【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體設(shè)備，尤其涉及一種真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置及半導(dǎo)體設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、半導(dǎo)體設(shè)備的真空腔室通常具有上蓋，并通過上蓋驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)上蓋開啟或關(guān)閉真空腔室頂部的開口，以便于對(duì)真空腔室的內(nèi)部進(jìn)行安裝和維護(hù)。在上蓋和真空腔室的開口之間還設(shè)置有密封圈，在關(guān)閉開口時(shí)，上蓋壓緊密封圈，可以使密封圈對(duì)上蓋和真空腔室之間的間隙進(jìn)行密封，從而保證真空腔室的密封性。
2、由于半導(dǎo)體設(shè)備需要定期維護(hù)和檢修，上蓋頻繁開啟和關(guān)閉會(huì)對(duì)密封圈造成磨損，導(dǎo)致密封圈失效，影響工藝環(huán)境的穩(wěn)定性。目前為了減輕上蓋頻繁開啟和關(guān)閉對(duì)密封圈的影響，利用氣缸頂升上蓋，再向上翻轉(zhuǎn)打開上蓋，這種開蓋操作的穩(wěn)定性差，且向上翻轉(zhuǎn)的動(dòng)作需要一個(gè)較大的操作半徑，導(dǎo)致半導(dǎo)體設(shè)備在生產(chǎn)線上占據(jù)較大的高度空間；而且在向側(cè)面翻轉(zhuǎn)的過程中，重力導(dǎo)致機(jī)械應(yīng)力集中在上蓋的某一位置，也會(huì)增加真空腔室變形和密封界面損壞的風(fēng)險(xiǎn)，特別是質(zhì)量較大的上蓋。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的在于提供一種真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置及半導(dǎo)體設(shè)備，有效減少了真空腔室和密封界面受到集中機(jī)械應(yīng)力和半導(dǎo)體設(shè)備對(duì)高度空間的占用，確保了上蓋在提升過程中的穩(wěn)定性和真空腔室的密封性。
2、為達(dá)此目的，本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案：
3、真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其包括：
4、提升機(jī)構(gòu)，包括提升氣缸和支撐組件，所述支撐組件包括支撐套筒和限位支撐柱，所述支撐套筒設(shè)于上蓋上，所述限位支撐柱可移動(dòng)地設(shè)于所述支撐套筒內(nèi)，所述限位支撐柱通過
5、轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括底座、轉(zhuǎn)動(dòng)臂和轉(zhuǎn)軸，所述底座設(shè)于真空腔室的周向，所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)于所述底座內(nèi)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)臂的一端與所述轉(zhuǎn)軸連接，另一端與所述提升氣缸的固定端連接；
6、鎖緊機(jī)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)軸遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)動(dòng)臂的一端連接有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有鎖緊孔，所述鎖緊機(jī)構(gòu)包括鎖緊導(dǎo)向柱，所述鎖緊導(dǎo)向柱能選擇性地與所述鎖緊孔配合，以鎖緊或解鎖所述轉(zhuǎn)軸。
7、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述支撐套筒包括緩存腔和穿孔，所述限位支撐柱包括限位柱和限位頭，所述限位頭設(shè)于所述緩存腔內(nèi)，能與所述緩存腔靠近所述穿孔的一端抵接；所述限位柱穿過所述穿孔與所述連接件連接，所述緩存腔的高度大于所述限位頭的高度。
8、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述提升機(jī)構(gòu)還包括導(dǎo)向組件，所述導(dǎo)向組件包括導(dǎo)向軸和導(dǎo)向套筒，所述導(dǎo)向軸設(shè)于所述連接件上，所述導(dǎo)向套筒設(shè)于所述提升氣缸的固定端，所述導(dǎo)向軸滑設(shè)于所述導(dǎo)向套筒內(nèi)。
9、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述真空腔室的周向還設(shè)置有定位機(jī)構(gòu)，所述定位機(jī)構(gòu)包括固定定位組件和可調(diào)定位組件，所述固定定位組件和所述可調(diào)定位組件間隔設(shè)于所述真空腔室的周向，所述固定定位組件和所述可調(diào)定位組件均用于定位所述上蓋封閉所述真空腔室時(shí)的位置；
10、所述固定定位組件包括固定定位柱和固定直線軸承座，所述固定定位柱和所述固定直線軸承座二者中，其中一個(gè)設(shè)于所述真空腔室的周向，另一個(gè)設(shè)于所述上蓋，所述固定直線軸承座的內(nèi)孔與所述固定定位柱配合；
11、所述可調(diào)定位組件包括可調(diào)定位柱和可調(diào)直線軸承座，所述可調(diào)直線軸承座轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述真空腔室的周向和所述上蓋二者中的其中一個(gè)，所述可調(diào)定位柱設(shè)于所述真空腔室的周向和所述上蓋二者中的另一個(gè)，所述可調(diào)直線軸承座轉(zhuǎn)動(dòng)，能使所述可調(diào)直線軸承座的內(nèi)孔與所述可調(diào)定位柱配合。
12、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述鎖緊機(jī)構(gòu)還包括鎖緊氣缸，所述鎖緊氣缸的驅(qū)動(dòng)端與所述鎖緊導(dǎo)向柱連接，用于驅(qū)動(dòng)所述鎖緊導(dǎo)向柱伸縮。
13、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述鎖緊機(jī)構(gòu)還包括限位組件，所述限位組件包括限位座和限位軸，所述限位座內(nèi)設(shè)置有限位孔，所述限位軸滑設(shè)于所述限位孔內(nèi)，所述限位軸的一端與所述鎖緊氣缸的驅(qū)動(dòng)端連接，另一端與所述鎖緊導(dǎo)向柱連接；
14、所述限位座的周向還設(shè)置有與所述限位孔連通的限位槽，所述限位槽沿平行于所述限位軸的軸線方向延伸，所述限位軸上設(shè)置有限位銷，所述限位銷與所述限位槽配合，以限制所述限位軸的移動(dòng)距離；
15、所述鎖緊孔包括第一鎖緊孔和第二鎖緊孔，所述第一鎖緊孔和所述第二鎖緊孔沿所述轉(zhuǎn)盤的周向間隔設(shè)置，所述第一鎖緊孔用于在所述上蓋位于所述真空腔室正上方時(shí)鎖緊所述轉(zhuǎn)軸；所述第二鎖緊孔用于在所述上蓋旋轉(zhuǎn)移出后鎖緊所述轉(zhuǎn)軸。
16、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述底座上還設(shè)置有限位塊，所述轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有緩沖塊，所述緩沖塊與所述限位塊抵接，用于限制所述上蓋的旋轉(zhuǎn)角度。
17、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述第二鎖緊孔設(shè)置有多個(gè)，不同所述第二鎖緊孔與所述第一鎖緊孔之間的夾角不同。
18、作為所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置的一個(gè)可選方案，所述轉(zhuǎn)軸與所述底座通過滾針軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述轉(zhuǎn)動(dòng)臂和所述轉(zhuǎn)盤均與所述底座通過推力球軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接。
19、半導(dǎo)體設(shè)備，其包括上蓋、真空腔室和如以上任一方案所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述上蓋封閉或打開所述真空腔室。
20、本專利技術(shù)的有益效果：
21、本專利技術(shù)提供的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，包括提升機(jī)構(gòu)、轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和鎖緊機(jī)構(gòu)，提升氣缸的驅(qū)動(dòng)端與上蓋連接，用于提升上蓋，以將上蓋與真空腔室的開口分離；轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過轉(zhuǎn)軸與提升氣缸的固定端連接，轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)能將上蓋從真空腔室的正上方移出，從而便于對(duì)真空腔室的內(nèi)部進(jìn)行安裝和維護(hù)。該上蓋驅(qū)動(dòng)裝置在打開上蓋時(shí)，上蓋先提升與真空腔室分離，再將上蓋在平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)移出，上蓋不會(huì)受到應(yīng)力集中，降低真空腔室變形和密封界面損壞的風(fēng)險(xiǎn)；同時(shí)高度方向的占用空間小，更利于半導(dǎo)體設(shè)備的緊湊化設(shè)計(jì)。且支撐組件的支撐套筒設(shè)于上蓋上，限位支撐柱通過連接件與提升氣缸的驅(qū)動(dòng)端連接，使得提升氣缸在提升上蓋時(shí)不會(huì)發(fā)生偏移和傾斜，保證上蓋提升的穩(wěn)定性。并通過鎖緊機(jī)構(gòu)在上蓋封閉開口后將上蓋的位置固定，確保上蓋不會(huì)出現(xiàn)意外開啟或移動(dòng)；同時(shí)限位支撐柱可移動(dòng)地設(shè)于支撐套筒內(nèi)，在上蓋下降時(shí)提供了一定的緩存距離，以保證上蓋與真空腔室的開口的密封性。
22、本專利技術(shù)提供的半導(dǎo)體設(shè)備，應(yīng)用上述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)上蓋打開或封閉真空腔室，有效減少了真空腔室和密封界面受到集中機(jī)械應(yīng)力和半導(dǎo)體設(shè)備對(duì)高度空間的占用；不僅保證了真空腔室的密封性；而且適用于在有限空間內(nèi)布置半導(dǎo)體設(shè)備，提高了半導(dǎo)體設(shè)備的緊湊性。
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1.真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述支撐套筒(121)包括緩存腔(1211)和穿孔(1212)，所述限位支撐柱(122)包括限位柱(1221)和限位頭(1222)，所述限位頭(1222)設(shè)于所述緩存腔(1211)內(nèi)，能與所述緩存腔(1211)靠近所述穿孔(1212)的一端抵接；所述限位柱(1221)穿過所述穿孔(1212)與所述連接件(13)連接，所述緩存腔(1211)的高度大于所述限位頭(1222)的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述提升機(jī)構(gòu)(1)還包括導(dǎo)向組件(14)，所述導(dǎo)向組件(14)包括導(dǎo)向軸(141)和導(dǎo)向套筒(142)，所述導(dǎo)向軸(141)設(shè)于所述連接件(13)上，所述導(dǎo)向套筒(142)設(shè)于所述提升氣缸(11)的固定端，所述導(dǎo)向軸(141)滑設(shè)于所述導(dǎo)向套筒(142)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述真空腔室(200)的周向還設(shè)置有定位機(jī)構(gòu)(3)，所述定位機(jī)構(gòu)(3)包括固定定位組件(
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述鎖緊機(jī)構(gòu)(4)還包括鎖緊氣缸(43)，所述鎖緊氣缸(43)的驅(qū)動(dòng)端與所述鎖緊導(dǎo)向柱(42)連接，用于驅(qū)動(dòng)所述鎖緊導(dǎo)向柱(42)伸縮。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述鎖緊機(jī)構(gòu)(4)還包括限位組件(44)，所述限位組件(44)包括限位座(441)和限位軸(442)，所述限位座(441)內(nèi)設(shè)置有限位孔(4411)，所述限位軸(442)滑設(shè)于所述限位孔(4411)內(nèi)，所述限位軸(442)的一端與所述鎖緊氣缸(43)的驅(qū)動(dòng)端連接，另一端與所述鎖緊導(dǎo)向柱(42)連接；
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述底座(21)上還設(shè)置有限位塊(211)，所述轉(zhuǎn)盤(41)上設(shè)置有緩沖塊(412)，所述緩沖塊(412)與所述限位塊(211)抵接，用于限制所述上蓋(100)的旋轉(zhuǎn)角度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述第二鎖緊孔(4112)設(shè)置有多個(gè)，不同所述第二鎖緊孔(4112)與所述第一鎖緊孔(4111)之間的夾角不同。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸(23)與所述底座(21)通過滾針軸承(24)轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述轉(zhuǎn)動(dòng)臂(22)和所述轉(zhuǎn)盤(41)均與所述底座(21)通過推力球軸承(25)轉(zhuǎn)動(dòng)連接。
10.半導(dǎo)體設(shè)備，其特征在于，包括上蓋(100)、真空腔室(200)和如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，所述真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述上蓋(100)封閉或打開所述真空腔室(200)。
...【技術(shù)特征摘要】
1.真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述支撐套筒(121)包括緩存腔(1211)和穿孔(1212)，所述限位支撐柱(122)包括限位柱(1221)和限位頭(1222)，所述限位頭(1222)設(shè)于所述緩存腔(1211)內(nèi)，能與所述緩存腔(1211)靠近所述穿孔(1212)的一端抵接；所述限位柱(1221)穿過所述穿孔(1212)與所述連接件(13)連接，所述緩存腔(1211)的高度大于所述限位頭(1222)的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述提升機(jī)構(gòu)(1)還包括導(dǎo)向組件(14)，所述導(dǎo)向組件(14)包括導(dǎo)向軸(141)和導(dǎo)向套筒(142)，所述導(dǎo)向軸(141)設(shè)于所述連接件(13)上，所述導(dǎo)向套筒(142)設(shè)于所述提升氣缸(11)的固定端，所述導(dǎo)向軸(141)滑設(shè)于所述導(dǎo)向套筒(142)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述真空腔室(200)的周向還設(shè)置有定位機(jī)構(gòu)(3)，所述定位機(jī)構(gòu)(3)包括固定定位組件(31)和可調(diào)定位組件(32)，所述固定定位組件(31)和所述可調(diào)定位組件(32)間隔設(shè)于所述真空腔室(200)的周向，所述固定定位組件(31)和所述可調(diào)定位組件(32)均用于定位所述上蓋(100)封閉所述真空腔室(200)時(shí)的位置；
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔室的上蓋驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述鎖緊機(jī)構(gòu)(4)還包括鎖緊氣缸(43)，所述...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：張惠賢，楊國(guó)際，王顯亮，孫文彬，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：無(wú)錫邑文微電子科技股份有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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