【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)涉及粒子探測，特別涉及一種符合活度測量裝置。
技術(shù)介紹
1、相關(guān)技術(shù)中，α-γ符合裝置是一種抗干擾能力強(qiáng)的低本底α核素活度測量裝置，它能夠測量混合核素α樣品的活度，解決傳統(tǒng)α譜儀能譜嚴(yán)重重疊，γ譜儀康普頓坪湮沒低能γ射線的問題。
2、但受α粒子射程短(空氣中小于5cm)的限制，相關(guān)技術(shù)中的α-γ符合譜儀測量麻煩，其對(duì)測量源、測量設(shè)備、測量距離等要求嚴(yán)苛，存在樣品破壞、測量設(shè)備工藝高空間小、測量全過程耗時(shí)長、不能對(duì)復(fù)雜核素樣品直接快捷測量等問題。
3、如zns-hpge、pips-hpge組成的α-γ符合裝置，需用電鍍裝置制備電鍍薄源測量，制源耗時(shí)長、放射性污染風(fēng)險(xiǎn)高。探測器窗非常薄，通常微米級(jí)，設(shè)備制造工藝高。源與探測器間距離非常小(5mm-4cm)，測量空間受限，且pips探測器還需要抽真空。而對(duì)于液閃探測器，雖然采用發(fā)光方式探測，但需破壞樣品溶入閃爍液，造成無法處理的毒性閃爍液和放射性混合廢物。這些條件限制了對(duì)直接采樣的任意基質(zhì)和規(guī)格的α核素樣品的便捷及遠(yuǎn)距離測量。由此可見，相關(guān)技術(shù)中的測量裝置對(duì)α粒子的測量麻煩。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、有鑒于此，本申請(qǐng)實(shí)施例的主要目的在于提供一種測量便捷的符合活度測量裝置。
2、為達(dá)到上述目的，本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：
3、本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種符合活度測量裝置，包括：
4、發(fā)光腔室，所述發(fā)光腔室包括具有容納腔的透光腔體，以及填充在所述容納腔內(nèi)的工作氣體，所述容納腔用于
5、光探測組件，所述光探測組件設(shè)置在所述發(fā)光腔室外，且朝向所述α放射源，以用于探測所述工作氣體發(fā)射的熒光；
6、γ射線探測器，所述γ射線探測器設(shè)置在所述發(fā)光腔室外，以用于探測所述α放射源發(fā)射的γ射線。
7、一種實(shí)施方式中，所述光探測組件設(shè)置在所述透光腔體沿周向的一側(cè)，所述γ射線探測器設(shè)置在所述透光腔體的底側(cè)。
8、一種實(shí)施方式中，所述γ射線探測器與所述透光腔體底部貼合，在所述透光腔體與所述γ射線探測器的貼合處，所述透光腔體底部的至少部分區(qū)域?yàn)樘坷w維窗。
9、一種實(shí)施方式中，所述γ射線探測器靠近所述透光腔體一側(cè)的端面的中心軸線與所述透光腔體的中心軸線重合，且所述α放射源位于所述透光腔體的中心軸線上。
10、一種實(shí)施方式中，所述容納腔內(nèi)具有供α放射源安裝的安裝位置，所述安裝位置與所述透光腔體的內(nèi)壁之間的間距大于或等于所述α放射源的α粒子的射程。
11、一種實(shí)施方式中，所述符合活度測量裝置還包括集成數(shù)字化譜儀，所述集成數(shù)字化譜儀分別與所述光探測組件和所述γ射線探測器信號(hào)連接。
12、一種實(shí)施方式中，所述光探測組件包括光電倍增管和光過濾器，所述光過濾器設(shè)置在所述光電倍增管和所述發(fā)光腔室之間，且所述光電倍增管的中心、所述光過濾器的中心和所述發(fā)光腔室的中心同軸設(shè)置。
13、一種實(shí)施方式中，所述符合活度測量裝置還包括光反射組件，所述光反射組件設(shè)置在所述發(fā)光腔室外，且所述光反射組件的至少部分區(qū)域位于所述發(fā)光腔室背離所述光探測組件的一側(cè)，以使所述工作氣體發(fā)射的部分熒光朝所述光探測組件的一側(cè)反射。
14、一種實(shí)施方式中，所述透光腔體還具有氣流入口和氣流出口；
15、所述氣流入口和所述氣流出口分別位于所述α放射源相對(duì)兩側(cè)的所述透光腔體的內(nèi)壁上；和/或，
16、所述氣流出口位于所述氣流入口的頂側(cè)。
17、一種實(shí)施方式中，所述透光腔體至少部分區(qū)域?yàn)樽贤馊廴谑⒉Ａ?；?或，
18、所述發(fā)光腔室還包括紫外增透膜，所述透光腔體周側(cè)的內(nèi)表面和外表面的至少其中之一設(shè)置有所述紫外增透膜。
19、本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種符合活度測量裝置，符合活度測量裝置包括發(fā)光腔室、光探測組件和γ射線探測器。發(fā)光腔室包括具有容納腔的透光腔體，以及填充在容納腔內(nèi)的工作氣體，容納腔用于安裝α放射源，工作氣體能在α放射源的輻射下發(fā)射熒光。光探測組件設(shè)置在發(fā)光腔室外，且朝向α放射源，以用于探測工作氣體發(fā)射的熒光。由此，一方面，通過α放射源的α粒子引起工作氣體輻射發(fā)光，再通過光探測組件探測工作氣體發(fā)射的熒光，從而能夠便捷地實(shí)現(xiàn)對(duì)α粒子的探測，可以提高測量的便捷性。并且，由于工作氣體和α放射源均位于容納腔內(nèi)，因而能夠大大提高透光腔體內(nèi)的工作氣體的純度，可以起到節(jié)約工作氣體的效果，能夠較快進(jìn)入穩(wěn)定的測量狀態(tài)。同時(shí)，由于光探測組件是設(shè)置在發(fā)光腔室外，因而在向容納腔內(nèi)填充工作氣體的過程中，能夠降低對(duì)光探測組件造成損傷的風(fēng)險(xiǎn)，可以提高符合活度測量裝置的安全性能。另一方面，γ射線探測器設(shè)置在發(fā)光腔室外，以用于探測α放射源發(fā)射的γ射線。由此，能夠較好地實(shí)現(xiàn)對(duì)γ射線的測量，能夠便于進(jìn)行單γ能譜測量及α熒光-γ符合能譜測量，進(jìn)而能夠便于進(jìn)行α放射源的α核素甄別和活度測量。
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1.一種符合活度測量裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述光探測組件設(shè)置在所述透光腔體沿周向的一側(cè)，所述γ射線探測器設(shè)置在所述透光腔體的底側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述γ射線探測器與所述透光腔體底部貼合，在所述透光腔體與所述γ射線探測器的貼合處，所述透光腔體底部的至少部分區(qū)域?yàn)樘坷w維窗。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述γ射線探測器靠近所述透光腔體一側(cè)的端面的中心軸線與所述透光腔體的中心軸線重合，且所述α放射源位于所述透光腔體的中心軸線上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述容納腔內(nèi)具有供α放射源安裝的安裝位置，所述安裝位置與所述透光腔體的內(nèi)壁之間的間距大于或等于所述α放射源的α粒子的射程。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述符合活度測量裝置還包括集成數(shù)字化譜儀，所述集成數(shù)字化譜儀分別與所述光探測組件和所述γ射線探測器信號(hào)連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述符合活度測量裝置還包括光反射組件，所述光反射組件設(shè)置在所述發(fā)光腔室外，且所述光反射組件的至少部分區(qū)域位于所述發(fā)光腔室背離所述光探測組件的一側(cè)，以使所述工作氣體發(fā)射的部分熒光朝所述光探測組件的一側(cè)反射。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述透光腔體還具有氣流入口和氣流出口；
10.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述透光腔體至少部分區(qū)域?yàn)樽贤馊廴谑⒉Ａ?；?或，
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種符合活度測量裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述光探測組件設(shè)置在所述透光腔體沿周向的一側(cè)，所述γ射線探測器設(shè)置在所述透光腔體的底側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述γ射線探測器與所述透光腔體底部貼合，在所述透光腔體與所述γ射線探測器的貼合處，所述透光腔體底部的至少部分區(qū)域?yàn)樘坷w維窗。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述γ射線探測器靠近所述透光腔體一側(cè)的端面的中心軸線與所述透光腔體的中心軸線重合，且所述α放射源位于所述透光腔體的中心軸線上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述容納腔內(nèi)具有供α放射源安裝的安裝位置，所述安裝位置與所述透光腔體的內(nèi)壁之間的間距大于或等于所述α放射源的α粒子的射程。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的符合活度測量裝置，其特征在于，所述符合活度測量...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：郭曉清，徐利軍，朱保吉，朱亨，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：中國原子能科學(xué)研究院，
類型：發(fā)明
國別省市：
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