜表面的吸收缺陷和埋藏在多層膜內部的相位缺陷。由于非光化(duv、sem)掩模檢測對euv多層膜的穿透深度有限，埋藏在多層膜內部的相位缺陷難以檢測到，容易導致遺漏缺陷。此外，掩模顆粒或污染物對不同波長的吸收系數也不同，使用非光化容易造成偽缺陷。因此，使用euv光是了解缺陷、修復以及圖案偏差和光學鄰近校正的物理響應的唯一可靠方法。但是euv幾乎對所有的物質都具有高吸收系數的性質，因此使用euv光對掩模檢測必須為成像系統提供真空工作環境。這為工程設計中的腔體以及運動調節機構等提出了較高的要求。此外，對于高倍率、納米級成像，在秒量級曝光時間的機械穩定性是euv掩模顯微成像成功實施的最重要因素。具體而言，euv掩模缺陷成像系統要求在曝光期間掩模和成像物鏡的相對運動保持在納米量級。因此，在復雜環境中實現穩定的euv掩模缺陷檢測工作，整體機械設計應側重于掩模和成像物鏡的真空振動隔離。
2、目前，雖然有aims、sharp以及lasertec等多個euv掩模缺陷檢測裝置已經商業化。他們的工程設計不但可以滿足必要的調制需求，而且在環境復雜多樣的工廠中依然可以使用。由于不同的檢測裝置對應的光學方案各有差異，因此不同的光學設
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于提供一種euv掩模缺陷檢測裝置，以解決上述
技術介紹
中提出的問題。
2、為實現上述目的，本專利技術提供如下技術方案：一種euv掩模缺陷檢測裝置，包括底板、第一基座、安裝支架和主真空組件，所述第一基座固定于底板上，所述安裝支架固定于第一基座頂部，所述主真空組件固定于安裝支架頂部；
3、還包括第二基座、三角支架和掃描真空組件，所述第二基座固定于底板上，所述三角支架固定于第二基座頂部，所述掃描真空組件固定于三角支架上，且掃描真空組件通過波紋管與主真空組件連接。
4、優選的，所述主真空組件包括支撐板、主真空腔體、位移組件、第一運動調節機構、第二運動調節機構、第三運動調節機構、光學元件、基板、支撐架和光瞳監測器，所述支撐板固定于安裝支架上方，所述主真空腔體固定于支撐板上，所述支撐板底部通過安裝支架與第一基座連接，所述基板位于主真空腔體的內部，且其底部通過位移組件固定于第一基座上，所述光瞳監測器固定于支撐架上，所述基板的中部設有通孔，所述通孔用于光瞳監測器對光束線進行有效的監視，所述第一運動調節機構、第二運動調節機構、第三運動調節機構以及光學元件均固定于基板上。
5、優選的，所述位移組件包括第三基座、z向位移臺和固定支柱，所述第三基座的底部通過z向位移臺與第一基座連接，所述固定支柱的底部固定于第三基座上，所述固定支柱的頂部貫穿支撐板、主真空腔體與基板連接，所述固定支柱與主真空腔體的連接處通過波紋管密封。
6、優選的，所述固定支柱設有三個，且三個固定支柱呈“三角形”分布在第三基座和支撐板之間。
7、優選的，所述掃描真空組件包括：掃描真空腔體，所述掃描真空腔體通過波紋管與主真空腔體連接，所述掃描真空腔體固定于三角支架上；第四運動調節機構，所述第四運動調節機構固定于掃描真空腔體內部；探測器，所述探測器安裝于掃描真空腔體上方，位于成像系統的像平面處，用于記錄成像情況；光束位置監視器，所述光束位置監視器安裝在光束入站的入口處，用于監視光束入站情況以及光斑的相對位置；光束入射角監視器，設置于主真空腔體的一側，用于輔助系統裝調；真空閥，所述安裝于光束入站的入口處，用于在必要的時候將腔體與光源隔離，防止在顯微成像系統的安裝調試中對腔體真空的重復充放過程影響光源的工作環境。
8、優選的，還包括真空泵，所述真空泵固定于第一基座上，用于維持主真空腔體和掃描真空腔體中的真空度在10-7torr量級以下。
9、優選的，所述第一運動調節機構、第二運動調節機構、第三運動調節機構和第四運動調節機構均為壓電納米位移臺。
10、優選的，所述探測器為euv敏感相機，且為ccd、scmos以及mcp中的一種。
11、優選的，所述光束入射角監視器由開窗、yag晶體以及相機組成。
12、優選的，所述第一基座、第二基座和第三基座均為大理石基座。
13、與現有技術相比，本專利技術的有益效果是：
14、1、振動隔離方面：
15、(1)、將掃描真空腔體與主真空腔體分離的方式(氣室相連，但是使用波紋管避免剛性連接)，解決了在曝光過程中由于掃描引起的振動，影響成像質量；
16、(2)、主真空腔體與腔體內部的基座通過波紋管相連，避免剛性連接，解決了周圍環境因素可能對腔體產生共振效應，由剛性連接處將振動傳導至基座、第一運動調節機構、第二運動調節機構、第三運動調節機構和第四運動調節機構等結構，影響euv掩模顯微成像的穩定性；
17、(3)、使用激光干涉儀和電容傳感器監測物鏡系統與掩模版之間的相對運動，且與運動調節機構形成閉環反饋，在曝光期間將物鏡與掩模版之間的相對運動維持在納米量級。
18、2、光瞳監視器的設計方面，光瞳監視器放置在真空腔的外側的優勢包括：
19、(1)、對光瞳監視顯微鏡的要求降低(不需要在真空環境中工作)；
20、(2)、為顯微鏡預留足夠的調控空間，對顯微鏡的選型實現多樣化；
21、(3)、在真空腔內部需要配備適應真空腔的運動調節機構，且需要伴隨著掩模平臺一起運動；將光瞳監視器分離出來，一方面對運動調節機構降低了要求，另一方面對掩模平臺的運動調節機構降低了負載。
22、3、入射角監視器方面：
23、由于euv掩模檢測系統屬于反射式成像，因此在設計時需要考慮到避免入射光錐角與反射光錐角的重疊，此外，euv掩模版多層反射膜在不同的入射角的下反射率不同，尤其在一定入射角范圍時的大角度入射情況下，反射率會出現驟降，因此系統的主光線入射角與數值孔徑之間有一個權衡的過程，特定數值孔徑下，保證入射光錐與反射光錐不重疊，設定一個最小的主光線入射角，因此，對主光線入射角的控制和監視尤為重要。
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1.一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：
2.根據權利要求1所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述主真空組件(5)包括支撐板(9)、主真空腔體(10)、位移組件(4)、第一運動調節機構(11)、第二運動調節機構(12)、第三運動調節機構(13)、光學元件(14)、基板(15)、支撐架(16)和光瞳監測器(17)，所述支撐板(9)固定于安裝支架(3)上方，所述主真空腔體(10)固定于支撐板(9)上，所述支撐板(9)底部通過安裝支架(3)與第一基座(2)連接，所述基板(15)位于主真空腔體(10)的內部，且其底部通過位移組件(4)固定于第一基座(2)上，所述光瞳監測器(17)固定于支撐架(16)上，所述支撐架(16)與第一基座(2)連接，所述基板(15)的中部設有通孔，所述通孔用于光瞳監測器(17)對光束線進行有效的監視，所述第一運動調節機構(11)、第二運動調節機構(12)、第三運動調節機構(13)以及光學元件(14)均固定于基板(15)上。
3.根據權利要求2所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述位移組件(4)包括第三基座(18
4.根據權利要求3所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述固定支柱(20)設有三個，且三個固定支柱(20)呈“三角形”分布在第三基座(18)和支撐板(9)之間。
5.根據權利要求4所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述掃描真空組件(8)包括：
6.根據權利要求5所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：還包括真空泵(27)，所述真空泵(27)固定于第一基座(2)上，用于維持主真空腔體(10)和掃描真空腔體(21)中的真空度在10-7torr量級以下。
7.根據權利要求6所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述第一運動調節機構(11)、第二運動調節機構(12)、第三運動調節機構(13)和第四運動調節機構(22)均為壓電納米位移臺。
8.根據權利要求5所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述探測器(23)為EUV敏感相機，且為CCD、sCMOS以及MCP中的一種。
9.根據權利要求8所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述光束入射角監視器(25)由開窗、YAG晶體以及相機組成。
10.根據權利要求9所述的一種EUV掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述第一基座(2)、第二基座(6)和第三基座(18)均為大理石基座。
...【技術特征摘要】
1.一種euv掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：
2.根據權利要求1所述的一種euv掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述主真空組件(5)包括支撐板(9)、主真空腔體(10)、位移組件(4)、第一運動調節機構(11)、第二運動調節機構(12)、第三運動調節機構(13)、光學元件(14)、基板(15)、支撐架(16)和光瞳監測器(17)，所述支撐板(9)固定于安裝支架(3)上方，所述主真空腔體(10)固定于支撐板(9)上，所述支撐板(9)底部通過安裝支架(3)與第一基座(2)連接，所述基板(15)位于主真空腔體(10)的內部，且其底部通過位移組件(4)固定于第一基座(2)上，所述光瞳監測器(17)固定于支撐架(16)上，所述支撐架(16)與第一基座(2)連接，所述基板(15)的中部設有通孔，所述通孔用于光瞳監測器(17)對光束線進行有效的監視，所述第一運動調節機構(11)、第二運動調節機構(12)、第三運動調節機構(13)以及光學元件(14)均固定于基板(15)上。
3.根據權利要求2所述的一種euv掩模缺陷檢測裝置，其特征在于：所述位移組件(4)包括第三基座(18)、z向位移臺(19)和固定支柱(20)，所述第三基座(18)的底部通過z向位移臺(19)與第一基座(2)連接，所述固定支柱(20)的底部固定于第三基座(18)上，所述固定支柱(20)的頂部貫穿支撐板(9)、主真空腔體(10)與基板(15)...
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