【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體制造，尤其涉及用于半導體制造的光源設備、系統及控制的方法、裝置。
技術介紹
1、隨著科學技術的發展，半導體產品受到的關注度越來越大，半導體產品制造的自動化程度也越來越高。視覺相機以及對應的光源設備在半導體制造過程中的應用也越來越多。
2、半導體晶圓濕法制程中，濕制程環境水氣、水霧會在光源設備上殘留，如進入光源設備內部，則會影響光源設備的電氣絕緣性能；而若流滯光源設備的護罩，定期后續湍流氣流風干，會留下水跡，而水跡降低光源光場亮度、均勻效果，進而影響視覺相機的工作穩定性。
技術實現思路
1、為了解決現有技術中存在的上述問題，本專利技術提供了一種用于半導體制造的光源設備、系統及控制的方法、裝置。本專利技術要解決的技術問題通過以下技術方案實現：
2、本專利技術實施例第一方面提供用于半導體制造的光源設備，其特征在于，包括：光源環座101、半導體光源組102、導流環103、導光罩104、潔凈氣管接頭107；
3、半導體光源組102安裝在光源環座101上；
4、光源環座101套裝在導流環103上，導光罩104環抱光源環座101后與導流環103的帽檐固定，使得導光罩104與光源環座101之間空間腔室形成一級靜壓腔；
5、潔凈氣管接頭107與導流環103連接，使得清潔氣體通過導流環103的導流孔進行入一級靜壓腔，對半導體光源組102對流散熱后溢出，對導光罩104進行清潔。
6、本專利技術實施例第二方面提供一
7、光源控制設備與光源設備中的半導體光源組102，出風設備與光源設備中的潔凈氣管接頭107連接；
8、控制設備，與出風設備、光源控制設備連接，被配置為在視覺相機和光源設備處于半導體濕法制程環境的情況下，控制出風設備向光源設備輸入清潔氣體，并根據通過視覺相機獲取到圖像，通過光源控制設備控制光源設備進行出光運行。
9、本專利技術實施例第三方面提供一種用于半導體制造控制的方法，包括：
10、在視覺相機和光源設備處于半導體濕法制程環境的情況下，控制出風設備向光源設備輸入清潔氣體；
11、獲取視覺相機采集到圖像，并根據圖像，通過光源控制設備控制光源設備進行出光運行。
12、本專利技術實施例第四方面提供一種用于半導體制造控制的裝置，該裝置包括處理器和存儲有程序指令的存儲器，所述處理器被配置為在執行所述程序指令時，執行上述所述用于半導體控制的方法。
13、本專利技術的有益效果：
14、光源設備中，半導體光源組安裝在光源環座上，不僅，導流環和導光罩一起形成了光源環座的防護罩，并且，通過連接導流環潔凈氣管接頭，清潔氣體可進入導光罩與光源環座之間一級靜壓腔，對半導體光源組對流散熱后溢出，對導光罩進行清潔，這樣，氣體可沿著導光罩外壁層流自潔凈清掃導光罩上的積垢、水氣及周邊水霧，實現導光罩自清潔，進而實現光源設備的自清潔，從而，提高了半導體晶圓濕法制程中視覺相機的工作穩定性，進一步提高了半導體制造的穩定性和精確性。
15、本專利技術的其它特征和優點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本專利技術而了解。本專利技術的目的和其他優點可通過在所寫的說明書、權利要求書、以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。
16、下面通過附圖和實施例，對本專利技術的技術方案做進一步的詳細描述。
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1.一種用于半導體制造的光源設備，其特征在于，包括：光源環座（101）、半導體光源組（102）、導流環（103）、導光罩（104）、潔凈氣管接頭（107）；
2.如權利要求1所述的光源設備，其特征在于，還包括：層流罩（106）；
3.如權利要求1或2所述的光源設備，其特征在于，還包括：漫反射導光環（105）；
4.一種用于半導體制造的系統，其特征在于，包括：控制設備，出風設備、光源控制設備，視覺相機，以及如權利要求1-3所述的光源設備；其中，
5.如權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括：安裝了視覺相機和光源設備的機械手臂；
6.如權利要求1所述的系統，其特征在于，出風設備包括：與潔凈氣管接頭（107）連接的比例伺服閥和保持微流閥；
7.如權利要求4-6中任一項所述的系統，其特征在于，控制設備包括：視覺工控機和可編程控制器PLC；
8.如權利要求7所述的系統，其特征在于，
9.一種用于半導體制造控制的方法，其特征在于，用于半導體制造的系統如權利要求4-8所示，該方法包括：
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