【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及芯片制造領域，特別涉及一種基于代價函數的違例消除方法、裝置、設備及介質。
技術介紹
1、芯片設計圖形在經過opc（optical?proximity?correction，光學鄰近修正）處理，且被發送到掩模生產廠之前，還需要對opc處理后的圖形進行掩模規則檢查（mask?rulecheck，mrc），以確保發送到掩模生產廠的圖形中不存在mrc違例。
2、現有技術一般是基于規則來消除mrc違例，具體做法是：先從opc處理后的圖形中查詢mrc違例，然后依次遍歷每一個mrc違例，并通過移動mrc違例的相關邊的方式來消除當前遍歷到的mrc違例，但是這種方式有可能在消除當前遍歷到的mrc違例的同時，產生新的mrc違例。尤其是當一條邊涉及多個mrc違例時，這多個mrc違例的解法之間可能相互沖突，從而導致最終有一個或多個mrc違例無法消除。因此，如何消除opc處理后的圖形中的所有違例是本領域技術人員有待解決的問題。
技術實現思路
1、有鑒于此，本專利技術的目的在于提供一種基于代價函數的違例消除方法、裝置、設備及介質，能夠通過搜索整個解空間以基于每組邊的代價值從若干組邊中確定違例，并在消除違例后重新搜索整個解空間直至消除所有違例，從而通過更大的搜索空間可以更容易地消除所有違例。其具體方案如下：
2、第一方面，本申請提供了一種基于代價函數的違例消除方法，包括：
3、獲取經光學鄰近修正后的芯片設計圖形，以得到當前芯片設計圖形；
4、遍歷所述
5、基于所述若干組邊分別所屬的掩模規則確定所述若干組邊分別對應的代價函數，以根據所述代價函數計算相應一組邊的代價值；
6、基于所述代價值從所述若干組邊中確定目標組邊；所述目標組邊為所述若干組邊中滿足預設違例條件的違例；
7、對所述目標組邊的位置進行移動以更新所述當前芯片設計圖形，并重新跳轉至所述遍歷所述當前芯片設計圖形中的每條邊的步驟，直至所述若干組邊均不滿足所述預設違例條件，以消除所述當前芯片設計圖形中的所有違例。
8、可選的，所述基于遍歷到的當前邊和周圍的若干侯選邊確定若干組邊之前，還包括：
9、基于預設搜索距離和遍歷到的當前邊，在所述當前芯片設計圖形中確定目標搜索范圍，并從所述目標搜索范圍中確定與所述當前邊的方向相反的若干侯選邊；
10、其中，所述當前芯片設計圖形中每條邊的方向均為基于預設時針旋轉方向確定的方向。
11、可選的，所述基于所述若干組邊分別所屬的掩模規則確定所述若干組邊分別對應的代價函數，包括：
12、基于所述若干組邊中的任意一組邊在同一平面上的投影是否存在重合，以及所述任意一組邊是否位于所述當前芯片設計圖形中的同一圖形，確定所述任意一組邊所屬的掩模規則，并基于所述任意一組邊所屬的掩模規則確定所述任意一組邊對應的代價函數；
13、其中，所述同一平面與所述任意一組邊相互平行。
14、可選的，所述基于所述若干組邊中的任意一組邊在同一平面上的投影是否存在重合，以及所述任意一組邊是否位于所述當前芯片設計圖形中的同一圖形，確定所述任意一組邊所屬的掩模規則，包括：
15、若所述任意一組邊位于所述當前芯片設計圖形中的同一圖形，則確定所述任意一組邊所屬的掩模規則為第一掩模規則；
16、若所述任意一組邊在同一平面上的投影存在重合，且所述任意一組邊不位于所述當前芯片設計圖形中的同一圖形，則確定所述任意一組邊所屬的掩模規則為第二掩模規則；
17、若所述任意一組邊在同一平面上的投影不存在重合，且所述任意一組邊不位于所述當前芯片設計圖形中的同一圖形，則確定所述任意一組邊所屬的掩模規則為第三掩模規則。
18、可選的，所述根據所述代價函數計算相應一組邊的代價值，包括：
19、在所述代價函數為與所述任意一組邊所屬的第一掩模規則對應的第一代價函數時，將所述任意一組邊對應的目標權重、第一預設距離閾值、所述任意一組邊包含的兩條邊之間的目標距離代入所述第一代價函數，以計算所述任意一組邊的代價值；
20、在所述代價函數為與所述任意一組邊所屬的第二掩模規則對應的第二代價函數時，將所述目標權重、第二預設距離閾值、所述目標距離代入所述第二代價函數，以計算所述任意一組邊的代價值；
21、在所述代價函數為與所述任意一組邊所屬的第三掩模規則對應的第三代價函數時，將所述目標權重、第三預設距離閾值、點間距代入所述第三代價函數，以計算所述任意一組邊的代價值；所述點間距為所述任意一組邊包含的不同邊上的兩個點之間的距離中的最小值；
22、其中，所述目標權重為基于所述任意一組邊包含的兩條邊分別對應的權重確定的權重；所述第一預設距離閾值、所述第二預設距離閾值和所述第三預設距離閾值為分別與所述第一掩模規則、所述第二掩模規則和所述第三掩模規則對應的閾值。
23、可選的，所述預設違例條件包括所述代價值不為零。
24、可選的，所述對所述目標組邊的位置進行移動，包括：
25、基于各所述目標組邊的代價值的總和，確定各所述目標組邊中每條邊的移動方向和移動量，以對所述目標組邊中的每條邊的位置進行移動。
26、第二方面，本申請提供了一種基于代價函數的違例消除裝置，包括：
27、圖形獲取模塊，用于獲取經光學鄰近修正后的芯片設計圖形，以得到當前芯片設計圖形；
28、遍歷模塊，用于遍歷所述當前芯片設計圖形中的每條邊，并基于遍歷到的當前邊和周圍的若干侯選邊確定若干組邊；每組邊均包括所述當前邊和一條所述候選邊；
29、代價值計算模塊，用于基于所述若干組邊分別所屬的掩模規則確定所述若干組邊分別對應的代價函數，以根據所述代價函數計算相應一組邊的代價值；
30、違例確定模塊，用于基于所述代價值從所述若干組邊中確定目標組邊；所述目標組邊為所述若干組邊中滿足預設違例條件的違例；
31、違例消除模塊，用于對所述目標組邊的位置進行移動以更新所述當前芯片設計圖形，并重新跳轉至所述遍歷所述當前芯片設計圖形中的每條邊的步驟，直至所述若干組邊均不滿足所述預設違例條件，以消除所述當前芯片設計圖形中的所有違例。
32、第三方面，本申請提供了一種電子設備，包括：
33、存儲器，用于保存計算機程序；
34、處理器，用于執行所述計算機程序以實現前述的基于代價函數的違例消除方法。
35、第四方面，本申請提供了一種計算機可讀存儲介質，用于保存計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時實現前述的基于代價函數的違例消除方法。
36、本申請中，獲取經光學鄰近修正后的芯片設計圖形，以得到當前芯片設計圖形；遍歷當前芯片設計圖形中的每條邊，并基于遍歷到的當前邊和周圍的若本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述基于遍歷到的當前邊和周圍的若干侯選邊確定若干組邊之前，還包括：
3.根據權利要求2所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述基于所述若干組邊分別所屬的掩模規則確定所述若干組邊分別對應的代價函數，包括：
4.根據權利要求3所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述基于所述若干組邊中的任意一組邊在同一平面上的投影是否存在重合，以及所述任意一組邊是否位于所述當前芯片設計圖形中的同一圖形，確定所述任意一組邊所屬的掩模規則，包括：
5.根據權利要求4所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述根據所述代價函數計算相應一組邊的代價值，包括：
6.根據權利要求1所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述預設違例條件包括所述代價值不為零。
7.根據權利要求1至6任一項所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述對所述目標組邊的位置進行移動，包括：
8.一種
9.一種電子設備，其特征在于，包括：
10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，用于保存計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1至7任一項所述的基于代價函數的違例消除方法。
...【技術特征摘要】
1.一種基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述基于遍歷到的當前邊和周圍的若干侯選邊確定若干組邊之前，還包括：
3.根據權利要求2所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述基于所述若干組邊分別所屬的掩模規則確定所述若干組邊分別對應的代價函數，包括：
4.根據權利要求3所述的基于代價函數的違例消除方法，其特征在于，所述基于所述若干組邊中的任意一組邊在同一平面上的投影是否存在重合，以及所述任意一組邊是否位于所述當前芯片設計圖形中的同一圖形，確定所述任意一組邊所屬的掩模規則，包括：
5.根據權利要...
【專利技術屬性】
技術研發人員：請求不公布姓名，請求不公布姓名，
申請(專利權)人：華芯程杭州科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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