【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及光刻，特別涉及一種調焦調平系統及光刻機。
技術介紹
1、投影光刻機是一種將掩模圖形通過投影物鏡成像到如襯底表面、玻璃基板或者led上的設備。為了確保掩模圖形能夠準確曝光，需由調焦調平系統精確控制襯底表面位于指定位置。通過檢測曝光視場內襯底表面的高度與傾斜信息來判斷襯底表面是否正確調焦調平，根據測量結果進一步調整工件臺位置，使工件臺上的襯底表面位于投影物鏡的最佳焦平面處。調焦調平系統作為光刻機的核心分系統，是光刻機實現高質量曝光的關鍵。
2、目前，調焦調平系統中在多個位置采用了透射式的光學窗口元件，造成光束在光學系統的傳輸過程中攜帶無法消除的殘余色差，照射到硅片面上的多層膜組成的工藝層后，隨著膜系的材料和光刻膠厚度的不同，造成測量高度產生偏差值(offset)；以及，由于光刻膠涂膠厚度也存在小幅度的波動，造成測量高度的隨機波動值(variation)，影響了調焦調平系統的測量精度。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于提供一種調焦調平系統及光刻機，以提高調焦調平系統的測量精度。
2、為解決上述技術問題，本專利技術提供一種調焦調平系統，包括投影模塊和探測模塊；所述投影模塊和所述探測模塊中至少一個具有一體化腔體。
3、可選的，所述一體化腔體設置有第一通氣單元，并在一體化腔體內形成正壓。
4、可選的，所述投影模塊的一體化腔體內氣體循環方向與所述探測模塊的一體化腔體內的氣體循環方向相反。
5、可選的，所述投影模塊的一
6、可選的，所述投影模塊包括照明單元、第一光柵單元、第一成像單元和投影模塊殼體，所述投影模塊殼體具有所述投影模塊的一體化腔體，所述照明單元、所述第一光柵單元和所述第一成像單元位于所述投影模塊的一體化腔體內，所述第一通氣單元位于所述照明單元的輸入端且位于所述投影模塊殼體的外側；所述探測模塊包括第二成像單元、第二光柵、中繼單元、探測單元和探測模塊殼體，所述探測模塊殼體具有所述探測模塊的一體化腔體，所述第二成像單元、所述第二光柵、所述中繼單元和所述探測單元位于所述探測模塊的一體化腔體內，第二通氣單元位于所述探測單元遠離所述中繼單元的一側且位于所述探測模塊殼體的外側。
7、可選的，所述一體化腔體設置有第三通氣單元，所述通氣單元沿垂直于光軸方向進行通氣以產生氣簾。
8、可選的，所述第一成像單元的輸出端設置有第三通氣單元，所述第二成像單元的輸入端設置有第四通氣單元。
9、可選的，所述照明單元、所述第一光柵單元和所述第一成像單元通過法蘭盤連接，所述第二成像單元、所述第二光柵、所述中繼單元和所述探測單元通過法蘭盤連接。
10、可選的，通過所述第一通氣單元向所述投影模塊的一體化腔體輸入氣體，所述氣體依次流過所述照明單元、所述第一光柵單元和所述第一成像單元后向待測目標輸出，通過所述第二通氣單元向所述探測模塊的一體化腔體輸入氣體，所述氣體依次流過所述探測單元、所述中繼單元、所述第二光柵和所述第二成像單元后向所述待測目標輸出。
11、可選的，還包括光源模塊，所述光源模塊用于提供光束，所述光束經所述投影模塊投影成像至待測目標，經所述待測目標反射后被所述探測模塊接收。
12、基于同一專利技術構思，本專利技術還提供一種光刻機，包括上述任一項所述的調焦調平系統。
13、在本專利技術提供調焦調平系統及光刻機中，將投影模塊和探測模塊中至少一個配置為一體化腔體，可防止外界污染，并且避免了投影模塊和探測模塊中設置透射式的光學窗口元件引起的色差，從而解決調焦調平系統中透射式的光學窗口元件攜帶殘余色差影響測量精度的問題，提高了調焦調平系統的測量精度，也即能夠減少透射式元件的使用從而抑制色差，同時可以在無窗口片的情況下防止外部污染侵入系統。
14、進一步的，在投影模塊的輸入端設置第一通氣單元，以在探測模塊遠離所述投影模塊的一側設置第二通氣單元，通過對第一通氣單元和第二通氣單元通氣，以使所述投影模塊的一體化腔體和所述探測模塊的一體化腔體內形成正壓，進一步降低了外界污染。
15、進一步的，在投影模塊的輸出端設置有第三通氣單元，探測模塊的輸入端設置有第四通氣單元，第三通氣單元和第四通氣單元沿垂直于光軸方向進行通氣以產生氣簾，實現腔體內外的空氣隔離，有利于防止外部污染侵入腔體。
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1.一種調焦調平系統，包括投影模塊和探測模塊，其特征在于，所述投影模塊和所述探測模塊中至少一個具有一體化腔體。
2.根據權利要求1所述的調焦調平系統，其特征在于，所述一體化腔體設置有第一通氣單元，并在一體化腔體內形成正壓。
3.根據權利要求2所述的調焦調平系統，其特征在于，所述投影模塊的一體化腔體內氣體循環方向與所述探測模塊的一體化腔體內的氣體循環方向相反。
4.根據權利要求3所述的調焦調平系統，其特征在于，所述投影模塊的一體化腔體內氣體循環方向沿光路主光線方向，所述探測模塊的一體化腔體內的氣體循環方向為光路主光線的相反方向。
5.根據權利要求4所述的調焦調平系統，其特征在于，所述投影模塊包括照明單元、第一光柵單元、第一成像單元和投影模塊殼體，所述投影模塊殼體具有所述投影模塊的一體化腔體，所述照明單元、所述第一光柵單元和所述第一成像單元位于所述投影模塊的一體化腔體內，所述第一通氣單元位于所述照明單元的輸入端且位于所述投影模塊殼體的外側；所述探測模塊包括第二成像單元、第二光柵、中繼單元、探測單元和探測模塊殼體，所述探測模塊殼體具有所述
6.根據權利要求1所述的調焦調平系統，其特征在于，所述一體化腔體設置有第三通氣單元，所述通氣單元沿垂直于光軸方向進行通氣以產生氣簾。
7.根據權利要求5所述的調焦調平系統，其特征在于，所述第一成像單元的輸出端設置有第三通氣單元，所述第二成像單元的輸入端設置有第四通氣單元。
8.根據權利要求5所述的調焦調平系統，其特征在于，所述照明單元、所述第一光柵單元和所述第一成像單元通過法蘭盤連接，所述第二成像單元、所述第二光柵、所述中繼單元和所述探測單元通過法蘭盤連接。
9.根據權利要求5所述的調焦調平系統，其特征在于，通過所述第一通氣單元向所述投影模塊的一體化腔體輸入氣體，所述氣體依次流過所述照明單元、所述第一光柵單元和所述第一成像單元后向待測目標輸出；通過所述第二通氣單元向所述探測模塊的一體化腔體輸入氣體，所述氣體依次流過所述探測單元、所述中繼單元、所述第二光柵和所述第二成像單元后向所述待測目標輸出。
10.根據權利要求1所述的調焦調平系統，其特征在于，還包括光源模塊，所述光源模塊用于提供光束，所述光束經所述投影模塊投影成像至待測目標，經所述待測目標反射后被所述探測模塊接收。
11.一種光刻機，其特征在于，包括如權利要求1～10任一項所述的調焦調平系統。
...【技術特征摘要】
1.一種調焦調平系統，包括投影模塊和探測模塊，其特征在于，所述投影模塊和所述探測模塊中至少一個具有一體化腔體。
2.根據權利要求1所述的調焦調平系統，其特征在于，所述一體化腔體設置有第一通氣單元，并在一體化腔體內形成正壓。
3.根據權利要求2所述的調焦調平系統，其特征在于，所述投影模塊的一體化腔體內氣體循環方向與所述探測模塊的一體化腔體內的氣體循環方向相反。
4.根據權利要求3所述的調焦調平系統，其特征在于，所述投影模塊的一體化腔體內氣體循環方向沿光路主光線方向，所述探測模塊的一體化腔體內的氣體循環方向為光路主光線的相反方向。
5.根據權利要求4所述的調焦調平系統，其特征在于，所述投影模塊包括照明單元、第一光柵單元、第一成像單元和投影模塊殼體，所述投影模塊殼體具有所述投影模塊的一體化腔體，所述照明單元、所述第一光柵單元和所述第一成像單元位于所述投影模塊的一體化腔體內，所述第一通氣單元位于所述照明單元的輸入端且位于所述投影模塊殼體的外側；所述探測模塊包括第二成像單元、第二光柵、中繼單元、探測單元和探測模塊殼體，所述探測模塊殼體具有所述探測模塊的一體化腔體，所述第二成像單元、所述第二光柵、所述中繼單元和所述探測單元位于所述探測模塊的一體化腔體內，第二通氣單元位于所述探測單元遠離所述中繼單元的一側且位于...
【專利技術屬性】
技術研發人員：彭俊，張雨，王曉慶，
申請(專利權)人：上海微電子裝備集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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